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更新時間:2025.03.08
高光潔度玻璃基片的表面散射和體散射測量

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提出了一種利用總積分散射(TIS)測量K9玻璃基片表面散射和體散射的實驗方法。首先采用磁控濺射技術(shù)在基片表面沉積厚度為幾十nm的金屬Ag薄膜,然后將基片的表面和體區(qū)分開考慮,通過TIS測得了基片上下表面的均方根粗糙度,進(jìn)而求得基片的總散射和表面散射,最后計算得到了體散射。分別利用TIS和原子力顯微鏡(AFM)測量了3個樣品上表面所鍍Ag膜的均方根粗糙度,兩種方法所得的均方根粗糙度的數(shù)值相差不明顯,差值分別為0.08,0.11和0.09 nm,表明TIS和AFM的測量結(jié)果相一致。利用該方法測得3塊K9玻璃基片的總散射分別為6.06×10-4,5.84×10-4和6.48×10-4,表面散射介于1.25×10-4~1.56×10-4之間,由此計算得到的體散射分別為3.10×10-4,3.30×10-4和3.61×10-4。

基于多模光纖的動態(tài)光散射粒徑測量研究

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介紹了一種用多模光纖構(gòu)造的動態(tài)光散射粒徑測量實驗系統(tǒng),系統(tǒng)中沒有對接收光纖的孔徑角加任何限制措施。分別用單分散,多分散和不同濃度的標(biāo)準(zhǔn)聚苯乙烯乳膠球懸浮液檢測了該系統(tǒng)的適用性。結(jié)果表明,該系統(tǒng)可準(zhǔn)確地測量濃度(體積分?jǐn)?shù))達(dá)5%的聚苯乙烯乳膠球溶液中懸浮顆粒的粒徑分布。

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