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超光滑拋光玻璃表面粗糙度為納米量級,超精密拋光加工精度達到分子級或原子級。超光滑和超精密拋光新技術(shù)包括數(shù)控小工具拋光、應力盤拋光、浴法拋光、磁流變拋光、離子束拋光、電子束拋光、激光拋光和等離子輔助拋光等。本文重點闡述采用20KeV、1×1014. ions/cm2和1×1016. ions/cm2的N+離子對鈉鈣硅酸鹽和鉛玻璃進行離子束拋光的原理與工藝,拋光后粗糙度僅為幾十納米。采用高束流脈沖電子束拋光時,當束流超過1012 W/cm2時,玻璃表面Griffith裂紋擴張,粗糙度反而增加,必須嚴格控制拋光時電子束能量。
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不銹鋼激光模板尺寸大、壁薄,對其拋光要求為變形小、孔壁光滑,且腐蝕量小于0.005 mm。利用極化曲線、掃描電鏡(SEM)等方法,研究了預去毛刺、添加劑、精拋光工藝參數(shù)對拋光質(zhì)量的影響,確定了精密電拋光溶液組成及精拋光工藝。結(jié)果表明,添加劑含量在15 g/L時能有效抑制拋光的腐蝕量,提高拋光質(zhì)量;在精拋光的參數(shù)電流密度為20～25 A/dm2,溫度60～65℃,時間1 min條件下,鋼片經(jīng)去毛刺處理和精拋光處理能達到孔壁光滑、腐蝕量小于0.005 mm的要求。
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