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更新時(shí)間:2024.12.28
數(shù)控刻字機(jī)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及機(jī)械電子學(xué)設(shè)計(jì)探討

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電子設(shè)備結(jié)構(gòu)的機(jī)械電子學(xué)設(shè)計(jì)是機(jī)械電子學(xué)一個(gè)重要的方面,是有機(jī)將機(jī)、電、磁、聲、光、熱、化學(xué)、生物、軟件等多門全新的獨(dú)立交叉的學(xué)科結(jié)合起來(比機(jī)電一體化含義更廣)應(yīng)用于電子設(shè)備的綜合設(shè)計(jì)技術(shù),是完善電子機(jī)械產(chǎn)品的重要手段,進(jìn)口刻字機(jī)品牌如ROLAND,MIMAKI等就是運(yùn)用機(jī)械電子學(xué)設(shè)計(jì)的范例。

相位掩模法紅外飛秒激光刻寫光纖光柵技術(shù)

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摻Tm3+光纖激光器在工業(yè)、醫(yī)療、科技及軍事領(lǐng)域具有重要應(yīng)用前景。光纖布拉格光柵(FBG)是構(gòu)成光纖激光器的重要元件。但摻Tm3+光纖不具備光敏性,利用紫外脈沖激光很難在其中刻寫FBG,即使采用增敏技術(shù)提高其光敏性,獲得的FBG的折射率調(diào)制量也很小,尚不能滿足應(yīng)用要求,阻礙了摻Tm3+光纖激光器全光纖化的發(fā)展。以相位掩模法的基本原理為基礎(chǔ),從理論上分析了以飛秒激光為刻寫光源的技術(shù)要點(diǎn),總結(jié)出與傳統(tǒng)紫外激光刻寫技術(shù)之間的差異及需要注意的問題。建立了飛秒激光相位掩模法刻寫光纖光柵的實(shí)驗(yàn)系統(tǒng),利用飛秒激光相位掩模法在非光敏光纖上刻寫B(tài)ragg光柵,在非光敏摻Tm3+硅基光纖上獲得了衍射階次為二的光纖Bragg光柵,并給出了顯微鏡下觀察到的光柵結(jié)構(gòu)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果證明:飛秒激光可以將FBG刻寫入非光敏性硅基光纖,并且具有成柵時(shí)間短的優(yōu)點(diǎn)。

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