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伴隨著國內(nèi)市場競爭的日趨激烈,常規(guī)的MPW(多項目晶圓)布局也不能滿足客戶的要求,同時也不能最大限度地降低設計公司的研發(fā)成本,也不利于國內(nèi)foundry廠市場的開拓。鑒于此,文章著重提出了利用光刻機擋板把光罩進行區(qū)域劃分,在不增加流片和滿足客戶要求的前提下,使光罩得到最大限度的利用,降低了客戶的流片費用。通過在15cm片上流片驗證,更加突出了此優(yōu)化光罩布局的方法在研發(fā)成本和滿足客戶要求等方面的優(yōu)越性,因而這種布局對我國集成電路的發(fā)展和新產(chǎn)品的研發(fā)工作,特別是對國內(nèi)中小企業(yè)的成長提供了有力的支持,也為foundry廠贏得市場提供了重要的手段。
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