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在平面型光學(xué)元件的表面真空蒸鍍光學(xué)薄膜時,一般地是將待鍍元件置于高真空室的載物盤上進行的。如果有特殊要求時(如蒸鍍楔形膜),則將待鍍元件傾斜地夾持在真空室內(nèi)進行蒸鍍。而對圓柱形光學(xué)零件或其他圓柱形物體表面蒸鍍光學(xué)薄膜時,用上述方法就難以實現(xiàn)了。例如,欲在一個圓柱形物體外圓柱面蒸鍍薄膜時,若采取使之與鍍膜機工作臺臺面平行放置的方式,要進行三次蒸鍍,尚不能保證膜層的均勻性,因為只有每次使它沿軸線翻轉(zhuǎn)120°位置才能使整個外圓柱面都能蒸鍍上光學(xué)薄膜。假如傾斜地將它夾持在真空室內(nèi)時,則至少應(yīng)蒸鍍六次才能使膜層較均勻,因為要消除高、低差造成的不均勻結(jié)果,必須將圓柱體二端交換位置蒸鍍。這樣顯然是復(fù)雜的,而且不
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