蘇州大光耐火科技有限公司

2020年7月，蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司入選“2019江蘇百強創(chuàng)新企業(yè)榜單”。

蘇州恩光凈化科技有限公司位于蘇州吳江金家壩金長路849號

2001年底，蘇州蘇大維格數(shù)碼光學(xué)有限公司SVG DigitOptics在蘇州工業(yè)園區(qū)國際科技園注冊。2002年5月，正式投入運營。

成立初期，致力于“數(shù)碼激光全息制版系統(tǒng)HoloMaker series”研發(fā)、激光全息制版技術(shù)服務(wù)、光學(xué)防偽解決方案、產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用。其中，HoloMaker成為中國內(nèi)地、中國香港地區(qū)及韓國、印度等的激光全息行業(yè)關(guān)鍵設(shè)備，成功促進了中國光學(xué)防偽與包裝行業(yè)技術(shù)進步。為此，02年初，獲中華人民共和國科技進步二等獎，這是中國激光全息行業(yè)頒發(fā)最高獎項。公司創(chuàng)始人、董事長是中國光學(xué)全息工程領(lǐng)域的著名專家，兼任中國光學(xué)學(xué)會光信息處理與全息專業(yè)委員會主任。

2003-2004年，研制成功“定向光變色膜（OVCF）”原版制造技術(shù)，成功應(yīng)用于我國第二代身份證的物理視讀膜。同年，研發(fā)成功大型納米壓印設(shè)備（平壓平和卷對卷）。

2005年，自主研發(fā)并建立了中國首條“定位鐳射轉(zhuǎn)移材料生產(chǎn)線”，開創(chuàng)了“定位鐳射印刷轉(zhuǎn)移紙張”在煙草印刷包裝上的應(yīng)用先河，“定位激光轉(zhuǎn)移紙張”獲得中國專利授權(quán)。同年，公司獲江蘇省高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定，通過ISO9001質(zhì)量管理體系認(rèn)證。取得了一批激光光刻領(lǐng)域的發(fā)明專利權(quán)。

2006年，成立“江蘇省數(shù)碼激光成像與顯示工程研究中心”（科技廳、財政廳批準(zhǔn)），主要致力于超精密激光圖形關(guān)鍵制造技術(shù)（光刻、直寫、刻蝕）和裝備、新型平板顯示背光模組關(guān)鍵材料、光學(xué)防偽解決方案、手機導(dǎo)光薄膜等制造技術(shù)的研發(fā)與應(yīng)用。

2006年，研制成功“寬幅智能激光SLM光刻設(shè)備工程樣機并投入應(yīng)用，首家實現(xiàn)了大幅面、高速度的亞微米全息圖像的快速光刻，多項中國發(fā)明專利授權(quán)。企業(yè)獲“蘇州工業(yè)園區(qū)十佳科技創(chuàng)新小巨人”、“2004-2006年度蘇州工業(yè)園區(qū)民營科技創(chuàng)新十強企業(yè)”稱號。

2007年，建立蘇州工業(yè)園區(qū)博士后工作站維格分站。建立鐳射轉(zhuǎn)移膜產(chǎn)能；研制成功HoloScanV紫外激光干涉光刻設(shè)備，這是國際上領(lǐng)先水平的亞微米激光直寫系統(tǒng)。蘇大維格具有了國際一流的超精密圖形的設(shè)計與制造能力。

2007年，研制成功“DMD并行激光光刻系統(tǒng)MicroLab”，具有超過10,000dpi的圖形分辨率，主要應(yīng)用于精密圖形設(shè)計制造（導(dǎo)光結(jié)構(gòu)、亞微米圖形），研發(fā)成功手機導(dǎo)光薄膜（LGF），并成立蘇州維旺科技有限公司，專注于手機及平板顯示光學(xué)材料研發(fā)與制造。

2008年8月，蘇大維格數(shù)碼光學(xué)有限公司改制成為“蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司”SVG Optronics，將業(yè)務(wù)領(lǐng)域擴大到“鐳射轉(zhuǎn)移材料”、“平板顯示材料”、“高端光學(xué)防偽解決方案”和“先進制造裝備”（超精密圖形激光光刻設(shè)備，納米壓印工藝設(shè)備、LIGA技術(shù)應(yīng)用等”。配合公安部相關(guān)研究院所研發(fā)DMD雙通道光變色膜，在我國“新駕駛證”“機動車行駛證”上全面應(yīng)用。

2008年9月，蘇大維格的“寬幅智能激光SLM光刻系統(tǒng)與應(yīng)用”榮獲江蘇省科技進步一等獎（全省第一名）。

2008年11月，蘇大維格入選“蘇州市50家首批科技創(chuàng)新試點企業(yè)”。研發(fā)成功“導(dǎo)光薄膜”并應(yīng)用于手機keypad。配合國家郵政印制局推出首套采用“定位鐳射圖形”29屆北京奧運會開幕式紀(jì)念郵票等（Stamp in commenoration of Openning ceremony of XXIX Beijing Olympic）。

2009年3月，HoloMakerIII-b出口日本；研制成功“無縫彩虹膜壓印設(shè)備和彩虹膜材料；大型無縫鐳射薄膜壓印設(shè)備出口印尼等國。

2009年4月，“激光直寫設(shè)備iGrapher200”投入應(yīng)用，具有350nm以上圖形直寫能力，支持復(fù)雜微結(jié)構(gòu)圖形制造。

2009年5月，研制成功“微透鏡陣列光學(xué)薄膜”，建立了微透鏡陣列的批量制造能力。這是中國第一個集微透鏡陣列薄膜研發(fā)與制造能力的單位。研制成功具有突破意義的“ActiveMatrix”動態(tài)圖形光學(xué)防偽薄膜，擬用于高層（公安、金融等）防偽領(lǐng)域。

2009年7月，蘇大維格的“微鏡Fresnel技術(shù)”應(yīng)用于茅臺“白金酒”防偽包裝。

2010年5月，研制成功雙面UV微納結(jié)構(gòu)動態(tài)光學(xué)放大膜。

2010年10月，研制成功超大幅面（1500mmx1300mm）激光圖形化設(shè)備，填補了行業(yè)空白。