紫外臭氧清洗機

光清洗技術的應用范圍十分廣泛，在現代信息技術行業(yè)中使用光清洗技術比較普遍，隨著我國工業(yè)現代化的發(fā)展，光清洗和光改質技術還將逐步應用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產領域。

1、在LCD、OLED生產中，在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經過光清洗，可以極大的提高基體表面潤濕性，增強基體表面的粘合力；

2、印制電路板生產中，對銅底板，印刷底板進行光清洗和改質，在導線焊接前進行光清洗，可以提高熔焊的接觸面積，大大增加連接強度。特別是高精度印制電路板，當線距達到亞微米級時，光清洗可輕易地去除在線距之間很小的微粒，可以大大提高印制電路板的質量。

3、大規(guī)模集成電路的密度越來越高，晶格的微細化越來越密，要求表面的潔凈度越來越高，光清洗可以有效地實現表面的原子清潔度，而且對芯片表面不會造成損傷。

4、在半導體生產中，硅晶片涂保護膜、鋁蒸發(fā)膜前進行光清洗，可以提高粘合力，防止針孔、裂縫的發(fā)生。

5、在光盤的生產中，沉積各種膜前作光清洗準備，可以提高光盤的質量。

6、磁頭固定面的粘合，磁頭涂敷，以及提高金屬絲的連接強度，光清洗后效果更好。

7、石英晶體振蕩器生產中，除去晶體檢測后涂層上的墨跡，晶體在銀蒸發(fā)沉積前，進行光清洗可以提高鍍膜質量和產品性能。

8、在IC卡表面插裝ROM前，經過光清洗可提高產品質量。

9、彩色濾光片生產中，光清洗后能徹底洗凈表面的有機污染物。

10、敷銅箔層壓板生產中，經過光照改質，不僅表面潔凈而且表面形成十分均勻的保護氧化層，產品質量顯著提高。

11、光學玻璃經過紫外光清洗后，鍍膜質量更好。

12、樹脂透鏡光照后，能加強與防反射板的粘貼性。

13、對清除石蠟、松香、油脂、人體體油、殘余的光刻膠、環(huán)氧樹脂、焊劑，以及帶有氧化膜的金屬表面處理，去除導電聚酰亞胺粘合劑上的有機污染物，光清洗是十分有效的方法。

VUV低壓紫外汞燈能同時發(fā)射波長254nm和185nm的紫外光，這兩種波長的光子能量可以直接打開和切斷有機物分子中的共價鍵，使有機物分子活化，分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子等。與此同時，185nm波長紫外光的光能量能將空氣中的氧氣（O2）分解成臭氧（O3）；而254nm波長的紫外光的光能量能將O3分解成O2和活性氧（O），這個光敏氧化反應過程是連續(xù)進行的，在這兩種短波紫外光的照射下，臭氧會不斷的生成和分解，活性氧原子就會不斷的生成，而且越來越多，由于活性氧原子（O）有強烈的氧化作用，與活化了的有機物（即碳氫化合物）分子發(fā)生氧化反應，生成揮發(fā)性氣體（如CO2，CO，H2O，NO等）逸出物體表面，從而徹底清除了粘附在物體表面上的有機污染物。

七十年代中期美國軍事電子技術和器件實驗室應用紫外光照射清洗石英晶片取得滿意的效果。但是，美國在較長的時間里紫外光表面清洗技術主要在軍事領域中進行研究性應用。直到九十年代初，日本和美國先后將UV光清洗機應用于民用光電子產品的工業(yè)生產過程，并開始向我國個別外資LCD企業(yè)在要求技術保密的情況下提供UV光清洗機。隨后，日本在發(fā)展紫外光表面清洗技術的同時，紫外光表面改質技術也得到了發(fā)展。在二十世紀末，日本等先進工業(yè)國家紫外光表面清洗和改質技術由信息產業(yè)逐步擴展到金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產過程。二十世紀九十年代后期，我國的信息技術和產業(yè)以驚人的速度飛速發(fā)展，特別是平板顯示技術的高速發(fā)展，LCD顯示屏由TN級向STN和TFT不斷提升，新型的OLED顯示產品也開始進入市場。由此，對制備工藝過程表面質量要求越來越嚴格，紫外光表面清洗技術的優(yōu)越性已經得到廣泛認可，紫外臭氧清洗機的需求量正在不斷增長。