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更新時(shí)間:2025.03.08
碳化硅專利分析-單晶,晶片和外延片制造研究報(bào)告

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北京佐思信息咨詢有限責(zé)任公司 Beijing OKOKOK Information Consulting Co.,Ltd 北京佐思 www.okokok.com.cn 地址:北京市海淀區(qū)長遠(yuǎn)天地 C座 3-502 #, 100080 碳化硅專利分析 -單晶,晶片和外延片制造研究報(bào)告 ——SiC Patent Analysis single crystal, wafer and epiwafer manufacturing 1772 patent families to support a $80M business in 2012 ? 1772 PATENT FAMILIES TO SUPPORT A $80M BUSINESS IN 2012? Despite a cumulative raw wafers + epi wafers market that won’t exceed

單面研磨拋光晶片研磨一致性研究

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針對(duì)LED襯底材料藍(lán)寶石在單面研磨拋過程存在的研磨一致性問題.從運(yùn)動(dòng)學(xué)理論出發(fā),計(jì)算陶瓷盤上任意點(diǎn)的絕對(duì)運(yùn)動(dòng)方程;通過計(jì)算公式來判斷任意點(diǎn)的研磨速度;揭示了研磨(拋光)盤和研磨(拋光)頭角速度的變化對(duì)藍(lán)寶石晶片研磨一致性的影響.

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