銦鋅氧化物IZO溶膠的制備

將硝酸銦（Sigma-Aldrich）溶于乙二醇甲醚中，采用磁力攪拌器室溫攪拌，待硝酸銦完全溶解于乙二醇甲醚形成無色透明溶液后，再加入硝酸鋅（Sigma-Aldrich），繼續(xù)攪拌，最后也形成無色透明溶液，再逐滴加入一定量的單乙醇胺穩(wěn)定劑，水浴60℃攪拌2h，室溫時效24h，形成淡黃色透明IZO溶膠。

薄膜晶體管（TFT）在平板顯示領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。銦鋅氧化物薄膜晶體管具有電子遷移率高、開關(guān)比大、均勻性好、透光性佳、電學穩(wěn)定性好等優(yōu)點，在平板顯示及柔性集成電路等方面取得廣泛應(yīng)用。銦鋅氧化物薄膜具有高遷移率和電阻率可控的特點，是一種有前景的氧化物半導體材料，已被用于制備氧化物薄膜晶體管。

IZO薄膜和TFT器件制備：在清洗干凈的玻璃上采用甩膠法旋涂IZO溶膠，前期轉(zhuǎn)速為500r/min，時間為15s；后期轉(zhuǎn)速為2000r/min，時間為1min。然后，在150℃溫度下加熱15min，使溶劑蒸發(fā)，由最初的溶膠變?yōu)槟z。最后，放入加熱爐中300℃退火30min，即可形成IZO薄膜。如果要得到理想厚度的薄膜，提高轉(zhuǎn)速可以降低薄膜厚度，重復上述操作可以增加薄膜厚度。TFT器件采用底柵結(jié)構(gòu)，先在CorningEXG玻璃基板上直流濺射厚度約為100nm的ITO并光刻出柵電極，然后在等離子增強型化學氣相沉積PECVD系統(tǒng)中沉積300nm的SiO₂薄膜作為柵絕緣層，接著濺射100nm的ITO并光刻定義出源漏電極，溝道的寬度和長度分別為100μm和20μm。最后采用旋涂法制備IZO薄膜，光刻出溝道區(qū)域，在300℃下對器件退火處理3h。 2100433B

1概論

1．1銦的發(fā)展簡史

1．2銦的性質(zhì)

1．2．1銦的物理性質(zhì)

1．2．2銦的化學性質(zhì)

1．2．3銦的核性質(zhì)

1．2．4銦的毒性

1．3銦的重要化合物、合金及其性質(zhì)

1．3．1銦的氧化物和氫氧化物

1．3．2銦的硫化物和硫酸鹽

1．3．3銦的鹵化物

1．3．4銦的磷化物、砷化物、銻化物及磷酸鹽、砷酸鹽

1．3．5銦的氮化物和硝酸鹽

1．3．6銦的硒化物和碲化物

1．3．7銦的氫化物

1．3．8銦的有機酸鹽及其衍生物

1．3．9銦的有機化合物

1．3．10銦合金

1．4銦的提取方法

1．4．1銦提取的原則流程

1．4．2從幾種代表性原料中提取銦的方法

2銦產(chǎn)品及其用途和市場

2．1銦產(chǎn)品標準

2．2銦及其化合物的主要用途

2．2．1銦錫氧化物(ITO)的用途

2．2．2半導體銦化合物的用途

2．2．3焊接劑方面的應(yīng)用

2．2．4涂層上的應(yīng)用

2．2．5用于低熔點合金

2．2．6其他銦合金

2．2．7硒銦銅(CuInSe2)

2．2．8原子能工業(yè)方面的應(yīng)用

2．2．9化工工業(yè)上的應(yīng)用

2．2．10電視機方面的其他應(yīng)用

2．2．11光纖通訊方面的應(yīng)用

2．2．12電池防腐方面的應(yīng)用

2．2．13現(xiàn)代軍事技術(shù)中的應(yīng)用

2．3銦的生產(chǎn)及供應(yīng)

2．4銦的消費與需求

2．5銦及其化合物的消費結(jié)構(gòu)

2．6銦的價格

2．7銦的關(guān)稅

2．8展望

3銦資源

3．1銦的地質(zhì)資源

3．1．1銦的地球化學性質(zhì)

3．1．2銦礦物種類

3．1．3含銦的礦物

3．1．4銦礦床

3．1．5銦儲量

3．2銦礦物的選礦富集

3．2．1多金屬礦選礦過程中銦的走向

3．2．2銦在選礦中的行為

3．2．3含銦鋅精礦成分

4提銦原料及其來源

4．1概述

4．2火法煉鋅過程中銦的走向與富集

4．2．1豎罐煉鋅過程中銦的走向與富集

4．2．2鼓風爐煉鋅過程中銦的走向與富集

4．3濕法煉鋅過程中銦的走向與富集

4．3．1中性浸出過程中銦的走向與富集

4．3．2熱酸浸出一黃鉀鐵礬法除鐵過程中銦的走向與富集

4．3．3熱酸浸出一針鐵礦法除鐵過程中銦的走向與富集

4．3．4赤鐵礦法過程中銦的走向與富集

4．4煉鉛、銻過程中銦的走向與富集

4．4．1硫化鉛精礦冶煉過程中銦的走向與富集

4．4．2氧化鉛礦冶煉過程中銦的走向與富集

4．4．3鉛銻精礦冶煉過程中銦的走向與富集

4．5煉錫過程中銦的走向與富集

4．6煉銅過程中銦的走向與富集

4．7高爐煉鐵過程中銦的走向與富集

4．8銦的二次資源

5銦提取冶金的單元過程

5．1概述

5．2還原揮發(fā)及焙燒

5．2．1還原揮發(fā)(煙化)法

5．2．2硫酸化焙燒

5．2．3氯化焙燒(揮發(fā))

5．2．4真空蒸餾

5．3浸出

5．3．1浸出反應(yīng)機理

5．3．2浸出劑

5．3．3銦物料的硫酸浸出

5．3．4浸出設(shè)備

5．3．5液固分離設(shè)備

5．4含銦溶液的沉淀與金屬還原過程

5．4．1概述

5．4．2水解沉淀法

5．4．3硫化沉淀法

5．4．4弱酸鹽沉淀法

5．5溶液金屬還原

5．5．1置換沉積法

5．5．2變價化合物還原法

5．6汞齊法

5．7溶劑萃取

5．7．1概述

5．7．2萃取過程中的化學原理

5．7．3萃取劑、稀釋劑和添加劑

5．7．4萃取體系

5．7．5影響萃取平衡的因素

5．7．6萃取方式與計算

5．7．7萃取設(shè)備

5．7．8萃取過程中的乳化及泡沫問題

5．7．9銦的萃取

5．8離子交換

5．8．1概述

5．8．2離子交換劑

5．8．3離子交換基本原理

5．8．4離子交換工藝和設(shè)備

5．8．5離子交換法應(yīng)用于銦回收的工業(yè)實踐

5．9海綿銦的熔煉過程

5．10銦的精煉

5．10．1概述

5．10．2粗銦預先除鉈、鎘

5．10．3粗銦電解精煉的理論基礎(chǔ)

5．10．4銦電解精煉的技術(shù)條件

5．10．5銦電解精煉的生產(chǎn)實踐

5．10．6銦電解精煉的技術(shù)動向

5．10．7其他銦精煉方法

5．1l銦提取技術(shù)的發(fā)展動向

5．11．1氧壓酸浸

5．11．2液膜萃取

5．11．3CL．P204萃淋樹脂吸萃法的研究

5．11．4活性炭與腐殖酸吸附銦的研究

5．11．5無鐵渣濕法煉鋅提銦新工藝

6銦的提取工藝及實踐

6．1概述

6．2由火法煉鋅副產(chǎn)品提取銦

6．2．1由豎罐煉鋅副產(chǎn)品焦結(jié)煙塵提取銦

6．2．2由火法精餾鋅副產(chǎn)品粗鉛提取銦

6．2．3由火法精餾鋅副產(chǎn)品硬鋅提取銦

6．3由濕法煉鋅的含銦渣提取銦

6．3．1由常規(guī)法濕法煉鋅浸出渣提取鋅

6．3．2由高酸浸出的鐵礬渣提取銦

6．3．3由高酸浸出的針鐵礦渣提取銦

6．3．4由濕法煉鋅的赤鐵礦渣提取銦

6．4由硫化鉛煉鉛過程提取銦

6．4．1粗鉛浮渣反射爐熔煉、煙塵酸浸一萃取回收銦

6．4．2粗鉛堿性精煉渣回收銦

6．4．3粗鉛浮渣還原合金的氯化法提銦

6．4．4粗鉛浮渣還原合金的電解法提銦

6．5由氧化鉛礦煉鉛過程提取銦

6．6由煉錫過程提取銦

6．6．1從焊錫氟硅酸電解液提銦

6．6．2從錫冶煉二次塵和煙化爐塵提銦

6．6．3從金屬錫中提銦

6．6．4粗錫真空蒸餾爐冷凝物提銦

6．7從鉛銻精礦提銦

6．7．1從鉛銻精礦的鼓風爐煙塵提銦

6．7．2從復雜銻鉛精礦直接提銦

6．8從煉銅過程提銦

6．8．1銅陵有色金屬公司的銅煙塵提銦

6．8．2加拿大鷹橋公司的銅煙塵提銦工藝

6．9高爐煉鐵煙塵提銦

6．10由再生資源回收銦

6．10．1由ITO廢靶材合金回收銦

6．10．2由含銦廢合金料回收銦

6．10．3由含銦廢液回收銦

7銦冶金過程的綜合回收

7．1還原揮發(fā)窯窯渣的綜合回收

7．1．1窯渣回收炭

7．1．2窯渣回收鐵

7．1．3窯渣回收鎵

7．2揮發(fā)塵浸出渣的綜合回收

7．2．1浸出渣回收鉛和銀

7．2．2浸出渣回收鉛、鉍

7．2．3浸出渣用選礦法回收鉛和鋅

7．3萃銦余液的綜合回收

7．3．1萃銦余液回收鋅、鎘

7．3．2萃銦余液回收鍺

7．3．3萃銦余液回收鎵

7．3．4萃銦余液回收萃取劑

7．4銦置換后液的綜合回收

7．4．1鋁板置換銦后液回收鋁和鋅

7．4．2鋅板置換銦后液回收氯化鋅

8銦的深加工和主要銦制品

8．1高純銦和超純銦

8．1．1產(chǎn)品規(guī)格

8．1．2主要用途

8．1．3制取方法

8．2細銦粉

8．2．1產(chǎn)品規(guī)格

8．2．2主要用途

8．2．3制備方法

8．3三氧化二銦

8．3．1產(chǎn)品規(guī)格

8．3．2主要用途

8．3．3制備方法

8．4氫氧化銦粉

8．4．1產(chǎn)品規(guī)格

8．4．2主要用途

8．4．3制備方法

8．5高純硫酸銦

8．5．1產(chǎn)品規(guī)格

8．5．2主要用途

8．5．3制備方法

8．6半導體銦化合物

8．6．1銻化銦單晶

8．6．2砷化銦單晶

8．6．3磷化銦單晶

8．6．4以InBv為主的固溶體

8．6．5AIInB2V1型的半導體化合物

8．7ITO(銦錫氧化物)

8．7．1ITO粉

8．7．2納米ITO粉

8．7．3ITO靶材(銦靶)

8．7．4ITO薄膜

8．8三甲基銦(TMIn)

8．8．1產(chǎn)品規(guī)格

8．8．2主要用途

8．8．3制備方法

8．9銦合金

8．9．1銦的二元及多元合金

8．9．2銦的焊料合金

8．9．3銦合金制備

9銦冶煉生產(chǎn)的環(huán)境保護與安全生產(chǎn)

9．1概述

9．2主要環(huán)境標準

9．2．1大氣環(huán)境質(zhì)量標準

9．2．2水質(zhì)標準

9．2．3廢渣控制標準

9．3“三廢”的治理

9．3．1冶煉煙氣的治理

9．3．2含重金屬污水的治理

9．4銦冶煉廠的職業(yè)衛(wèi)生與安全防護

9．4．1銦冶煉廠火法車間塵毒危害和勞動保護

9．4．2銦生產(chǎn)濕法車間的職業(yè)中毒與安全生產(chǎn)

附錄

部分二元及三元銦合金相圖摘編

參考文獻2100433B

本書共有9章，第1章概論；第2章銦產(chǎn)品及其用途和市場；第3章銦資源；第4章提銦原料及其來源；第5章銦提取冶金的單元過程；第6章銦的提取工藝及實踐；第7章銦冶金過程的綜合回收；第8章銦的深加工和主要銦制品；第9章銦冶煉生產(chǎn)的環(huán)境保護與安全生產(chǎn)，并附有二元及三元銦合金相圖摘編若干。本書適合從事銦冶金科研、教學與生產(chǎn)或?qū)χ信d趣的讀者參考閱讀。