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通過對現(xiàn)有幾種瓷磚拋光機(jī)的磨拋過程進(jìn)行分析,建立了拋光運(yùn)動數(shù)學(xué)模型,進(jìn)行軌跡仿真,比較了在不同運(yùn)動狀態(tài)下磨紋的均勻性和磨削面積的大小,結(jié)果表明,行星端面磨拋光機(jī)在提高磨削效率和磨紋均勻性方面與其他幾種拋光機(jī)相比效果更為理想。
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