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更新時(shí)間:2025.01.04
微光探測(cè)裝置自成暗室設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)

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針對(duì)現(xiàn)有微光檢測(cè)系統(tǒng)體積大、避光效果差等不足,對(duì)微光探測(cè)裝置進(jìn)行全新設(shè)計(jì)。采用反應(yīng)杯與光探測(cè)頭自成暗室,減少暗室進(jìn)出機(jī)構(gòu),提高避光效果;采用斬波法扣除本底計(jì)數(shù),從而消除背景光引起的測(cè)量誤差。性能測(cè)試結(jié)果顯示:該微光探測(cè)裝置的光子本底計(jì)數(shù)小于等于200光子/s,測(cè)光上限平均值達(dá)到1.1×107光子/s,變異系數(shù)(CV)小于等于3%,達(dá)到目前現(xiàn)有的微光檢測(cè)系統(tǒng)的技術(shù)指標(biāo)要求,可用于化學(xué)發(fā)光免疫分析儀等需要進(jìn)行微光信號(hào)檢測(cè)的精密儀器開(kāi)發(fā),對(duì)基于微光探測(cè)技術(shù)的儀器行業(yè)的發(fā)展具有重要意義。

故障電弧探測(cè)裝置宣講講義

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