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MEMS器件、保護電路、空間太陽電池等的制作需要使用硅雙面拋光片,并且要求拋光片的厚度很薄,傳統(tǒng)的硅拋光片加工工藝已經(jīng)不能滿足這一要求。介紹了一種用于超薄硅單晶雙面拋光片加工的拋光工藝方法。通過對硅片拋光機理[1]、拋光方式、拋光工藝的研究和對拋光工藝試驗結果的分析,解決了超薄硅單晶雙面拋光片在加工過程中碎片率高、拋光片背面表面質量不易控制的技術難題,研制出了高質量的超薄硅單晶雙面拋光片。
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反 光 漆 技 術 指 導 反光漆是選用美國反光體、芳香烷烴為溶劑、丙烯酸樹脂為連接料制成，輕易上漆、耐 久、可洗、快干，只需要一層足夠達到反光效果。為使反光漆達到最好的反光效果，請嚴格 按照本公司的操作流程及方法來操作，具體操作事項如下： 1) 涂前要認真清潔需要施工的表面，確認表面干燥無油污及臟物，待底材干燥后再做面漆。 2) 開啟罐蓋后加入 10%左右的稀釋劑，至少要用 5-10分鐘攪拌漆體，若有特殊要求請先咨 詢我司技術人員，以免影響反光效果。 3) 底漆噴涂：白底漆：稀釋劑＝ 1：0.5-0.8（噴涂白底漆后的反光漆比不噴涂白底漆的反光 強度高 20%左右，如果要求高的可以選擇噴白底漆， 如果要求不高的也可以不噴白底漆） 4) 面漆涂刷：充分攪拌稀釋均勻后，選用柔軟的羊毛刷，用毛刷涂刷過程中，并不時攪動 漆體以防沉淀，羊毛刷蘸漆體由罐底向上蘸，羊毛刷與被涂面斜角 45度角，成“一
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