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更新時間：2024.12.28
X射線散射法測量超光滑平面

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介紹了掠入射X射線散射法(GXRS法)測量超光滑表面的原理及基于商業(yè)用X射線衍射儀改造而成的實(shí)驗(yàn)裝置。以3片不同粗糙度的硅片作為實(shí)驗(yàn)樣品,分別應(yīng)用一級矢量微擾理論和改進(jìn)的Harvey-Shack理論對其散射分布進(jìn)行處理,所得結(jié)果與原子力顯微鏡測量結(jié)果基本相符。分析了探測器接收狹縫的寬度和入射光發(fā)散度對實(shí)驗(yàn)結(jié)果的影響,隨著探測器接收狹縫寬度和入射光發(fā)散度的減小,測量誤差呈指數(shù)迅速減小。在所測量的空間頻率范圍內(nèi),功率譜密度(PSD)函數(shù)的誤差隨頻率的增加而減小。

超光滑超精密玻璃拋光新技術(shù)

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超光滑拋光玻璃表面粗糙度為納米量級,超精密拋光加工精度達(dá)到分子級或原子級。超光滑和超精密拋光新技術(shù)包括數(shù)控小工具拋光、應(yīng)力盤拋光、浴法拋光、磁流變拋光、離子束拋光、電子束拋光、激光拋光和等離子輔助拋光等。本文重點(diǎn)闡述采用20KeV、1×1014. ions/cm2和1×1016. ions/cm2的N+離子對鈉鈣硅酸鹽和鉛玻璃進(jìn)行離子束拋光的原理與工藝,拋光后粗糙度僅為幾十納米。采用高束流脈沖電子束拋光時,當(dāng)束流超過1012 W/cm2時,玻璃表面Griffith裂紋擴(kuò)張,粗糙度反而增加,必須嚴(yán)格控制拋光時電子束能量。

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