微機(jī)械,微流體器件,生物支架等的制作。 2100433B
最小成型厚度2um;最大成型尺寸XZY各30mm;使用he-cd激光器,可選多種快速成型用樹(shù)脂。
DEH系統(tǒng)主要功能: 汽輪機(jī)轉(zhuǎn)速控制;自動(dòng)同期控制;負(fù)荷控制;參與一次調(diào)頻;機(jī)、爐協(xié)調(diào)控制;快速減負(fù)荷;主汽壓控制;單閥控制、多閥解耦控制;閥門(mén)試驗(yàn);輪機(jī)程控啟動(dòng);OPC控制;甩負(fù)荷及失磁工況控制;...
⒈保水.保水劑不溶于水,但能吸收相當(dāng)自身重量成百倍的水.保水劑可有效抑制水分蒸發(fā).土壤中滲入保水劑后,在很大程度上抑制了水分蒸發(fā),提高了土壤飽和含水量,降低了土壤的飽和導(dǎo)水率,從而減緩了土壤釋放水的速...
變頻器的作用是改變交流電機(jī)供電的頻率和幅值,因而改變其運(yùn)動(dòng)磁場(chǎng)的周期,達(dá)到平滑控制電動(dòng)機(jī)轉(zhuǎn)速的目的。變頻器的出現(xiàn),使得復(fù)雜的調(diào)速控制簡(jiǎn)單化,用變頻器+交流鼠籠式感應(yīng)電動(dòng)機(jī)組合替代了大部分原先只能用直流...
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評(píng)分: 4.5
道閘 主要功能: 功能一,手動(dòng)按鈕可作 ‘升’‘降’及‘?!僮?、無(wú)線遙控可作 ‘升’‘降’‘停’及對(duì)手動(dòng)按鈕的 ‘加鎖’‘解鎖 ’操作 ; 功能二,停電自動(dòng)解鎖,停電后可手動(dòng)抬桿 ; 功能三,具有便于維護(hù)與調(diào)試的 ‘自檢模式 ’; 道閘 道閘又稱(chēng)擋車(chē)器,最初從國(guó)外引進(jìn),英文名叫 Barrier Gate ,是專(zhuān)門(mén)用于道路上限 制機(jī)動(dòng)車(chē)行駛的通道出入口管理設(shè)備 ,現(xiàn)廣泛應(yīng)用于公路收費(fèi)站、 停車(chē)場(chǎng)系統(tǒng) 管理車(chē) 輛通道,用于管理車(chē)輛的出入。電動(dòng)道閘可單獨(dú)通過(guò)無(wú)線遙控實(shí)現(xiàn)起落桿,也可以通過(guò) 停車(chē)場(chǎng)管理系統(tǒng) (即 IC 刷卡管理系統(tǒng))實(shí)行自動(dòng)管理狀態(tài),入場(chǎng)取卡放行車(chē)輛,出場(chǎng) 時(shí),收取 停車(chē)費(fèi) 后自動(dòng)放行車(chē)輛。
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評(píng)分: 4.6
電氣控制設(shè)備有四大主要功能
光刻圖形缺陷的來(lái)源主要有三種:一是材料帶來(lái)的,例如,光刻膠過(guò)期形成的懸浮顆粒;二是設(shè)備產(chǎn)生的,例如,旋涂時(shí)勻膠顯影機(jī)內(nèi)的顆粒掉在晶圓表面;三是不完善的工藝產(chǎn)生的,例如曝光條件偏離了最佳點(diǎn),導(dǎo)致圖形質(zhì)量下降,出現(xiàn)圖形丟失(missing pattern)。
為了確保工藝中盡量少地出現(xiàn)缺陷,在光刻中一般分兩個(gè)部分來(lái)監(jiān)測(cè)。一是旋涂后光刻膠薄膜中顆粒的監(jiān)測(cè),即所謂旋涂缺陷(coating defects)。二是曝光后圖形的缺陷檢測(cè)。
集成電路制造中利用光學(xué)-化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法,將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上,形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術(shù)。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2~3個(gè)數(shù)量級(jí)(從毫米級(jí)到亞微米級(jí)),已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、X射線、微離子束、激光等新技術(shù);使用波長(zhǎng)已從4000埃擴(kuò)展到0.1埃數(shù)量級(jí)范圍。光刻技術(shù)成為一種精密的微細(xì)加工技術(shù)。
常規(guī)光刻技術(shù)是采用波長(zhǎng)為2000~4500埃的紫外光作為圖像信息載體,以光致抗蝕劑為中間(圖像記錄)媒介實(shí)現(xiàn)圖形的變換、轉(zhuǎn)移和處理,最終把圖像信息傳遞到晶片(主要指硅片)或介質(zhì)層上的一種工藝(圖1)。在廣義上,它包括光復(fù)印和刻蝕工藝兩個(gè)主要方面。
在平面晶體管和集成電路的制造過(guò)程中,要進(jìn)行多次光刻。為此,必須制備一組具有特定幾何圖形的光刻掩模。制版的任務(wù)就是根據(jù)晶體管和集成電路參數(shù)所要求的幾何圖形,按照選定的方法,制備出生產(chǎn)上所要求的尺寸和精度的掩模圖案,并以一定的間距和布局,將圖案重復(fù)排列于掩?;希M(jìn)而復(fù)制批量生產(chǎn)用版,供光刻工藝曝光之用。