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采用隱形浮雕陶瓷裝飾技術(shù)制備具有浮雕幻影的釉面磚。在不對(duì)現(xiàn)有釉面磚配方及生產(chǎn)工藝參數(shù)做出重大改變的基礎(chǔ)上,探討了特殊花釉配方組成、印油配方組成和印油與特殊花釉釉料配比等工藝因素對(duì)釉面磚裝飾效果的影響,通過(guò)相關(guān)工藝參數(shù)優(yōu)化,達(dá)到浮雕幻影的特殊裝飾效果。
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在有限景深的光學(xué)系統(tǒng)中 ,由于發(fā)光平面具有縱深方向的分布而不能清晰地成像于一個(gè)像面上 ;X光激發(fā)的發(fā)光玻璃成像系統(tǒng)具有這種性質(zhì) 針對(duì)不同發(fā)光平面的發(fā)光強(qiáng)度呈現(xiàn)指數(shù)衰減規(guī)律的發(fā)光玻璃的成像問(wèn)題 ,用幾何光學(xué)原理模擬了成像清晰度的變化規(guī)律 ,為這類成像系統(tǒng)的調(diào)節(jié)提供了依據(jù) ,并獲得了與理論推導(dǎo)的成像清晰度的變化規(guī)律相符的實(shí)驗(yàn)結(jié)果
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