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多晶硅工藝流程簡(jiǎn)述 (改良西門子法及氫化) 氫氣制備與凈化工序 在電解槽內(nèi)經(jīng)電解脫鹽水制得氫氣。電解制得的氫氣經(jīng)過(guò)冷 卻、分離液體后,進(jìn)入除氧器,在催化劑的作用下,氫氣中的微量氧 氣與氫氣反應(yīng)生成水而被除去。 除氧后的氫氣通過(guò)一組吸附干燥器而 被干燥。凈化干燥后的氫氣送入氫氣貯罐,然后送往氯化氫合成、三 氯氫硅氫還原、四氯化硅氫化工序。 電解制得的氧氣經(jīng)冷卻、分離液體后,送入氧氣貯罐。出氧氣 貯罐的氧氣送去裝瓶。 氣液分離器排放廢吸附劑、 氫氣脫氧器有廢脫氧催化劑排放、 干 燥器有廢吸附劑排放,均供貨商回收再利用。 氯化氫合成工序 從氫氣制備與凈化工序來(lái)的氫氣和從合成氣干法分離工序返 回的循環(huán)氫氣分別進(jìn)入本工序氫氣緩沖罐并在罐內(nèi)混合。 出氫氣緩沖 罐的氫氣引入氯化氫合成爐底部的燃燒槍。 從液氯汽化工序來(lái)的氯氣 經(jīng)氯氣緩沖罐, 也引入氯化氫合成爐的底部的燃燒槍。 氫氣與氯氣的 混合氣體在燃燒
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