中文名 | 銅鉻觸頭材料化學(xué)分析方法第1部分:鉻的測定 | 實(shí)施日期 | 2014-11-01 |
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發(fā)布日期 | 2014-07-14 | 標(biāo)準(zhǔn)號(hào) | JB/T 8443.1-2014 |
制修訂 | 修訂 | 代替標(biāo)準(zhǔn) | JB/T 8443.1-1996 |
中國標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào) | K14 | 國際標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào) | 29.120.20 |
技術(shù)歸口 | 全國電工合金標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì) | 批準(zhǔn)發(fā)布部門 | 工業(yè)和信息化部 |
桂林電器科學(xué)研究院有限公司、浙江省冶金研究院有限公司等。
劉躍平、陳京生等。
化學(xué)分析工國家職業(yè)標(biāo)準(zhǔn)1.職業(yè)概況1.1職業(yè)名稱化學(xué)檢驗(yàn)工。1.2職業(yè)定義以抽樣檢查的方式,使用化學(xué)分析儀器和理化儀器等設(shè)備,對(duì)試劑溶劑、日用化工品、化學(xué)肥料、化學(xué)農(nóng)藥、涂料染料顏料、煤炭焦化、水泥和...
常見的化學(xué)分析儀器,即滴定分析和重量用的常見的分析儀器:1、滴定管:包括25ml和50ml的酸式滴定管、25ml和50ml的堿式滴定管、微量滴定管(10ml);還有棕色滴定管;2、移液管:單標(biāo)線移液管...
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頁數(shù): 4頁
評(píng)分: 4.4
論述了銅鉻觸頭的金相組織與形成機(jī)理、金相組織對(duì)電氣性能的影響及影響結(jié)晶組織的工藝因素,闡明了電弧熔煉法銅鉻觸頭材料具有鉻在銅基體中呈均勻細(xì)小彌散分布的銅鉻組織;在開斷能力、抗熔焊性、介質(zhì)恢復(fù)強(qiáng)度等電氣性能方面均明顯優(yōu)于傳統(tǒng)粉末冶金法銅鉻觸頭材料。
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筑神-建筑下載: http://www.zhushen.com.cn 鈉鈣硅玻璃化學(xué)分析方法 1 主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了鈉、鈣、硅玻璃的化學(xué)分析方法。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于鈉、鈣、硅玻璃,如建筑用平板玻璃或類似組成的玻璃化學(xué)分析。 2 分析方法 2.1 標(biāo)準(zhǔn)中對(duì)同一組分并列的測定方法,可根據(jù)實(shí)際情況任選一種。在有爭議時(shí), 同一組分并列的測定方法以 1法為準(zhǔn)。 2.1.2 化學(xué)分析所用的天平應(yīng)精確至 0.0001 克。天平與砝碼應(yīng)定期進(jìn)檢定。稱 取試樣時(shí)應(yīng)精確至 0.0002 克。 2.1.3 化學(xué)分析所用的滴定管、容量瓶、移液管應(yīng)進(jìn)行校正。 2.1.4 分析試樣應(yīng)于 105~110℃烘箱中烘干 1小時(shí),在干燥器中冷卻至室溫后 稱量。 2.1.5 化學(xué)分析所用的水應(yīng)為蒸餾水或去離子水;所用試劑應(yīng)為分析純或優(yōu)級(jí) 純;用于標(biāo)定的試劑除另有說明外應(yīng)為基
備案信息
備案號(hào):0071-1996
金屬材料的性能是由其成分、組織和結(jié)構(gòu)決定的) 實(shí)際應(yīng)用已經(jīng)證明了銅鉻仍是當(dāng)前綜合性能最好的真空斷路器觸頭材料,但是不同工藝方法制造的銅鉻材料、具有不同組織結(jié)構(gòu)的銅鉻材料,其性能差異很大。
通常觸頭經(jīng)過幾次大電流分?jǐn)嗪缶哂懈叩拈_斷可靠性,這一現(xiàn)象引發(fā)了專業(yè)技術(shù)人員研究用真空電弧熔煉的方法來制造銅鉻觸頭材料的想法,西門子公司的實(shí)踐證明了真空電弧熔煉工藝制造的銅鉻觸頭材料性能的優(yōu)越性和實(shí)際應(yīng)用的可行性。
大電流開斷后的觸頭表面金相分析顯示,觸頭表面是一層鉻在銅中呈非常細(xì)小彌散分布的組織,這層組織不同于開斷前的原始組織,厚度約150微米,鉻顆粒大小約1-5微米。分析認(rèn)為,開斷大電流過程中電弧產(chǎn)生的高溫使觸頭表面的銅鉻發(fā)生了互溶反應(yīng),熄弧后,隨著溫度的下降,觸頭表面銅鉻熔液中的鉻結(jié)晶,從銅中過飽和析出,而真空滅弧室導(dǎo)電系統(tǒng)良好的導(dǎo)熱性為銅鉻觸頭提供了很強(qiáng)的散熱能力,使銅鉻熔液迅速冷凝,形成了鉻在銅中呈細(xì)小彌散分布的組織。
因此,除了通常采用的粉末冶金方法外,冶煉的方法不僅可以制造銅鉻材料,而且可以獲得鉻在銅中呈細(xì)小彌散分布的銅鉻組織:(1)把銅和鉻加熱到鉻的熔點(diǎn)1890℃以上使其熔化;(2)凝固時(shí)為銅鉻熔液提供足夠快的冷卻速度,即可用冶煉的方法制造機(jī)械混合物組織的銅鉻材料。這為真空電弧熔煉工藝制造銅鉻觸頭材料提供了依據(jù)。
觸頭材料是一種金屬功能材料。在非納米概念的范疇,當(dāng)觸頭材料的結(jié)晶組織是假合金、機(jī)械混合物時(shí),發(fā)揮和承擔(dān)電接觸功能的作用主要是靠觸頭材料組成元素本身的物理和化學(xué)性質(zhì)。而理想的組織結(jié)構(gòu)則能改善材料的性能,能更充分地發(fā)揮其有利的物理和化學(xué)性質(zhì)的作用,同時(shí)抑制不利的物理和化學(xué)性質(zhì)產(chǎn)生的影響。在觸頭材料研究中,首先要解決的兩個(gè)問題是:(1)選擇理想的組元和成分;(2)尋求理想的組織結(jié)構(gòu)。其后才是如何實(shí)現(xiàn)理想的組元成分和組織結(jié)構(gòu),最終實(shí)現(xiàn)研究工作的目標(biāo)。
由于銅和鉻既不固溶,也不形成金屬間化合物,使得銅鉻材料不僅保持了銅和鉻各自單一的特性,而且還保存著它們共同的特性。當(dāng)銅鉻材料用作真空斷路器觸頭時(shí),銅和鉻的這些單一特性和共同特性承擔(dān)著真空斷路器觸頭的主要功能作用,也使其表現(xiàn)出比原先使用的銅中添加低熔點(diǎn)高蒸氣壓元素等其他觸頭材料更為優(yōu)異的綜合電氣特性,即銅具有良好的導(dǎo)電和導(dǎo)熱性能,是理想的觸頭材料組元(在真空下表現(xiàn)得更為突出),使銅鉻材料具有承載和分?jǐn)啻箅娏鞯哪芰Γ汇t具有較高的熔點(diǎn)和機(jī)械強(qiáng)度、低的截流水平和強(qiáng)的親氧性,使銅鉻材料具有耐電弧燒、抗熔、截流水平低和介質(zhì)強(qiáng)度恢復(fù)快等特性;為難得的是,銅和鉻具有相近的蒸氣壓,使得銅鉻觸頭在真空電弧的作用下,表面的銅和鉻蒸發(fā)和冷凝的速度相當(dāng),觸頭表面始終能基本保持其原有的成分,觸頭不會(huì)因?yàn)榻?jīng)過多次分?jǐn)嗪螅砻娉煞职l(fā)生變化而導(dǎo)致觸頭電氣性能的變化。這對(duì)保證電器可靠性是非常重要的。
經(jīng)過電弧熔煉的銅鉻觸頭材料與粉末冶金方法制造的銅鉻觸頭材料相比,結(jié)晶組織中夾雜的數(shù)量要少得多、顆粒要小得多,這些夾雜主要是金屬氧化物,如氧化鋁、氧化鉻和氧化硅,在電弧熔煉過程中,制成自耗電極的銅和鉻逐漸被熔化,銅鉻鑄錠隨之長高,為了保證整個(gè)鑄錠組織的均勻性,在熔煉過程中鑄錠必須始終保持一段連續(xù)的熔池。由于金屬氧化物的熔點(diǎn)高、比重小,銅和鉻熔化后,金屬氧化物會(huì)上浮,聚積在熔池的表面,隨熔池移至鑄錠的頂端,直到熔煉結(jié)束后而被切除;或被電弧吹到熔池邊緣,冷凝在鑄錠外圓表面而被去除;電弧熔煉的真空氛圍還有利于銅和鉻中低熔點(diǎn)高蒸氣壓元素的去除。可見,真空自耗熔煉有區(qū)域熔煉的提純效果。
本標(biāo)準(zhǔn)代替JB/T 7098—1993《銅鉻觸頭材料技術(shù)條件》。
本標(biāo)準(zhǔn)與JB/T 7098—1993相比主要變化如下:
——標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)按GB/T 1.1—2000《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則 第1部分:標(biāo)準(zhǔn)的結(jié)構(gòu)和編寫規(guī)則》的要求重新進(jìn)行編排:
——標(biāo)注增加區(qū)分生產(chǎn)工藝的代表符號(hào)(見第3章);
——增加了銅鉻(25)電觸頭(見第4章);
——為與國際慣例接軌,硬度值的單位改為采用kgf/mm2且不標(biāo)單位(見4.1中表1);
——對(duì)電觸頭表面富集相的要求提高(1993年版的4.2,本版的4.3);
——金相組織圖例增加了電弧熔煉法和真空熔鑄法生產(chǎn)的銅鉻電觸頭(1993年版的4.4,本版本的附錄A);
——對(duì)抽樣進(jìn)行適當(dāng)?shù)恼{(diào)整(1993年版第6章;本版本的第5章);
本標(biāo)準(zhǔn)的附錄A、附錄B為規(guī)范性附錄。
本標(biāo)準(zhǔn)由中國機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)提出。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國電工合金標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:謝忠光、王文靜、方寧象、元復(fù)興、葉凡、伍明輝、李剛、陳軍平、韓勇、魏從仁。
本標(biāo)準(zhǔn)于1993年首次發(fā)布,本次為第一次修訂。