中文名 | TFT-LCD關(guān)鍵材料及技術(shù)國(guó)家工程實(shí)驗(yàn)室 | 時(shí)????間 | 2008年11月 |
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包括:IGZO薄膜晶體管器件、藍(lán)相液晶材料和器件、新型光子晶體結(jié)構(gòu)導(dǎo)光板和LED節(jié)能高效背光系統(tǒng)的設(shè)計(jì)等;
包括:LED器件結(jié)構(gòu)和封裝設(shè)計(jì)、LED照明系統(tǒng)的光學(xué)和電子系統(tǒng)設(shè)計(jì)、白光OLED照明以及光電測(cè)試技術(shù)和標(biāo)準(zhǔn);
包括:裸眼的透鏡式三維顯示、新型2D/3D可切換的三維顯示、以及在高清晰、快速響應(yīng)顯示面板上的實(shí)現(xiàn)技術(shù)和三維測(cè)試技術(shù)和標(biāo)準(zhǔn);
包括:可實(shí)現(xiàn)彩色和視頻顯示的電子紙技術(shù)、基于有機(jī)半導(dǎo)體和納米材料的柔性薄膜晶體管器件和電路、以及顯示、照明、傳感、驅(qū)動(dòng)控制和能量收集等多功能系統(tǒng)單元的集成和應(yīng)用。
1.新型平板顯示中光能可回收的反射式亞波長(zhǎng)周期結(jié)構(gòu)光學(xué)膜研究(國(guó)家自然基金,61007025)(2011.1-2013.12)
2.硅基混合等離子體納米光波導(dǎo)器件與應(yīng)用(國(guó)家自然基金,61077052)(2011.1-2013.12)
3.LED/OLED燈具檢測(cè)技術(shù)(上海市科委,10dz1140207)(2010.07-2012.06)
4.面向有機(jī)電子集成化的有機(jī)薄膜晶體管器件和電路(國(guó)家自然基金委,61011130164)(2010.04-2012.03)
5.低能耗平板顯示中的納米光學(xué)研究(曙光計(jì)劃,09SG13)(2010.1-2011.12)
6.上海高校特聘教授(東方學(xué)者)崗位計(jì)劃
7.氧化鋅薄膜晶體管電壓偏置退化特性的研究 (上海市自然科學(xué)基金,09ZR1414800)(2009.8-2012.7)
8.“柵控源”薄膜晶體管工藝、性能及應(yīng)用的研究(國(guó)家自然科學(xué)基金,60906039)(2009)
1.AMR的標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)咨詢及推動(dòng)(鉅泉公司)(2010.2-2011.1)
2.金屬納米線柵及其在平板顯示器件的應(yīng)用(龍騰光電)(2010.1-2012.12)
3.TFT-LCD高清顯示器倍幀研究(上海廣電集團(tuán)有限公司中央研究院)(2009)
4.生產(chǎn)過程控制和調(diào)度優(yōu)化氣流模型
上海交通大學(xué)光電材料與器件中心,通過多學(xué)科的交叉,以及與產(chǎn)業(yè)的緊密結(jié)合,開展新型光電材料與器件相關(guān)技術(shù)的研究,在滿足現(xiàn)代社會(huì)生活和經(jīng)濟(jì)發(fā)展對(duì)高品質(zhì)光電材料與器件設(shè)備要求的同時(shí),能夠降低能耗、實(shí)現(xiàn)綠色環(huán)保,以維護(hù)現(xiàn)代社會(huì)的可持續(xù)發(fā)展。
同時(shí),中心依托于“TFT-LCD關(guān)鍵材料及技術(shù)國(guó)家工程實(shí)驗(yàn)室”,研究和開發(fā)液晶顯示面板所需要的關(guān)鍵技術(shù),建成先進(jìn)的TFT-LCD技術(shù)研發(fā)試驗(yàn)平臺(tái),構(gòu)建長(zhǎng)效的產(chǎn)學(xué)研合作機(jī)制,以提升國(guó)內(nèi)TFT-LCD產(chǎn)業(yè)工藝技術(shù)的自主創(chuàng)新能力和核心競(jìng)爭(zhēng)力,強(qiáng)化對(duì)國(guó)內(nèi)TFT-LCD相關(guān)產(chǎn)業(yè)的技術(shù)支撐。
厲害。不過國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室更保險(xiǎn)一點(diǎn)。
沖壓發(fā)動(dòng)機(jī)的關(guān)鍵材料是什么?
沖壓發(fā)動(dòng)機(jī)不是什么新奇的技術(shù),最早在1913年由法國(guó)工程師雷恩提出,并獲得專利,不過當(dāng)時(shí)并沒有材料和助推手段僅僅是停留在紙面,沖壓發(fā)動(dòng)機(jī)最關(guān)鍵的材料是鈦合金,大部分用沖壓發(fā)動(dòng)機(jī)的飛行器飛行速度極高,一...
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先進(jìn)金屬材料涂鍍國(guó)家工程實(shí)驗(yàn)室
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5月8日,受國(guó)家發(fā)改委委托,中國(guó)科學(xué)院計(jì)劃財(cái)務(wù)局會(huì)同生命科學(xué)與生物技術(shù)局組織專家在上海對(duì)中國(guó)科學(xué)院上海藥物研究所牽頭建設(shè)的“中藥標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)國(guó)家工程實(shí)驗(yàn)室”進(jìn)行驗(yàn)收。中科院計(jì)財(cái)局副局長(zhǎng)潘峰及專家組和上海藥物所所長(zhǎng)丁健、黨委書記成建軍等及所相關(guān)部門負(fù)責(zé)人參加了本次驗(yàn)收會(huì)議。
TFT-LCD即薄膜場(chǎng)效應(yīng)晶體管LCD,是有源矩陣類型液晶顯示器(AM-LCD)中的一種。
TFT的顯示采用“背透式”照射方式——假想的光源路徑不是像TN液晶那樣從上至下,而是從下向上。這樣的作法是在液晶的背部設(shè)置特殊光管,光源照射時(shí)通過下偏光板向上透出。由于上下夾層的電極改成FET電極和共通電極,在FET電極導(dǎo)通時(shí),液晶分子的表現(xiàn)也會(huì)發(fā)生改變,可以通過遮光和透光來(lái)達(dá)到顯示的目的,響應(yīng)時(shí)間大大提高到80ms左右。因其具有比TN-LCD更高的對(duì)比度和更豐富的色彩,熒屏更新頻率也更快,故TFT俗稱“真彩”。
TFT-LCD的主要特點(diǎn)是為每個(gè)像素配置一個(gè)半導(dǎo)體開關(guān)器件。由于每個(gè)像素都可以通過點(diǎn)脈沖直接控制。因而每個(gè)節(jié)點(diǎn)都相對(duì)獨(dú)立,并可以進(jìn)行連續(xù)控制。這樣的設(shè)計(jì)方法不僅提高了顯示屏的反應(yīng)速度,同時(shí)也可以精確控制顯示灰度,這就是TFT色彩較DSTN更為逼真的原因。
目前,絕大部分筆記本電腦廠商的產(chǎn)品都采用TFT-LCD。早期的TFT-LCD主要用于筆記本電腦的制造。盡管在當(dāng)時(shí)TFT相對(duì)于DSTN具有極大的優(yōu)勢(shì),但是由于技術(shù)上的原因,TFT-LCD在響應(yīng)時(shí)間、亮度及可視角度上與傳統(tǒng)的CRT顯示器還有很大的差距。加上極低的成品率導(dǎo)致其高昂的價(jià)格,使得桌面型的TFT-LCD成為遙不可及的尤物。
不過,隨著技術(shù)的不斷發(fā)展,良品率不斷提高,加上一些新技術(shù)的出現(xiàn),使得TFT-LCD在響應(yīng)時(shí)間、對(duì)比度、亮度、可視角度方面有了很大的進(jìn)步,拉近了與傳統(tǒng)CRT顯示器的差距。如今,大多數(shù)主流LCD顯示器的響應(yīng)時(shí)間都提高到50ms以下,這些都為L(zhǎng)CD走向主流鋪平了道路。
LCD的應(yīng)用市場(chǎng)應(yīng)該說(shuō)是潛力巨大。但就液晶面板生產(chǎn)能力而言,全世界的LCD主要集中在中國(guó)臺(tái)灣、韓國(guó)和日本三個(gè)主要生產(chǎn)基地。亞洲是LCD面板研發(fā)及生產(chǎn)制造的中心,而臺(tái)、日、韓三大產(chǎn)地的發(fā)展情況各有不同。
目前主流的TFT面板有a-Si(非晶硅薄膜晶體管)、TFT技術(shù)和LTPS TFT(低溫復(fù)晶硅)TFT技術(shù)。
在a-Si方面,三個(gè)生產(chǎn)基地的技術(shù)各有千秋。日本廠商曾經(jīng)研制出分辨率高達(dá)2560×2048的LCD產(chǎn)品。因此,有些人認(rèn)為,a-Si TFT技術(shù)完全可滿足高分辨率的產(chǎn)品需要,但是,由于技術(shù)的不成熟,它還不能滿足高速視頻影像或動(dòng)畫等的需要。LTPS TFT相對(duì)可以節(jié)約成本,這對(duì)于TFT LCD的推廣有著重要意義。目前,日本廠商已經(jīng)有量產(chǎn)12.1英寸LTPS TFT LCD的能力。而中國(guó)臺(tái)灣已開發(fā)完成LTPS組件制造技術(shù)與LTPS SXGA面板技術(shù)。韓國(guó)在這方面缺少專門的設(shè)計(jì)人員和研發(fā)專家,但像三星等主要企業(yè)已經(jīng)推出了LTPS產(chǎn)品,顯示出韓國(guó)廠商的實(shí)力。不過,目前LTPS技術(shù)尚不成熟,產(chǎn)品集中在小屏幕,而且良品率低,成本優(yōu)勢(shì)尚無(wú)從談起。
與LTPS相比,a-Si無(wú)疑是目前TFT LCD的主流。日本公司的a-SiTFT投資策略上幾乎都以第三代LCD產(chǎn)品為主,通過制造技術(shù)及良品率的改善來(lái)提高產(chǎn)量,降低成本。日本一直走高端路線,其技術(shù)無(wú)疑是最先進(jìn)的。由于研發(fā)力量有限,臺(tái)灣的a-Si TFT技術(shù)主要來(lái)自日本廠商的轉(zhuǎn)讓,但由于臺(tái)灣企業(yè)一般屬于勞動(dòng)密集型,技術(shù)含量?jī)r(jià)低,以生產(chǎn)低端產(chǎn)品為主。韓國(guó)在a-Si方面有著強(qiáng)大的研發(fā)實(shí)力,比如三星公司就量產(chǎn)了全球第一臺(tái)24寸a-Si TFT LCD—240T,它的響應(yīng)時(shí)間小于25ms,可以滿足一般應(yīng)用需要;而可視角度達(dá)到了160度,使得LCD在傳統(tǒng)弱項(xiàng)上不輸給CRT。三星240T標(biāo)志著大屏幕TFT LCD技術(shù)走向成熟,也向世人展示了韓國(guó)廠商的實(shí)力不容置疑。
TFT型液晶顯示器結(jié)構(gòu)
通常的a-Si TFT主要由玻璃基板、柵電極、柵絕緣層、半導(dǎo)體活性層a-Si,歐姆接觸層n+a-Si、源漏電極及保護(hù)膜等組成,其中柵絕緣層和保護(hù)膜一般采用SiN。
a-Si TFT的結(jié)構(gòu)可分為四種典型結(jié)構(gòu):源、漏、柵三電極位于半導(dǎo)體活性層a-Si同一側(cè)的平面結(jié)構(gòu),其中源、漏、柵三電極位于a-Si層上側(cè)的稱正柵平面結(jié)構(gòu),源、漏、柵三電極位于a-Si層下側(cè)的稱倒柵平面結(jié)構(gòu);源、漏、電極與柵電極位于a-Si層兩側(cè)的交錯(cuò)結(jié)構(gòu),其中柵電極在a-Si層上側(cè),源、漏電極在a-Si層下側(cè)的稱正柵交錯(cuò)結(jié)構(gòu)或頂柵結(jié)構(gòu),柵極在a-Si下側(cè),源、漏電極在a-Si層上側(cè)的稱倒柵交錯(cuò)結(jié)構(gòu)或底柵結(jié)構(gòu)。
從制造工藝上看,交錯(cuò)結(jié)構(gòu)的SiN,a-Si和n+a-Si三層(或其中二層)可以連續(xù)淀積,適合流水作業(yè),又可減少交叉污染?,F(xiàn)在,交錯(cuò)結(jié)構(gòu)已成為主流,它不僅對(duì)a-Si,SiN.,n+a-Si可連續(xù)作業(yè),而且倒柵還可以作遮光層(不需另設(shè)遮光層),這對(duì)a-Si TFT是重要的,因?yàn)閍-Si對(duì)光敏感,一旦有光流入引起漏電流增加,將會(huì)導(dǎo)致像質(zhì)惡化。
TFT型液晶顯示器的運(yùn)作原理
從TFT-LCD的切面結(jié)構(gòu)圖(下圖)可以看到LCD是由二層玻璃基板夾住液晶組成的,形成一個(gè)平行板電容器,通過嵌入在下玻璃基板上的TFT對(duì)這個(gè)電容器和內(nèi)置的存儲(chǔ)電容充電,維持每幅圖像所需要的電壓直到下一幅畫面更新。液晶的彩色都是透明的必須給LCD襯以白色的背光板上才能將五顏六色表達(dá)出來(lái),而要使白色的背光板有反射就需要在四周加上白色燈光。因此在TFT-LCD的底部都組合了燈具,如CCFL或LED。
tft-lcd結(jié)構(gòu)及工作原理
TFT-LCD需要背光,由于LCD面板本身并不發(fā)光,因此需要背光,液晶顯示器就必須加上一個(gè)背光板,來(lái)提供一個(gè)高亮度,而且亮度分布均勻的光源。LCD實(shí)際上是打開來(lái)自其后面光源的光來(lái)表現(xiàn)其色彩的。目前的常用背光源是CCFL或LED。
TFT-LCD的市場(chǎng)分析
TFT-LCD是有源矩陣液晶顯示器(AM LCD)的典型代表,其研究最活躍、發(fā)展最快、應(yīng)用增長(zhǎng)也最迅速,在筆記本電腦、攝像機(jī)與數(shù)字照相機(jī)監(jiān)視器等方面的應(yīng)用獨(dú)領(lǐng)風(fēng)騷,另外,它在地理信息系統(tǒng)以及飛機(jī)座艙、便攜式DVD、臺(tái)式電腦和多媒體顯示器等方面都得到很好的應(yīng)用。彩色TFT-LCD的構(gòu)思最初由美國(guó)人(西屋公司)于1972年提出、日本東芝公司在1982年率先實(shí)現(xiàn)這一技術(shù)的規(guī)模生產(chǎn),但那時(shí)的生產(chǎn)技術(shù)還不成熟。自1993年日本掌握了TFT-LCD生產(chǎn)技術(shù)以來(lái),分辨率已由CGA(320*200)發(fā)展到今天的UXGA(1600*1200),基片尺寸也已有第一代的240*270-32O*400mm2發(fā)展到2001年日本夏普、韓國(guó)三星電子和LG-Philips公司分別上馬的第七代的1350*1700 mm2。目前,TFT-LCD的應(yīng)用主要在小尺寸的移動(dòng)電話市場(chǎng)、中型尺寸的掌上電腦與筆記本電腦市場(chǎng)、大型尺寸的液晶顯示監(jiān)視器和液晶電視市場(chǎng)等五個(gè)方面。2005年TFT-LCD將被主要應(yīng)用于顯示器(39%)、筆記本電腦(25%)、手機(jī)(16%),液晶電視(10%),PDA(6%)五大領(lǐng)域,市場(chǎng)銷售金額將超過250億美元,占LCD市場(chǎng)比例超過90%,成為液晶乃至整個(gè)平板顯示技術(shù)領(lǐng)域的主導(dǎo)技術(shù)。
TFT-LCD技術(shù)的產(chǎn)業(yè)特點(diǎn)
資金密集,規(guī)模經(jīng)營(yíng):建立一條生產(chǎn)線投資在10億美元左右.技術(shù)密集:涉及到半導(dǎo)體技術(shù)、精密機(jī)械、精密光學(xué)、自動(dòng)控制、大規(guī)模集成電路設(shè)計(jì)和制造技術(shù)、光電子、微電子、精細(xì)化工、光源、材料、通訊、計(jì)算機(jī)軟件等。
發(fā)展速度快,核心技術(shù)穩(wěn)定:TFT-LCD產(chǎn)業(yè)化十年來(lái)生產(chǎn)線經(jīng)歷了7次大的發(fā)展,平均1年半生產(chǎn)線就要更新一次。但是TFT-LCD的核心技術(shù)是相對(duì)穩(wěn)定的。
帶動(dòng)的產(chǎn)業(yè)面廣,對(duì)國(guó)民經(jīng)濟(jì)具有全局意義:上游原料、生產(chǎn)設(shè)備、生產(chǎn)技術(shù)涉及到現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)的幾十個(gè)領(lǐng)域。新材料的開發(fā)、大規(guī)模生產(chǎn)設(shè)備的制造、先進(jìn)生產(chǎn)技術(shù)的應(yīng)用,將帶動(dòng)上游產(chǎn)業(yè)群。TFT-LCD模塊是信息產(chǎn)業(yè)的核心器件,涉及到通訊、交通、家電、計(jì)算機(jī)、教育、工業(yè)、醫(yī)療、國(guó)防等幾乎所有的領(lǐng)域。
a-Si TFT-LCD技術(shù)的研究現(xiàn)狀
分辨率:TFT-LCD的分辨率在近幾年中經(jīng)由CGA(320*2 00),VGA(640*4 80),SVGA(1280*1024)。XGA(1024*768).SXGA(1280*1024)發(fā)展到目前的UXGA(1600*1200)、QXGA(2560*2048)的水平。
對(duì)比度:美國(guó)P.P.Muhoray等人推出了波導(dǎo)基LCD技術(shù),并利用這種技術(shù)實(shí)現(xiàn)了174:1的高對(duì)比度,而現(xiàn)在的TFT-LCD對(duì)比度最高可達(dá)到500:1。
視角:由于液晶材料是各向異性的,其分子排列的取向及在電場(chǎng)作用下的重新排列取得均勻影響LCD器件視角的拓寬,這就造成了LCD器件視角上的缺點(diǎn),現(xiàn)已提出多種寬視角技術(shù),如同平面切換模式、相對(duì)稱微單元模式、疇垂直模式等,視角可達(dá)到170度。
響應(yīng)速度:當(dāng)幀頻為60%時(shí),幀周期約為16ms,采用TN型LCD的普通TFT-LCD器件的響應(yīng)時(shí)間可低于20ms。最近推出了一種利用彈性連續(xù)聚合物穩(wěn)定化的平面開關(guān)方法,可使響應(yīng)時(shí)間縮短到10ms,采用光學(xué)補(bǔ)償帶可將響應(yīng)時(shí)間縮短到2~3ms,目前已用本技術(shù)研制出響應(yīng)時(shí)間為8ms的彩色LCD電視機(jī)。
壽命:由于制造技術(shù)的發(fā)展,TFT-LCD的壽命可達(dá)到3萬(wàn)小時(shí)以上。
大屏幕和反射式己出現(xiàn):已研制成功38in的TFT-LCTV,結(jié)束了大屏幕LC的拼接時(shí)代,反射式TFT-LCD彩色顯示器也開始商品化。
由于TFT制作技術(shù)的發(fā)展、液晶材料性能的改善、寬視角技術(shù)的采用、響應(yīng)速度的提高和成品率的提高,TFT-LCD顯示性能已并不亞于CRT。
文章原創(chuàng)來(lái)于液晶屏:http://www.leehon.com,轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處
主要內(nèi)容
1、認(rèn)識(shí)產(chǎn)品規(guī)格
2、設(shè)計(jì)思想與步驟
3、Array基板設(shè)計(jì)
4、CF設(shè)計(jì)
5、Cell設(shè)計(jì)
第一節(jié) 認(rèn)識(shí)TFT-LCD的產(chǎn)品規(guī)格
1、基本規(guī)格 (設(shè)計(jì)規(guī)格)
作為一個(gè)設(shè)計(jì)者,首先對(duì)于顯示屏的設(shè)計(jì)規(guī)格一定要有所了解。顯示器的規(guī)格,很難有一個(gè)完全的定義,因?yàn)楫a(chǎn)品對(duì)于消費(fèi)者而言更多的是主觀的感覺,不同廠商提供的顯示器規(guī)格,也會(huì)有所差別,但是對(duì)設(shè)計(jì)者而言,需要把客戶的要求、廠商的要求轉(zhuǎn)化成客觀量化的數(shù)據(jù)作為設(shè)計(jì)的目標(biāo),也就是要轉(zhuǎn)化成可設(shè)計(jì)的規(guī)格。即設(shè)計(jì)規(guī)格(專業(yè)規(guī)格)。下表中給出了一些顯示器件的最基本的規(guī)格參數(shù)。
2、各專業(yè)領(lǐng)域的整合(其它專業(yè)規(guī)格)
TFT是一種整合多元知識(shí)的技術(shù),是“光、電、機(jī)”的一個(gè)綜合體,牽涉了很多原理,所以一個(gè)TFT-LCD也是由各個(gè)專業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)者一同努力所設(shè)計(jì)出來(lái)的,除了所著重的TFT面板本身以外,以下幾個(gè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)也是非常重要的。
(1)液晶光學(xué)、色度學(xué)設(shè)計(jì)
這個(gè)領(lǐng)域需要熟知液晶的物理材料特性和光學(xué)知識(shí),負(fù)責(zé)設(shè)計(jì)產(chǎn)品的液晶模式,包括其材料,間隙,配向角度,偏光片角度,光學(xué)補(bǔ)償膜等等,以符合產(chǎn)品規(guī)格中的視角,亮度,對(duì)比和反應(yīng)時(shí)間等要求,也要設(shè)計(jì)彩色濾光片的三原色之色坐標(biāo),以符合產(chǎn)品規(guī)格中色彩飽和度的要求,還有如液晶的操作電壓,抗反射膜的選用等等,也是該領(lǐng)域要考慮的。
(2)模組機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)
該領(lǐng)域要熟知各機(jī)械零件和力學(xué)知識(shí),負(fù)責(zé)設(shè)計(jì)產(chǎn)品的外觀,選用各零件的材料與制程,以符合產(chǎn)品規(guī)格中尺寸,重量等需求,并使模組組裝生產(chǎn)過程流暢易行,另外,背光模組和光學(xué)膜的選用,涉及產(chǎn)品厚度,重量和功率消耗,也需要與其他方面的設(shè)計(jì)一起考慮。
(3)電子系統(tǒng)設(shè)計(jì)
該領(lǐng)域熟知各電子零件和電學(xué)知識(shí),以及各種顯示界面的定義,以負(fù)責(zé)設(shè)計(jì)產(chǎn)品的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng),符合產(chǎn)品規(guī)格中系統(tǒng)界面,功率消耗,操作電壓等要求。
3、產(chǎn)品規(guī)格的協(xié)調(diào)制定
對(duì)于TFT-LCD,包含很多的專業(yè)領(lǐng)域的知識(shí),自然也就涉及很多的專業(yè)規(guī)格,這些專業(yè)規(guī)格彼此并不是孤立的,設(shè)計(jì)時(shí)也并不是所有規(guī)格的一個(gè)簡(jiǎn)單的加和,而是要互相協(xié)調(diào),明確設(shè)計(jì)目標(biāo)及定位,才能保證產(chǎn)品的最終設(shè)計(jì)成功。
專業(yè)規(guī)格協(xié)調(diào)舉例
(1)厚度
產(chǎn)品的厚度,它是很多零組件厚度的總和,包括兩塊玻璃基板,兩個(gè)偏光片,光學(xué)補(bǔ)償膜,光學(xué)增亮膜,背光模組,框架等,如果要減少設(shè)計(jì)的厚度以符合產(chǎn)品要求,可以采用薄型偏光片而增加成本,也可以選擇減少光學(xué)補(bǔ)償膜而犧牲視角,也可以選擇光學(xué)增亮膜而犧牲亮度,也可采用薄型框架而增加破損的風(fēng)險(xiǎn),至于要采取哪一種方法,就要視產(chǎn)品的定位和其他規(guī)格的競(jìng)爭(zhēng)力而定,并沒有一定的答案。
(2)亮度
TFT-LCD模組成品的亮度,是光源強(qiáng)度和光效率的乘積,以表中產(chǎn)品為例,亮度要求為假設(shè)既有的產(chǎn)品設(shè)計(jì),是使用亮度為的CCFL背光源,而液晶單元的光效為7.35%,畫素的開口率為85%,則得到的亮度會(huì)是
為了要達(dá)成產(chǎn)品要求,可以使用亮度提高到背光源,但是會(huì)增加消耗功率,燈管的壽命也會(huì)減少,也可以設(shè)法增加液晶單元本身的光效率到8.82%,也可以設(shè)法增加畫素的開口率。此時(shí)可以協(xié)調(diào)成:采用的背光源,使液晶單元的光效率增加為8.1%,畫素的開口率為88%,使得到的亮度成為
再由各設(shè)計(jì)領(lǐng)域協(xié)調(diào)決定其專業(yè)規(guī)格,此時(shí)需要液晶光學(xué)設(shè)計(jì)的專業(yè)去努力的將原來(lái)的光效提高到8.12%,也許要采用新的模式,也許要降低色彩飽和度,假設(shè)在各專業(yè)領(lǐng)域努力之后,仍無(wú)法達(dá)成要求,此時(shí)便需要重新進(jìn)行協(xié)調(diào),增加背光源亮度或液晶單元的光效,有可能需要更換液晶材料,因此又使畫素的充電和電容耦合效應(yīng)改變,于是又要重新設(shè)計(jì)一次畫素,又有新的開口率設(shè)計(jì),可以想象,產(chǎn)品的規(guī)格進(jìn)步,需要各領(lǐng)域一再的設(shè)法協(xié)調(diào),以定出各專業(yè)規(guī)格。
4、和面板設(shè)計(jì)相關(guān)的專業(yè)規(guī)格
在經(jīng)過產(chǎn)品規(guī)格的協(xié)調(diào)制定后,就可將其中的一些規(guī)格,轉(zhuǎn)換成各領(lǐng)域的專業(yè)規(guī)格,與TFT面板設(shè)計(jì)相關(guān)的專業(yè)規(guī)格有:
(1)次畫素大小和畫素陣列數(shù)目
根據(jù)產(chǎn)品規(guī)格中的Size, Resolution, Aspect Ratio Active Area,可以得知次畫素的大小和畫素陣列數(shù)目,這些規(guī)格是不需要進(jìn)行協(xié)調(diào)的。
(2)開口率
依據(jù)產(chǎn)品規(guī)格中的Brightness和Color Saturation,在充分協(xié)調(diào)之后,設(shè)定開口率的設(shè)計(jì)目標(biāo)。
(3)最小視訊電壓容許誤差
依據(jù)產(chǎn)品規(guī)格中的View Angle, Contrast Ratio , Response Time, 以及Supply Voltage等等,由液晶光學(xué)專業(yè)領(lǐng)域設(shè)計(jì)者制定出所采用的液晶單元設(shè)計(jì)(液晶材料、模式、間隙、取向等),那么液晶單元所對(duì)應(yīng)的電壓-穿透度關(guān)系,液晶電壓-電容關(guān)系基本上就可以確定下來(lái)。根據(jù)電壓-穿透度關(guān)系和產(chǎn)品規(guī)格中的灰階數(shù)就可以決定出最小視訊電壓容許誤差(最小灰階電壓差如何確定?)。液晶的電壓-電容關(guān)系,也會(huì)作為設(shè)計(jì)時(shí)考量充電,電荷保持,電容耦合以及信號(hào)延遲等的計(jì)算基礎(chǔ)。
第二節(jié) 設(shè)計(jì)思想與步驟
1、設(shè)計(jì)思想
(1)畫素完全相同
我們知道,陣列中每個(gè)畫素的大小和形狀是一樣的,但是每個(gè)畫素的細(xì)部設(shè)計(jì),并不一定要完全一樣,利用畫素設(shè)計(jì)的細(xì)部改變,可以解決一些問題。比如通過精密計(jì)算沿著掃描線改變TFT的寄生電容的大小,可以補(bǔ)償電容耦合效應(yīng)和信號(hào)延遲效應(yīng),但是這樣設(shè)計(jì)會(huì)使得整個(gè)布局非常復(fù)雜,又會(huì)產(chǎn)生其他的問題,因此目前在絕大多數(shù)的TFT設(shè)計(jì)中,都是采用完全相同的畫素設(shè)計(jì)。
(2)最壞情況設(shè)計(jì)
為了使得設(shè)計(jì)出來(lái)的顯示器在各種情況下都能夠滿足驅(qū)動(dòng)原理的要求,采用的設(shè)計(jì)觀念是“最壞情況設(shè)計(jì)”,即在設(shè)計(jì)時(shí)考慮在極限情況下能夠使用,那么其他情形就沒有問題。比如畫面的幀頻在60~75Hz,則以75Hz考慮充電時(shí)間,而以60Hz考慮電荷保持時(shí)間,這樣在兩個(gè)極限條件下如果能夠滿足,其它頻率下肯定能夠滿足。
2、設(shè)計(jì)步驟
從前面的討論我們知道,在設(shè)計(jì)過程中,需要將所有的條件要同時(shí)考慮,但是同時(shí)考慮這么多的項(xiàng)目會(huì)混淆我們的思路,有沒有辦法快速的找到符合設(shè)計(jì)的方法呢?答案是肯定的。先把最重要的設(shè)計(jì)參數(shù)作初步估計(jì),找出所要設(shè)計(jì)產(chǎn)品的粗坯,結(jié)合該產(chǎn)品的考量重點(diǎn),尋找合理的設(shè)計(jì)參數(shù),建立畫素初始布局,計(jì)算各個(gè)電容,開口率等,最后根據(jù)設(shè)計(jì)值執(zhí)行最后的布局。
第三節(jié) Array基板設(shè)計(jì)
設(shè)計(jì)對(duì)象及設(shè)計(jì)目標(biāo)的確定
設(shè)計(jì)對(duì)象:13英寸TFT-LCD面板(下基板、上基板,液晶盒)
設(shè)計(jì)目標(biāo):基本規(guī)格,開口率、最小視訊電壓差等
具體設(shè)計(jì)步驟:基本參數(shù)確定(尺寸、制程、電學(xué)參數(shù)等);主要參數(shù)計(jì)算(Cs、開口率計(jì)算);初始布局確定;驗(yàn)證;執(zhí)行最終布局
1、基本的專業(yè)規(guī)格參數(shù)設(shè)計(jì)
2、制程參數(shù)設(shè)計(jì)(制程選擇、制程準(zhǔn)則及能力限制、材料工藝參數(shù)等)
(a)制程選擇
設(shè)計(jì)一個(gè)TFT面板,必須基于一個(gè)確定的TFT制程以及制程設(shè)計(jì)準(zhǔn)則。和IC的制程相似,制作TFT和各電極所需的形狀,是先將這些形狀制作在掩模版上,通過光刻的方式轉(zhuǎn)寫到玻璃基板,因此,在設(shè)計(jì)之前,必須了解TFT的制程,知道Array基板上各種膜層之間的層次關(guān)系及用途。若采用的制程不同,設(shè)計(jì)原理雖然相同,但考慮的重點(diǎn)則有所變化。此處將以top ITO型的五道掩膜(見圖)為例進(jìn)行說(shuō)明。
(b)制程準(zhǔn)則及制程能力限制
制程確定后,還需了解該制程的能力限制,即制程設(shè)計(jì)準(zhǔn)則。這些規(guī)則由制程的能力與經(jīng)驗(yàn)所確定,其中規(guī)范了相關(guān)的能力限制以及制程中所采用的金屬和絕緣體材料的厚度和特性,在設(shè)計(jì)時(shí),必須符合這些規(guī)則,才能在工藝上實(shí)現(xiàn),典型的TFT設(shè)計(jì)準(zhǔn)則可參考下表。共四個(gè)表,分別是材料和厚度,線寬限制,對(duì)準(zhǔn)誤差和TFT的工藝參數(shù)。
(c)材料工藝參數(shù)
相應(yīng)于本次設(shè)計(jì),采用top ITO制程對(duì)應(yīng)的材料與工藝參數(shù)
3 驅(qū)動(dòng)相關(guān)參數(shù)
幀頻60Hz
幀掃描時(shí)間16.7ms
掃描線時(shí)間21.7μs
最小視頻電壓容許誤差:8mV
4 面板設(shè)計(jì)參數(shù)的獲得
在前面講過,圖形設(shè)計(jì)涉及很多參數(shù),需要先定出最主要的參數(shù)。結(jié)合前面的討論,根據(jù)本書作者的經(jīng)驗(yàn),與所有設(shè)計(jì)關(guān)系最密切的兩項(xiàng)設(shè)計(jì)值分別是存儲(chǔ)電容 的大小和TFT的通道寬度W,其他設(shè)計(jì)并非不重要,而是輕易不會(huì)改變,比如TFT的通道長(zhǎng)度,通常會(huì)設(shè)定在制作能力的最小極限,以得到最大的開電流和最小的柵極負(fù)載電容,又如柵極絕緣層或金屬導(dǎo)電層的材料和厚度等,在制程確定后,一般不會(huì)去做更動(dòng)。所以,以上面兩個(gè)最重要的參數(shù),結(jié)合第二章的四大考量,編寫關(guān)于這兩個(gè)參數(shù)的初始設(shè)計(jì)方程式,先把存儲(chǔ)電容和通道寬度數(shù)值定下來(lái),再進(jìn)行其它的考慮。
A、四條限制線:如何確定存儲(chǔ)電容 和溝道寬度W
如何編寫計(jì)算方程式
(1)TFT開電流的限制線
按照第二章中討論的對(duì)充電的要求,有:
C、初始布局
基于初始設(shè)計(jì)所決定的存儲(chǔ)電容大小和TFT的尺寸,就可以進(jìn)行像素的初始布局。在滿足基本參數(shù)的前提下,在合乎TFT的設(shè)計(jì)準(zhǔn)則下,便可繪制像素初始布局。布局的方式,不同的人,不同的公司都會(huì)有所不同。比如,同樣的存儲(chǔ)電容,可以布局成環(huán)繞像素的U字型或一字型,工字型,H型等,相同的溝道寬度,TFT也會(huì)有不同的形狀。如圖所示。無(wú)論如何改變,關(guān)鍵參數(shù)必需要滿足,且常常為了光學(xué)特性或制程良好率,也會(huì)調(diào)整TFT或存儲(chǔ)電容的形狀。作為初學(xué)者,選擇一種最簡(jiǎn)單的布局方式,底部一字型為例作介紹。
D、分析及次像素的繪制
為了繪圖準(zhǔn)確和方便,對(duì)各部分進(jìn)行粗略估算,將繪圖尺寸參數(shù)列出來(lái),然后開始繪圖。
計(jì)算分析:
次像素大小為258×86μm,定義開口率為70%,這一部分完全依靠ITO的面積大小來(lái)實(shí)現(xiàn),根據(jù)計(jì)算,存儲(chǔ)電容的面積占次像素的面積是9.8%,也是依靠ITO的面積來(lái)實(shí)現(xiàn),所以,在次像素的范圍內(nèi),ITO的面積應(yīng)占整個(gè)次像素面積至少約80%。那么掃描線與數(shù)據(jù)線及TFT所占的面積不能超過20%。我們知道,對(duì)于掃描線和數(shù)據(jù)線,掃描線的信號(hào)延遲要遠(yuǎn)大于數(shù)據(jù)線的信號(hào)延遲,且在高度方向的尺寸大于寬度方向的尺寸,所以數(shù)據(jù)線的寬度
E、陣列及像素陣列之外布線
次像素繪制好以后,就可進(jìn)行像素陣列,按照前面設(shè)置的1024×RGB×768,需要將次像素陣列為3072列、768行,由于AUTOCAD對(duì)如此多的數(shù)目幾乎無(wú)法運(yùn)行,所以將行列數(shù)目按倍數(shù)縮小,這里將數(shù)目確定為16×3×12。運(yùn)行結(jié)果如下。
陣列區(qū)域的總長(zhǎng)度為412.8mm,寬度為309.6mm
一個(gè)TFT-LCD面板,90%以上的面積是作為顯示用的像素陣列,也就是說(shuō),上面已經(jīng)完成了90%面積的設(shè)計(jì)。在像素陣列之外的10%,還有很多的細(xì)節(jié)項(xiàng)目需要設(shè)計(jì)。
1、掃描線和數(shù)據(jù)線布線
在像素陣列中,掃描線與數(shù)據(jù)線是以次像素的大小為間距平行排列,但是在陣列之外,就需要與驅(qū)動(dòng)IC進(jìn)行連接,所以掃描線和數(shù)據(jù)線會(huì)根據(jù)所采用的連接方式而進(jìn)行布線。下圖是其中的一種布線方式。
2、下板共電極布線
除了掃描線和數(shù)據(jù)線以外,下板共電極在陣列外也需要連接在一起并且通過金膠點(diǎn)與上板共電極相接在一起。
至此,Array基板的內(nèi)容就設(shè)計(jì)完成了。所有這些圖形最后都是要轉(zhuǎn)移到玻璃基板上,因此在這里還需要將Array玻璃基板的尺寸定下來(lái),除了將陣列像素和陣列外布線能夠放下以外,制程中還需要一些對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記,這些標(biāo)記一般放在玻璃的邊緣或角落處。所以,顯示區(qū)的尺寸如果是13寸,考慮陣列外布線和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記,Array基板的尺寸應(yīng)大于13寸。由于這里對(duì)單個(gè)次像素進(jìn)行了放大,而數(shù)目又有減少,所以我們這里就以所畫圖形為準(zhǔn)來(lái)確定尺寸。但是如果以后在企業(yè)或是條件具備,應(yīng)該按照前面設(shè)計(jì)好的既不能放大也不能減少數(shù)目來(lái)確定。
例圖中顯示區(qū)的尺寸為412.8和309.6,陣列外布線后尺寸為458.53和320.01,因此玻璃尺寸定為461.91和324.37。具體見下圖。
F、五張掩模版設(shè)計(jì)
根據(jù)設(shè)計(jì)好的Array基板圖形,下一步就可以獲得五道掩模版的圖形。利用AUTOCAD的圖層功能,在原始圖形上,將某一層保留,而將其他圖層刪掉,便可得到相應(yīng)的掩模版。例圖中對(duì)應(yīng)的五張掩模版GE、SE、SD、CH、PE如圖所示。
第四節(jié) CF設(shè)計(jì)
1、CF結(jié)構(gòu)及工藝流程
2、CF設(shè)計(jì)(上玻璃尺寸的確定,黑色矩陣的設(shè)計(jì),色層位置的確定等)
1、CF結(jié)構(gòu)及工藝流程
結(jié)構(gòu)及作用:
彩色濾色片基本結(jié)構(gòu)是由玻璃基板(Glass Substrate),黑色矩陣(Black Matrix),彩色層(Color Layer,即RGB),保護(hù)層(Over Coat),ITO導(dǎo)電膜組成。通過施加不同的電壓和選擇不同的像素,能夠?qū)崿F(xiàn)彩色化顯示。
各層功能及制作過程:
A、黑色矩陣
黑色矩陣主要有以下作用:第一,遮蔽像素區(qū)域(開口部分)之外的背光源的漏光;第二,防止相鄰RGB亞像素的混色,提高顯示對(duì)比度;第三,防止光造成TFT誤動(dòng)作及工作參數(shù)發(fā)生變化;第四,防止背景光的寫入(從而造成對(duì)比度低下),可明顯提高對(duì)比度等。因此,對(duì)于彩色濾色片基板來(lái)說(shuō),形成黑色矩陣是必不可少的重要工序。
形成黑色矩陣的材料一般是黑鉻(Cr),近年來(lái),采用黑色顏料來(lái)形成黑矩陣產(chǎn)品越來(lái)越多。首先利用濺射鍍膜法,在洗凈的玻璃基板鍍金屬鉻的薄膜。而后進(jìn)入黑色矩陣工序,在前道工序形成的黑鉻層表面,利用涂膠機(jī)均勻地涂布正光刻膠,再將全表面涂有光刻膠的玻璃基板在隧道烘干機(jī)中進(jìn)行預(yù)烘烤。之后,在玻璃基板之上放置光刻掩膜,經(jīng)過掩膜,通過紫外線對(duì)正型光刻膠照射,進(jìn)行曝光,再經(jīng)顯影。這樣,可僅保留掩膜遮蔽部分的光刻膠。再經(jīng)過刻蝕制取相應(yīng)于掩膜的黑鉻圖形,剝離光刻膠,得到的黑鉻圖形正是黑色矩陣。
B 、彩色色層
形成RGB著色層的照相刻蝕工程由光刻膠涂布、預(yù)烘烤(預(yù)焙)、曝光、顯影、洗凈、后烘烤(后焙)等工序組成。在著色層的形成過程中,每種顏色的著色層是獨(dú)立形成的。也就是說(shuō),這樣的過程需要重復(fù)三次,才能形成所需要的RGB三色著色層。以紅色為例,首先要在已經(jīng)形成了黑矩陣的玻璃基板全表面涂布紅色顏料層,經(jīng)烘烤固化。之后,在玻璃基板之上放置光刻掩膜,經(jīng)過光刻掩膜用紫外線對(duì)顏料照射,進(jìn)行曝光,再經(jīng)顯影。這樣,可僅保留所需要紅色顏料膜的部分,由此形成紅色著色層。同理,藍(lán)色和綠色顏料膜的形成也按同樣的工序進(jìn)行。至此,就完成了RGB彩色濾光片成膜工序。
C、保護(hù)層和透明導(dǎo)電薄膜
保護(hù)膜的作用主要有兩個(gè)方面,一是防止由于彩色濾色片的污染物侵入液晶盒而引發(fā)誤動(dòng)作,二是對(duì)各色層進(jìn)行平坦化,方便在其上面進(jìn)一步制作ITO電極。保護(hù)層通過材料混合涂布,脫泡,烘烤等工序形成。而ITO薄膜通過濺射法形成。CF的形成過程可參考下圖。
2、CF設(shè)計(jì)
在TFT-LCD中,作為TFT面板對(duì)應(yīng)的上玻璃基板,色層以及黑色矩陣應(yīng)該與下板即Array基板的像素之間有一定的位置關(guān)系。即色層應(yīng)該與Array基板上液晶電容的電極,即像素電極除去存儲(chǔ)電容電極的那一部分電極對(duì)應(yīng)起來(lái),而其他的部分應(yīng)該由黑色矩陣進(jìn)行遮蔽。這也是CF各功能層的形狀在設(shè)計(jì)時(shí)的主要依據(jù)。若是黑色矩陣設(shè)計(jì)還不能將漏光等完全遮蔽,可以計(jì)算一下漏光面積,若是不嚴(yán)重,則可以采用,若是漏光嚴(yán)重,那么就要調(diào)整Array基板的設(shè)計(jì)了。
A、上玻璃基板尺寸的確定以及與Array基板的位置關(guān)系
從TFT的結(jié)構(gòu)和原理我們知道,CF板即上玻璃基板的每一個(gè)色層需要與Array基板的每一個(gè)次像素或像素對(duì)應(yīng)。那么在Array的顯示區(qū)范圍上,CF基板需要形成和Array對(duì)應(yīng)的部分,而在Array基板陣列外,即顯示區(qū)外的掃描線和數(shù)據(jù)線布線區(qū)域,CF板是不需要和其對(duì)應(yīng)的,且必須是將下板的陣列外布線區(qū)域露在外面以便和IC連接。而對(duì)于下板共電極布線區(qū)域,需要與上板共電極相接,所以CF在這部分應(yīng)該與Array對(duì)應(yīng)。這樣基本可以確定出CF基板的位置和大概尺寸。CF基板左邊緣和上邊緣與下板平齊,而右邊緣和下邊緣將掃描線和數(shù)據(jù)線布線露出。具體如圖所示。
B、色層的設(shè)計(jì)
這里采用每一個(gè)色層單元與每一個(gè)次像素一一對(duì)應(yīng),所以將色層的形狀和尺寸確定為與液晶電容的電極相同,且上下對(duì)應(yīng),這樣可將一個(gè)像素對(duì)應(yīng)的CF基板上的色層位置和大小確定下來(lái)。然后分別陣列即可獲得三張色層掩模版。這里要注意的是,上下基板是面對(duì)面貼合在一起的,所以,CF板的左上角像素應(yīng)該與Array板的右上角對(duì)應(yīng),因此,還需將圖形進(jìn)行鏡像。三張色層掩模版設(shè)計(jì)過程如圖所示。
C、黑色矩陣設(shè)計(jì)
理論上,除了色層部分外,其余區(qū)域必須通過黑色矩陣遮蔽,所以黑色矩陣在設(shè)計(jì)上與色層掩模版是互補(bǔ)的,所以這里在設(shè)計(jì)黑色矩陣時(shí),直接使用三張色層套構(gòu)在一起的互補(bǔ)圖形。如圖所示。
第五節(jié) 單個(gè)產(chǎn)品CELL掩模版設(shè)計(jì)
Cell盒的制作工程是利用前兩節(jié)陣列制作工程所述的Array陣列基板和CF基板,使二者對(duì)位貼合而組裝成LCD盒。這種液晶盒制作工程,包括取向膜形成(常用聚酰亞胺薄膜,即PI膜)、取向處理、絲印邊框(邊框膠涂敷),對(duì)位壓合、液晶注入等,是液晶顯示器所獨(dú)有的制作工程,對(duì)顯示器的顯示質(zhì)量有決定性的影響,是十分重要的工程。在這些工序中,取向劑涂敷和絲印邊框還需要兩張掩模版,分別為取向劑掩模版(PI版)和絲印邊框掩模版(Seal版),這兩張板也需要提前設(shè)計(jì)。
1、PI掩模版設(shè)計(jì)
取向膜形成工程,即PI涂布,是為了使液晶分子沿特定方向取向排列,該取向膜采用聚酰亞胺樹脂材料,厚度為10~100nm,其形成一般采用印刷法。取向膜形成之后,還要在取向膜上形成按一定方向排列的溝槽,以使液晶分子按一定方向取向排列,一般是通過摩擦進(jìn)行。我們知道,取向劑主要是幫助液晶分子進(jìn)行取向的,所以其涂敷范圍應(yīng)該將液晶分子所到之處全部覆蓋,這樣就可以確定出PI版的對(duì)應(yīng)于一個(gè)產(chǎn)品的圖形了,即PI版的圖形。例圖中,將顯示區(qū)域直接作為一個(gè)產(chǎn)品的PI版。 如圖所示。
2、SEAL掩模版設(shè)計(jì)
在完成取向處理后,需要將兩塊玻璃基板在保持一定間隙的條件下對(duì)位貼合,所以首先在CF基板上散布隔離子,該隔離子決定了液晶盒的厚度,一般散布的是粒徑分布集中的塑料圓球。同時(shí),為防止貼合的兩塊基板間隙中的液晶材料流出,在液晶盒的四周構(gòu)筑“圍墻”,即封接材料。,這里采用滴入式液晶注入,所以不需要留液晶灌注口。一般情況下,封框膠會(huì)涂敷在以小玻璃(此處對(duì)應(yīng)CF板)邊緣向內(nèi)0.5mm的范圍內(nèi),這樣,一個(gè)產(chǎn)品的Seal板的圖形就可以確定了。
對(duì)位標(biāo)記
無(wú)論上板或下板,所有的圖形在基板上的位置必須嚴(yán)格套準(zhǔn),所以在設(shè)計(jì)完成后,還需要制作相應(yīng)的對(duì)位標(biāo)記,這些標(biāo)記主要有:
1、Array基板:光刻掩模版對(duì)位標(biāo)記(5個(gè)),下板標(biāo)記;
2、CF板:光刻掩模版標(biāo)記(4個(gè))上板標(biāo)記;
3、CLEE盒:邊框位置標(biāo)記,絲網(wǎng)與玻璃對(duì)位標(biāo)記,PI涂敷標(biāo)記,上下板壓合對(duì)位標(biāo)記;
*內(nèi)容摘自小胡講觸控技術(shù)
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