大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡介

選擇具有良好反射紅外線性能的涂膜,則需具有高電荷載體濃度和移動性。所謂真空鍍膜就是要求結(jié)構(gòu)均勻并缺陷少,且容易流動的電子而形成的鍍膜。所用的金屬主要有金、銀、銅等。其透射率在40％以下,共形成的

由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行?！墩婵斟兡ぜ夹g(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空

由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行?！墩婵斟兡ぜ夹g(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空

由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書：《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行?！墩婵斟兡ぜ夹g(shù)》主要內(nèi)容：薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空化學(xué)氣相沉積（cvd）、離子注入與離子輔助沉積技術(shù)、

由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書：《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行?！墩婵斟兡ぜ夹g(shù)》主要內(nèi)容：薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空化學(xué)氣相沉積（cvd）、離子注入與離子輔助沉積技術(shù)、ito導(dǎo)電玻璃鍍膜工藝、薄膜厚度測量與監(jiān)控、薄膜與表面分析檢測技術(shù)。書中還系統(tǒng)地介紹了反應(yīng)濺射鍍膜、非平衡磁控濺射和中頻交流濺射鍍膜技術(shù)。

由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書：《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行?！墩婵斟兡ぜ夹g(shù)》主要內(nèi)容：薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空化學(xué)氣相沉積（cvd）、離子注入與離子輔助沉積技術(shù)、ito導(dǎo)電玻璃鍍膜工藝、薄膜厚度測量與監(jiān)控、薄膜與表面分析檢測技術(shù)。

由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書：《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行?！墩婵斟兡ぜ夹g(shù)》主要內(nèi)容：薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空化學(xué)氣相沉積（cvd）、離子注入與離子輔助沉積技術(shù)、ito導(dǎo)電玻璃鍍膜工藝、薄膜厚度測量與監(jiān)控、薄膜與表面分析檢測技術(shù)。書中還系統(tǒng)地介紹了反應(yīng)濺射鍍膜、非平衡磁控濺射和中頻交流濺射鍍膜技術(shù)。

由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書：《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行?！墩婵斟兡ぜ夹g(shù)》主要內(nèi)容：薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空化學(xué)氣相沉積（cvd）、離子注入與離子輔助沉積技術(shù)、ito導(dǎo)電玻璃鍍膜工藝、薄膜厚度測量與監(jiān)控、薄膜與表面分析檢測技術(shù)。書中還系統(tǒng)地介紹了反應(yīng)濺射鍍膜、非平衡磁控濺射和中頻交流濺射鍍膜技術(shù)?！墩婵斟兡ぴO(shè)備》詳細(xì)介紹了真空鍍膜設(shè)備的設(shè)計方法與鍍膜機各機構(gòu)元件的設(shè)計計算、設(shè)計參數(shù)的選擇，其中還重點系統(tǒng)地介紹了磁控濺射靶的設(shè)計計算和膜厚均勻性設(shè)計。

由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書：《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行?！墩婵斟兡ぜ夹g(shù)》主要內(nèi)容：薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、

由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行?！墩婵斟兡ぜ夹g(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空化學(xué)氣相沉積(cvd)、離子注入與離子輔助沉積技術(shù)、ito導(dǎo)電玻璃鍍膜工藝、薄膜厚度測量與監(jiān)控、薄膜與表面分析檢測技術(shù)。

本文根據(jù)磁控濺射真空鍍膜生產(chǎn)線上的實踐，對在有色基片和白色基片上鍍制復(fù)合膜系，制備高檔次的幕墻玻璃，介紹一些淺顯的看法

真空鍍膜玻璃作為環(huán)保節(jié)能新型材料有保溫、節(jié)能、降噪、防輻射等作用,隨著建筑、汽車、裝飾裝修、家具、信息產(chǎn)業(yè)技術(shù)等行業(yè)的發(fā)展和人們對生活空間環(huán)境要求的提高,安全玻璃、節(jié)能真空玻璃等功能性加工產(chǎn)品得到廣泛應(yīng)用。生產(chǎn)真空鍍膜玻璃對推動整個國民經(jīng)濟的發(fā)展起著積極作用。

選用含有大量不飽和雙鍵、耐溫性優(yōu)異、流平性好的聚1,2-丁二烯為主要成膜物質(zhì),通過引入長碳鏈?zhǔn)逄冀Y(jié)構(gòu)提高涂膜的流平性能和豐滿度;引入氨酯鍵一方面調(diào)整相對分子質(zhì)量,提高涂膜的分子間力,從而提高涂膜在烘烤固化過程中的抗流掛性能;另一方面提高涂膜與底材的附著力。

敘述了塑料真空鍍膜用底漆的主要作用、基本性能以及熱固化型和紫外光固化型真空鍍膜底漆的發(fā)展概況。

采用離子束濺射法,分別在經(jīng)過不同前期清洗方法處理過的k9及石英玻璃光學(xué)基片上,選擇不同的鍍膜參量,鍍制了多種厚度的au膜。對鍍制的au膜在真空紫外波段較寬波長范圍內(nèi)的反射率進行了連續(xù)測量。測試結(jié)果表明:輔助離子源的使用方式、au膜厚度對反射鏡的反射率有重大影響。基片材料、鍍前基片表面清洗工藝等對反射率也有一定影響。采用鍍前離子轟擊,可顯著提高au膜反射率及膜與基底的粘合力;獲得最高反射率時的最佳膜厚與基片材料、鍍膜工藝密切相關(guān)。對經(jīng)過離子清洗的石英基片,膜厚在30nm左右反射率最高;比較而言,石英基片可獲得更高的反射率;輔助離子源的使用還顯著影響獲得最高反射率時對應(yīng)的最佳膜厚值,且對k9基片的影響更顯著。

深南玻將生產(chǎn)世界一流的PDP用玻璃基片

精品文檔 精品文檔 鍍膜玻璃 鍍膜玻璃是在玻璃表面涂鍍一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜，以改 變玻璃的光學(xué)性能，滿足某種特定要求。 鍍膜玻璃按產(chǎn)品的不同特性，可分為以下幾類：熱反射玻璃、低輻射玻璃 （low-e）、導(dǎo)電膜玻璃等。熱反射玻璃一般是在玻璃表面鍍一層或多層諸如鉻、 鈦或不銹鋼等金屬或其化合物組成的薄膜，使產(chǎn)品呈豐富的色彩，對于可見光有 適當(dāng)?shù)耐干渎剩瑢t外線有較高的反射率，對紫外線有較高吸收率，因此，也稱 為陽光控制玻璃，主要用于建筑和玻璃幕墻；低輻射玻璃是在玻璃表面鍍由多層 銀、銅或錫等金屬或其化合物組成的薄膜系，產(chǎn)品對可見光有較高的透射率，對 紅外線有很高的反射率，具有良好的隔熱性能，主要用于建筑和汽車、船舶等交 通工具，由于膜層強度較差，一般都制成中空玻璃使用；導(dǎo)電膜玻璃是在玻璃表 面涂敷氧化銦錫等導(dǎo)電薄膜，可用于玻璃的加熱、除霜、除霧以

由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行。《真空鍍膜技術(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空化學(xué)氣相沉積(cvd)、離子注入與離子輔助沉積技術(shù)、ito導(dǎo)電玻璃

近日，全國最大的真空鍍膜玻璃建設(shè)項目落戶靖邊縣中小企業(yè)創(chuàng)業(yè)園。該項目占地約67萬m^2，計劃分兩期實施，總投資20．3億元。建成后，每年可生產(chǎn)2000萬m。的真空鍍膜玻璃，產(chǎn)值可達92億元，實現(xiàn)稅收9．3億元，是世界首條可以高效連續(xù)生產(chǎn)的產(chǎn)業(yè)化真空玻璃生產(chǎn)線。該項目充分利用靖邊天然氣資源充足的優(yōu)勢，結(jié)合美國vecast公司世界領(lǐng)先的專有技術(shù)，高效率地生產(chǎn)納米陶瓷真空鍍膜玻璃。該產(chǎn)品是環(huán)保節(jié)能的新型材料，產(chǎn)業(yè)鏈長、可衍生多種高效節(jié)能環(huán)保材料，可廣泛應(yīng)用在建筑、汽車、火車、輪船、冰箱電器及航空、航天等領(lǐng)域。該項目落戶在靖邊落地建設(shè)對調(diào)整地方產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)變經(jīng)濟增長方式有著重要意義。

玻璃基片是制作光盤的重要元件。本文介紹了玻璃光盤基片的離子交換增強原理和方法,給出了鈉鈣硅玻璃離子交換增強處理結(jié)果和直徑130mm增強玻璃光盤基片的技術(shù)性能。

采用直流反應(yīng)磁控濺射法在玻璃片上制備了tin薄膜,研究不同制備工藝條件與薄膜性能之間的關(guān)系。用紫外-可見光分光光度計測試了不同沉積時間和n2流量條件下tin薄膜透光率;用x射線衍射儀分析了不同n2流量和濺射功率條件下tin薄膜結(jié)構(gòu);用掃描電鏡(sem)觀察了tin薄膜的表面腐蝕形貌,用恒電位儀對tin薄膜的耐腐蝕性進行了分析。結(jié)果表明:當(dāng)沉積時間為2min,n2流量為15ml/min時,在可見光區(qū)有較高的透光率,在近紅外區(qū)的透光率很低;當(dāng)n2流量為15ml/min,濺射功率為4kw時,tin薄膜的結(jié)晶最致密;當(dāng)濺射功率為4kw時,tin薄膜具有較好的耐腐蝕性。

以7.4na2o-29.4b2o3-63.2sio2-1tio2(wt%)為玻璃組成,通過熱處理、酸溶液浸析的方法制備了平均孔徑為91.4nm、比表面積為13.786m2/g、孔容為0.3150cm3/g的無裂紋多孔玻璃基片(20×20×1.5mm),采用壓汞儀等測試分析了酸浸析濃度、酸浸析時間及酸浸析緩沖劑對多孔玻璃孔結(jié)構(gòu)和基片碎裂的影響,并利用場發(fā)射掃描電鏡觀察多孔玻璃的顯微結(jié)構(gòu),發(fā)現(xiàn)以0.5mhcl/24h及飽和na2b4o7為酸浸析緩沖劑,可有效防止多孔玻璃碎裂,提高成品率,可為大孔徑的片狀多孔玻璃的發(fā)展和應(yīng)用起到推動作用。