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更新時(shí)間:2024.12.28
甲基三甲氧基硅烷對(duì)砂巖石刻封護(hù)性能的實(shí)驗(yàn)室研究

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為了解砂巖石刻用甲基三甲氧基硅烷材料封護(hù)處理后的各項(xiàng)性能,選擇四川省內(nèi)風(fēng)化較嚴(yán)重的摩崖造像區(qū)的砂巖作為實(shí)驗(yàn)樣品,采用浸水、酸霧、鹽老化、光老化、循環(huán)破壞等方法對(duì)材料的憎水性、透氣性、耐老化性能進(jìn)行實(shí)驗(yàn)測(cè)試。試驗(yàn)表明,砂巖樣品用甲基三甲氧基硅烷封護(hù)處理后其憎水性、耐老化性都有較大的提高,透氣性沒(méi)有太大的改變,半涂樣品經(jīng)循環(huán)破壞處理后,表面出現(xiàn)開(kāi)裂現(xiàn)象。通過(guò)研究表明,甲基三甲氧基硅烷材料處理砂巖后其憎水性和耐老化性都較好,但循環(huán)破壞實(shí)驗(yàn)提示,甲基三甲氧基硅烷材料處理石刻可能對(duì)其表面產(chǎn)生負(fù)作用,在石刻保護(hù)中應(yīng)慎重使用。

聚二甲基硅氧烷/玻璃微流控芯片永久性粘合方法及其微通道表面改性研究及其應(yīng)用

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近年來(lái),聚二甲基硅氧烷[Poly(dimethylsilloxane),PDMS]基質(zhì)微流控芯片因其透光性能好,價(jià)格便宜,加工容易,適合大規(guī)模生產(chǎn),成為微全分析系統(tǒng)(Micro total analysis system,μ-TAS)發(fā)展的一個(gè)熱點(diǎn)[1].

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