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更新時間：2025.01.04
金屬網(wǎng)柵結構參數(shù)設計與制作

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研究了金屬網(wǎng)柵結構參數(shù)對其光電特性的影響,并通過工藝實驗結果測試,驗證了分析計算成果。實驗采用清洗、涂膠、光刻、顯影、鍍膜、去膠、電鍍工藝流程,并用激光直寫曝光代替掩模投影曝光。在MgF2 基底上制作出線寬7μm,周期400μm的金屬網(wǎng)柵,在3~5μm波段上透過率大于 75%(基底透過率為83%)、電磁屏蔽效率大于8 dB。結果表明:采用等效電路模型分析雷達波垂直入射時金屬網(wǎng)柵屏蔽效率;用等效膜理論分析斜入射對屏蔽效率的影響是有效和簡便的,通過遮攔比分析中心零級能量變化來說明金屬網(wǎng)柵對紅外透過的影響;金屬網(wǎng)柵的光電特性的矛盾可以通過減小網(wǎng)柵線寬與周期的比值來解決,網(wǎng)柵周期與屏蔽波段密切相關,因此減小線寬對于滿足其光電性能要求更為重要。

金屬網(wǎng)柵結構參數(shù)設計與制作

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