電解處理法

含氰廢水電解處理以不溶性的石墨為陽極，鐵板為陰極，廢水中的氰根在直流電的作用下在陽極被氧化成無毒物質(zhì)。含氰廢水電解處理的流程如圖1所示。

電解處理含氰廢水產(chǎn)生的沉淀物，比電解處理含鉻廢水所產(chǎn)生的沉淀物要少得多，在廢水濃度較低及懸浮物較少的情況下，電解除氰后的水可不經(jīng)沉淀和過濾而直接排放，不再設(shè)置沉淀池和污泥干化場。當含鉻廢水和含氰廢水同時采用電解法處理時，兩種廢水處理可合并使用沉淀池和污泥干化場?？梢?，含氰廢水電解處理設(shè)施和操作與含鉻廢水處理基本相同，僅是具體的工藝條件不同而已。

（1）廢水的pH值

電解處理含氰廢水應(yīng)在堿性條件下進行，因為pH值偏低時，不利于氯對氰根的氧化，同時，由于陽極表面上存在著OH^-的放電，導(dǎo)致陽極區(qū)的pH值下降，若pH值降至7以下，將會產(chǎn)生劇毒的氰氫酸氣體逸出，污染周圍環(huán)境。

若廢水的pH值偏高，在食鹽含量較低的情況下，陽極電流效率下降，除氰效果降低。一般pH值控制在9～10之間。

（2）食鹽添加量

含氰廢水的電導(dǎo)率較低，直接電解處理，槽電壓高、電流效率低、電能消耗大。投加食鹽的目的是增大廢水的導(dǎo)電率、降低槽電壓、減少電能的消耗。但是，如果食鹽投加量太多，不但會增加食鹽消耗費用，而且處理效率反而下降，所以食鹽的投加量不宜過多。一般在處理濃度較高的含氰廢水時，食鹽可多加一些，反之可少加一些。在處理含氰25～100mg/dm³濃度的廢水時，通常加入1～29/dm³食鹽。

（3）凈極距

電解處理含氰廢水用較厚的石墨作陽極，電解槽的陽極和陰極之間的距離常以表面間距即凈距離（稱凈極距）表示。當電流密度和食鹽投加量一定時，凈極距愈小，槽電壓愈低，處理效果愈好。當電解槽容積不變時，縮小凈極距，還可以提高陽極面積與有效水容積之比（即極水比）。所以，電解槽設(shè)計安裝要盡最大可能地減小凈極距，以提高極水比來降低槽電壓，以便提高處理效率和減少投資及處理費用。

（4）陽極電流密度

當食鹽加入量一定，按含氰廢水的氰化物濃度的高低決定采用電流密度的大小。濃度高，電流密度大；反之，電流密度小。

從經(jīng)濟角度考慮，采用低電流密度和較長的電解時間較合算。對處理低濃度氰的廢水，在一般采用0.4～0.7A/dm²的陽極電流密度。

（5）空氣攪拌

為提高處理效率和防止沉淀物黏附在極板表面上或沉于槽底，電解槽需裝空氣攪拌。實踐證明，不攪拌將延長電解時間。攪拌的空氣量也不宜過大，否則，由于空氣的導(dǎo)電性差，使槽電壓增高。攪拌的空氣量以不使懸浮物沉淀為適度。2100433B

廢水中的簡單氰化物和配合氰化物通過電解，在陽極和陰極上產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，把氰電解氧化為二氧化碳和氮氣。利用這一原理可有效去除廢水中的氰污染。

（1）在陽極產(chǎn)生的化學(xué)反應(yīng)

對簡單氰化物，第一階段的反應(yīng)是：

CN^- 2OH^--2e→CNO^- H₂O

反應(yīng)進行得很劇烈，接著發(fā)生第二階段的兩個反應(yīng)：

2CNO^- 4OH^--6e→2CO₂↑ N₂↑ 2H₂O

CNO^- 2H₂O→NH4 3CN^-

電解過程中，產(chǎn)生一部分銨。

對配位氰化物，反應(yīng)過程如下：（這里以銅為例）

Cu(CN)₃^2- 6OH^--6e→Cu 3CNO^- 3H₂O

Cu(CN)₃^2-→Cu 3CN^-

在電解的介質(zhì)中投加食鹽時發(fā)生下列反應(yīng)：

2Cl^--2e→2[Cl]

2[Cl] CN^- 2OH^-→CNO^- 2Cl^- H2O

6[Cl] Cu(CN)₃^2- 6OH^-→Cu 3CNO^- 6Cl^- 3H₂O

6[Cl] 2CNO^- 4OH^-→2CO₂↑ N₂↑ 6Cl^- 2H₂O

（2）在陰極產(chǎn)生的化學(xué)反應(yīng)

2H 2e→H₂↑

Cu² 2e→Cu

Cu² 2OH-→Cu(OH)₂↓