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XRD 即X-ray diffraction 的縮寫,是X射線衍射,通過對材料進行X射線衍射,分析其衍射圖譜,獲得材料的成分、材料內(nèi)部原子或分子的結(jié)構(gòu)或形態(tài)等信息的研究手段。

xrd基本信息

中文名稱 X射線衍射 外文名稱 X-ray diffraction
別名 XRD 本質(zhì) 電磁波
波長 約為20~0.06埃 應(yīng)用 對材料進行X射線衍射獲取信息

通常定量分析的樣品細度應(yīng)在45微米左右,即應(yīng)過325目篩。

xrd造價信息

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塑殼斷路器 NZM2-XRD110-130AC產(chǎn)品描述:遠程操作機構(gòu)(不可帶機械連鎖);訂貨號:115390; 查看價格 查看價格

伊頓

13% 石家莊依頓商貿(mào)有限公司
塑殼斷路器 NZM2-XRD220-250DC產(chǎn)品描述:遠程操作機構(gòu)(不可帶機械連鎖);訂貨號:115395; 查看價格 查看價格

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中桿燈 高壓鈉燈 3x400W-16m熔斷器 3xRD-14-10|1臺 1 查看價格 中山市興凱照明有限公司 全國   2020-04-01
中桿燈(含3×400W高壓鈉燈)(A2類) 高壓鈉燈 3x400W-16m熔斷器 3xRD-14-10|2套 3 查看價格 四川華體照明科技股份有限公司 四川   2020-04-27
中桿燈(含3×400W高壓鈉燈)(A1類) 高壓鈉燈 3x400W-16m熔斷器 3xRD-14-10|3套 3 查看價格 四川華體照明科技股份有限公司 四川   2020-04-27
中桿燈(含3×400W高壓鈉燈)(A3類) 高壓鈉燈 3x400W-16m熔斷器 3xRD-14-10|2套 3 查看價格 四川華體照明科技股份有限公司 四川   2020-04-27
中桿燈(含3×400W高壓鈉燈)(C類) 高壓鈉燈 3x400W-16m熔斷器 3xRD-14-10|7套 3 查看價格 四川華體照明科技股份有限公司 四川   2020-04-27
雙挑路燈(含150W+100W高壓鈉燈)(B2類) 高壓鈉燈 150W+100W-10/1.5m 熔斷器 2xRD-14-4|2套 3 查看價格 四川華體照明科技股份有限公司 四川   2020-04-27
雙挑路燈(含150W+100W高壓鈉燈)(C類) 高壓鈉燈 150W+100W-10/1.5m 熔斷器 2xRD-14-4|64套 3 查看價格 四川華體照明科技股份有限公司 四川   2020-04-27
雙挑路燈(含150W+100W高壓鈉燈)(B3類) 高壓鈉燈 150W+100W-10/1.5m 熔斷器 2xRD-14-4|2套 3 查看價格 四川華體照明科技股份有限公司 四川   2020-04-27

xrd實際應(yīng)用

應(yīng)用價值

X射線衍射現(xiàn)象發(fā)現(xiàn)后,很快被用于研究金屬和合金的晶體結(jié)構(gòu),出現(xiàn)了許多具有重大意義的結(jié)果。如韋斯特格倫(A.Westgren)(1922年)證明α、γ和δ鐵都是體心立方結(jié)構(gòu),γ-Fe并不是一種新相;而鐵中的α─→γ轉(zhuǎn)變實質(zhì)上是由體心立方晶體轉(zhuǎn)變?yōu)槊嫘牧⒎骄w,從而最終否定了γ-Fe硬化理論。隨后,在用X射線測定眾多金屬和合金的晶體結(jié)構(gòu)的同時,在相圖測定以及在固態(tài)相變和范性形變研究等領(lǐng)域中均取得了豐碩的成果。如對超點陣結(jié)構(gòu)的發(fā)現(xiàn),推動了對合金中有序無序轉(zhuǎn)變的研究,對馬氏體相變晶體學(xué)的測定,確定了馬氏體和奧氏體的取向關(guān)系;對鋁銅合金脫溶的研究等等。

應(yīng)用現(xiàn)狀

目前 X射線衍射(包括散射)已經(jīng)成為研究晶體物質(zhì)和某些非晶態(tài)物質(zhì)微觀結(jié)構(gòu)的有效方法。在金屬中的主要應(yīng)用有以下方面:

物相分析 是 X射線衍射在金屬中用得最多的方面,分定性分析和定量分析。前者把對材料測得的點陣平面間距及衍射強度與標準物相的衍射數(shù)據(jù)相比較,確定材料中存在的物相;后者則根據(jù)衍射花樣的強度,確定材料中各相的含量。在研究性能和各相含量的關(guān)系和檢查材料的成分配比及隨后的處理規(guī)程是否合理等方面都得到廣泛應(yīng)用。

精密測定點陣參數(shù) 常用于相圖的固態(tài)溶解度曲線的測定。溶解度的變化往往引起點陣常數(shù)的變化;當(dāng)達到溶解限后,溶質(zhì)的繼續(xù)增加引起新相的析出,不再引起點陣常數(shù)的變化。這個轉(zhuǎn)折點即為溶解限。另外點陣常數(shù)的精密測定可得到單位晶胞原子數(shù),從而確定固溶體類型;還可以計算出密度、膨脹系數(shù)等有用的物理常數(shù)。

取向分析 包括測定單晶取向和多晶的結(jié)構(gòu)(見擇優(yōu)取向)。測定硅鋼片的取向就是一例。另外,為研究金屬的范性形變過程,如孿生、滑移、滑移面的轉(zhuǎn)動等,也與取向的測定有關(guān)。

晶粒(嵌鑲塊)大小和微觀應(yīng)力的測定 由衍射花樣的形狀和強度可計算晶粒和微應(yīng)力的大小。在形變和熱處理過程中這兩者有明顯變化,它直接影響材料的性能。

宏觀應(yīng)力的測定 宏觀殘留應(yīng)力的方向和大小,直接影響機器零件的使用壽命。利用測量點陣平面在不同方向上的間距的變化,可計算出殘留應(yīng)力的大小和方向。

對晶體結(jié)構(gòu)不完整性的研究 包括對層錯、位錯、原子靜態(tài)或動態(tài)地偏離平衡位置,短程有序,原子偏聚等方面的研究(見晶體缺陷)。

合金相變 包括脫溶、有序無序轉(zhuǎn)變、母相新相的晶體學(xué)關(guān)系,等等。

結(jié)構(gòu)分析 對新發(fā)現(xiàn)的合金相進行測定,確定點陣類型、點陣參數(shù)、對稱性、原子位置等晶體學(xué)數(shù)據(jù)。

液態(tài)金屬和非晶態(tài)金屬 研究非晶態(tài)金屬和液態(tài)金屬結(jié)構(gòu),如測定近程序參量、配位數(shù)等。

特殊狀態(tài)下的分析 在高溫、低溫和瞬時的動態(tài)分析。

此外,小角度散射用于研究電子濃度不均勻區(qū)的形狀和大小,X射線形貌術(shù)用于研究近完整晶體中的缺陷如位錯線等,也得到了重視。

物相分析

對于組成元素未知的單組份化合物或者多組分混合物,直接用XRD進行物相分析是存在一定問題的,由于同族的元素具有相似的性質(zhì)和晶體結(jié)構(gòu)。造成在同位置出現(xiàn)衍射峰,從而不能確定物相。所以對于未知組成的晶態(tài)化合物首先要進行元素的定性分析。

X射線是一種波長很短(約為20~0.06埃)的電磁波,能穿透一定厚度的物質(zhì),并能使熒光物質(zhì)發(fā)光、照相乳膠感光、氣體電離。在用電子束轟擊金屬"靶"產(chǎn)生的X射線中,包含與靶中各種元素對應(yīng)的具有特定波長的X射線,稱為特征(或標識)X射線。

xrd常見問題

X射線是原子內(nèi)層電子在高速運動電子的轟擊下躍遷而產(chǎn)生的光輻射,主要有連續(xù)X射線和特征X射線兩種。晶體可被用作X光的光柵,這些很大數(shù)目的粒子(原子、離子或分子)所產(chǎn)生的相干散射將會發(fā)生光的干涉作用,從而使得散射的X射線的強度增強或減弱。由于大量粒子散射波的疊加,互相干涉而產(chǎn)生最大強度的光束稱為X射線的衍射線。

滿足衍射條件,可應(yīng)用布拉格公式:2dsinθ=nλ

應(yīng)用已知波長的X射線來測量θ角,從而計算出晶面間距d,這是用于X射線結(jié)構(gòu)分析;另一個是應(yīng)用已知d的晶體來測量θ角,從而計算出特征X射線的波長,進而可在已有資料查出試樣中所含的元素。

金屬X射線分析由于設(shè)備和技術(shù)的普及已逐步變成金屬研究和材料測試的常規(guī)方法。早期多用照相法,這種方法費時較長,強度測量的精確度低。50年代初問世的計數(shù)器衍射儀法具有快速、強度測量準確,并可配備計算機控制等優(yōu)點,已經(jīng)得到廣泛的應(yīng)用。但使用單色器的照相法在微量樣品和探索未知新相的分析中仍有自己的特色。從70年代以來,隨著高強度X射線源(包括超高強度的旋轉(zhuǎn)陽極X射線發(fā)生器、電子同步加速輻射,高壓脈沖X射線源)和高靈敏度探測器的出現(xiàn)以及電子計算機分析的應(yīng)用,使金屬 X射線學(xué)獲得新的推動力。這些新技術(shù)的結(jié)合,不僅大大加快分析速度,提高精度,而且可以進行瞬時的動態(tài)觀察以及對更為微弱或精細效應(yīng)的研究。

X射線衍射儀是利用衍射原理,精確測定物質(zhì)的晶體結(jié)構(gòu),織構(gòu)及應(yīng)力,精確的進行物相分析,定性分析,定量分析.廣泛應(yīng)用于冶金,石油,化工,科研,航空航天,教學(xué),材料生產(chǎn)等領(lǐng)域.

X射線是波長介于紫外線和γ射線間的電磁輻射。X射線管是具有陰極和陽極的真空管,陰極用鎢絲制成,通電后可發(fā)射熱電子,陽極(就稱靶極)用高熔點金屬制成(一般用鎢,用于晶體結(jié)構(gòu)分析的X射線管還可用鐵、銅、鎳等材料)。用幾萬伏至幾十萬伏的高壓加速電子,電子束轟擊靶極,X射線從靶極發(fā)出。電子轟擊靶極時會產(chǎn)生高溫,故靶極必須用水冷卻。

XRDX-射線衍射(Wide Angle X-ray Diffraction)主要是對照標準譜圖分析納米粒子的組成,分析粒徑,結(jié)晶度等。

應(yīng)用時應(yīng)先對所制樣品的成分進行確認。在確定后,查閱相關(guān)手冊標準圖譜,以確定所制樣品是否為所得。

勞埃利用連續(xù)X射線照射硫酸銅單晶體獲得衍射斑點圖就是第一個用于晶體研究的例子,勞埃同時推導(dǎo)勞埃的衍射方程研究晶體結(jié)構(gòu)。從那以后布拉格父子等一批物理學(xué)家和化學(xué)家利用X射線衍射研究了許多無機物晶體結(jié)構(gòu);上世紀20年代開展了有機物晶體結(jié)構(gòu)的測定工作,30年代開始利用X射線對胃蛋白酶、胰島素等蛋白質(zhì)和生物物質(zhì)晶體結(jié)構(gòu)進行研究。至今經(jīng)過許多科學(xué)工作者的努力,積累了大量的晶體結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù),現(xiàn)在已經(jīng)有20多萬種,并在國際上建立了五種主要的晶體學(xué)數(shù)據(jù)庫。

(1)劍橋結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)庫(The Cambridge Structural Database,CSD)。它有近16萬種X射線或中子衍射測定的三維晶體結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)(統(tǒng)計到1997年)。該數(shù)據(jù)庫收集含碳化合物(包括有機物、有機金屬化合物及無機含碳化合物,如碳酸鹽等)的結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)。有多種檢索方法如:化合物名稱、作者姓名、某些原子基團、整個分子或部分化學(xué)結(jié)構(gòu)等。

(2)蛋白質(zhì)數(shù)據(jù)庫(The Protein Data Bank,PDB)。該庫開始建立于1971年,建立在美國Brookhaven國家實驗室?,F(xiàn)已有127020多個生物大分子的三維結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)(統(tǒng)計到2017年初)。數(shù)據(jù)庫中對每個蛋白質(zhì)晶體列出下列內(nèi)容:收集的衍射數(shù)目、修正方法、偏差數(shù)值、已測定水分子位置的數(shù)目、蛋白質(zhì)分子中氨基酸連接次序、螺旋、折疊層及轉(zhuǎn)彎的分析、原子坐標參數(shù),以及和蛋白質(zhì)結(jié)合的金屬原子、底物及抑制劑等的坐標參數(shù)等。

(3)無機晶體結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)庫(The Inorganic Crystal Structural Database),建立在德國,約3萬多個無機化合物的結(jié)構(gòu)(不含C-C和C-H鍵的化合物)。

(4)NRCC金屬晶體學(xué)數(shù)據(jù)文件(The National Research Council of Canada Crystallographic Data File,NRCC)。該建立在加拿大,約為1.1萬個金屬合金、金屬間物相及部分金屬氫化物和氧化物。

(5)粉末衍射數(shù)據(jù)文件(The Powder Diffraction File)。該庫建立在美國,匯集有6.7萬種單相物質(zhì)的粉晶衍射資料(統(tǒng)計到1997年) ,稱為國際衍射數(shù)據(jù)中心的粉晶數(shù)據(jù)庫(JCPDS-ICDD)。儲存各化合物的晶面間距dhkl和相對強度、晶胞、空間群和密度等數(shù)據(jù),主要用于物質(zhì)的鑒定。

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XRD類型及特點 XRD類型及特點

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常用的 XRD 分析軟件有 4種: 1.pcpdgwin 我認為是最原始的了。它是在衍射圖譜標定以后,按照 d 值檢索。一般可以有 限定元素、 按照三強線、 結(jié)合法等方法。 所檢索出的卡片多時候不對。 一張復(fù)雜的衍射譜有 時候一天也搞不定。 2.search match 可以實現(xiàn)和原始實驗數(shù)據(jù)的直接對接,可以自動或手動標定衍射峰的位置, 對于一般的圖都能很好的應(yīng)付。而且有幾個小工具使用很方便。如放大功能、十字定位線、 坐標指示按鈕、 網(wǎng)格線條等。 最重要的是它有自動檢索功能。 可以幫你很方便的檢索出你要 找的物相。 也可以進行各種限定以縮小檢索范圍。 如果你對于你的材料較為熟悉的話, 對于 一張含有 4、5 相的圖譜,檢索也就 3分鐘。效率很高。而且它還有自動生成實驗報告的功 能! 3.high score 幾乎 search match中所有的功能, highscore 都具備, 而且它

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簡單地說螢光X射線裝置(XRF)和X射線衍射裝置(XRD)有何不同,螢光X射線裝置(XRF)能得到某物質(zhì)中的元素信息(物質(zhì)構(gòu)成,組成和鍍層厚度),X射線衍射裝置(XRD)能得到某物質(zhì)中的結(jié)晶信息。

具體地說,比如用不同的裝置測定食鹽(氯化鈉=NaCl)時,從螢光X射線裝置得到的信息為此物質(zhì)由鈉(Na)和氯(Cl)構(gòu)成,而從X射線衍射裝置得到的信息為此物質(zhì)由氯化鈉(NaCl)的結(jié)晶構(gòu)成。單純地看也許會認為能知道結(jié)晶狀態(tài)的X射線衍射裝置(XRD為好,但當(dāng)測定含多種化合物的物質(zhì)時只用衍射裝置(XRD)就很難判定,必須先用螢光X射線裝置(XRF)得到元素信息后才能進行定性。

俗話說:“磨刀不誤砍柴工”了解XRD樣本的要求、制備過程并細心的制作XRD樣品,可以起到事半功倍的效果,而不是本末倒置,急于得到衍射圖譜而粗心準備樣品,這樣往往引起實驗數(shù)據(jù)誤差,從而給結(jié)果分析帶來困難,浪費大量的分析時間。

1. XRD運用對象

X射線衍射儀技術(shù)可以獲得材料的晶體結(jié)構(gòu)、結(jié)晶狀態(tài)等參數(shù),這些材料包括金屬材料和非金屬材料,大致如下:

X射線衍射技術(shù)可以分析研究金屬固溶體、合金相結(jié)構(gòu)、氧化物相合成、材料結(jié)晶狀態(tài)、金屬合金化、金屬合金薄膜與取向焊接金屬相、各種纖維結(jié)構(gòu)與取相、結(jié)晶度、原料的晶型結(jié)構(gòu)檢驗、金屬的氧化、各種陶瓷與合金的相變、晶格參數(shù)測定、非晶態(tài)結(jié)構(gòu)、納米材料粒度、礦物原料結(jié)構(gòu)、建筑材料相分析、水泥的物相分析等。

非金屬材料的X射線衍射技術(shù)可以分析材料合成結(jié)構(gòu)、氧化物固相相轉(zhuǎn)變、電化學(xué)材料結(jié)構(gòu)變化、納米材料摻雜、催化劑材料摻雜、晶體材料結(jié)構(gòu)、金屬非金屬氧化膜、高分子材料結(jié)晶度、各種沉積物、揮發(fā)物、化學(xué)產(chǎn)物、氧化膜相分析、化學(xué)鍍電鍍層相分析等。

2. XRD樣品制樣要求

XRD可以測量塊狀和粉末狀的樣品,對于不同的樣品尺寸和樣品性質(zhì)有不同的要求,下面對分別對其作簡要的介紹:

圖1 XRD樣品制備

(1)塊狀樣品的要求及制備

對于非斷口的金屬塊狀試樣,需要了解金屬自身的相組成、結(jié)構(gòu)參數(shù)時,應(yīng)該盡可能的磨成平面,并進行簡單的拋光,這樣不但可以去除金屬表面的氧化膜,也可以消除表面應(yīng)變層。然后再用超聲波清洗去除表面的雜質(zhì),但要保證試樣的面積應(yīng)大于10 × 10 mm,因為XRD是掃過一個區(qū)域得到衍射峰,對試樣需要一定的尺寸要求。

對于薄膜試樣,其厚度應(yīng)大于20 nm,并在做測試前檢驗確定基片的取向,如果表面十分不平整,根據(jù)實際情況可以用導(dǎo)電膠或者橡皮泥對樣本進行固定,并使樣品表面盡可能的平整。

對于片狀、圓柱狀的試樣會存在嚴重的擇優(yōu)取向,造成衍射強度異常,此時在測試時應(yīng)合理的選擇響應(yīng)方向平面。

對于斷口、裂紋的表面衍射分子,要求端口盡可能的平整并提供斷口所含元素。

(2) 粉末樣品的要求及制備

顆粒度的要求:

對粉末樣品進行X射線粉末衍射儀分析時,適宜的晶粒大小應(yīng)在320目粒度(約40 um)的數(shù)量級內(nèi),這樣可以避免衍射線的寬化,得到良好的衍射線。

原因:任何一種粉末衍射技術(shù)都要求樣品是十分細小的粉末顆粒,使試樣在受光照的體積中有足夠多數(shù)目的晶粒。因為只有這樣,才能滿足獲得正確的粉末衍射圖譜數(shù)據(jù)的條件:即試樣受光照體積中晶粒的取向是完全隨機的。這樣才能保證用照相法獲得相片上的衍射環(huán)是連續(xù)的線條;或者,才能保證用衍射儀法獲得的衍射強度值有很好的重現(xiàn)性。

樣品試片平面的準備:

在X射線衍射時,雖然樣品平面不與衍射儀軸重合、聚焦圓相切會引起衍射線的寬化、位移及強度發(fā)生復(fù)雜的變化,但在實際試驗中,如要求準確測量強度時,一般首先考慮如何避免擇優(yōu)取向的產(chǎn)生而不是平整度。

圖2 (來源:education.mrsec.wisc.edu)

避免擇優(yōu)取向的措施:

使樣品粉末盡可能的細,裝樣時用篩子篩入,先用小抹刀刀口剁實并盡可能輕壓等等。

把樣品粉末篩落在傾斜放置的粘有膠的平面上通常也能減少擇優(yōu)取向,但是得到的樣品表面較粗糙。

通過加入各向同性物質(zhì)(如 MgO,CaF2等)與樣品混合均勻,混入物還能起到內(nèi)標的作用。

對于具有十分細小晶粒的金屬樣品,采用形變的方法(碾、壓等)把樣品制成平板使用時也常常會導(dǎo)致?lián)駜?yōu)取向的織構(gòu),需要考慮適當(dāng)?shù)耐嘶鹛幚怼?/p>

圖3 各種樣品試片

粉末樣品的制備

研磨(球墨)和過篩:對固體顆粒采用研缽(球磨機)進行研磨,一般對粉末進行持續(xù)的研磨至低于360目的粉末,手摸無顆粒感,認為晶粒大小已經(jīng)符合要求。

注意:

(1)在研磨過程中,需要不斷過篩,分出已經(jīng)細化的顆粒。

(2)對于軟而不便于研磨的物質(zhì),可采用液氮或干冰使其變脆,在進行研磨。

(3)有些樣品需要用整形銼刀制得金屬細屑,此時需要對制得的挫屑進行退火處理消除銼刀帶來的點陣應(yīng)力。

圖4 制粉流程操作流程

涂片法:把粉末撒在一片大小約 25 × 35 × 1 mm3的顯微鏡載片上(撒粉的位置要相當(dāng)于制樣框窗孔位置),然后加上足夠量的丙酮或酒精(假如樣品在其中不溶解),使粉末成為薄層漿液狀,均勻地涂布開來,粉末的量只需能夠形成一個單顆粒層的厚度就可以,待丙酮蒸發(fā)后,粉末粘附在玻璃片上,可供衍射儀使用,若樣品試片需要永久保存,可滴上一滴稀的膠粘劑。

壓片法:如圖4把樣品粉末盡可能均勻地灑入(最好是用細篩子--360目篩入)制樣框的窗口中,再用小抹刀的刀口輕輕剁緊,使粉末在窗孔內(nèi)攤勻堆好,然后用小抹刀把粉末輕輕壓緊,最后用保險刀片(或載玻片的斷口)把多余凸出的粉末削去,然后,小心地把制樣框從玻璃平面上拿起,便能得到一個很平的樣品粉末的平面。

注意:涂片法采用樣品粉末量最少,根據(jù)實際粉末量多少選擇不同的方法。

圖5 壓片法操作流程

3. X射線衍射儀的使用方法

接下來以某品牌XRD進行使用說明

(1)裝填樣品

按下衍射儀面板上的Door按鈕,指示燈閃爍、蜂鳴器發(fā)出報警聲,緩慢的向右拉開衍射儀保護門。

將樣品表面朝上安裝到樣品臺上,此時注意盡可能的將樣品置于載物臺的中心位置。

向左輕拉右側(cè)門,兩門自動吸住后報警聲停止。

圖6 XRD衍射示意圖

(2)設(shè)置儀器參數(shù)

點擊桌面Right Measurement System圖標,進入到軟件控制界面。

雙擊Condition下面的1,進入到測量條件的設(shè)置界面,根據(jù)所測試樣品要求,設(shè)置Start Angle(起始角)、Stop Angle(終止角)、Scan speed(掃描速度)等參數(shù)(注意:一般掃描電壓和掃描電流這些參數(shù)不要更改)

條件設(shè)置好以后,關(guān)閉條件設(shè)置界面,返回主界面(注意:在設(shè)置參數(shù)的時候,XRD的起始角一般是大于3°,終止角小于140°,否則會使測角儀的旋轉(zhuǎn)臂撞到其他部件,使測角儀受到損壞)。

點擊Browse按鈕,進入到保存文件對話框,設(shè)置文件保存位置和樣品名稱后,返回主界面。

(3)開始測試

在主界面上點擊Executement,系統(tǒng)開始調(diào)整KV、MA值,此時彈出新的測量窗口,直到測量完成,測量數(shù)據(jù)自動保存在所設(shè)置為保存位置。

(4)數(shù)據(jù)存盤

一般為了防止U盤存在病毒,拷取實驗數(shù)據(jù)需要光盤。

(5)關(guān)閉系統(tǒng)

在測試的時候根據(jù)實際情況,如果后面仍有學(xué)需要測試,在完成自己樣品測試后,將自己的樣品取出即可。如果沒有人測試,則關(guān)閉X射線衍射儀。

(來源:測了么)

騰龍SPAF17-50mmF2.8XRDillVC

數(shù)碼單反相機變焦鏡頭

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