方塊電阻計(jì)算方法

方塊電阻:Rs=ρ/t(其中ρ為塊材的電阻率,t為塊材厚度)

或者寫(xiě)成電導(dǎo)率的表達(dá)式:Rs = 1/(σt)

這樣 在計(jì)算塊材電阻的時(shí)候,我們就可以利用方塊電阻乘以長(zhǎng)寬比例得到,計(jì)算過(guò)程與維度無(wú)關(guān):

R=Rs*L/W(L為塊材長(zhǎng)度,W為塊材寬度)

方塊電阻測(cè)試方法

方塊電阻如何測(cè)試呢,可不可以用萬(wàn)用表電阻檔直接測(cè)試圖一所示的材料呢?不可以的,因萬(wàn)用表的表筆只能測(cè)試點(diǎn)到點(diǎn)之間的電阻,而這個(gè)點(diǎn)到點(diǎn)之間的電阻不表示任何意義。如要測(cè)試方阻,首先我們需要在A邊和B邊各壓上一個(gè)電阻比導(dǎo)電膜電阻小得多的圓銅棒,而且這個(gè)圓銅棒光潔度要高,以便和導(dǎo)電膜接觸良好。這樣我們就可以通過(guò)用萬(wàn)用表測(cè)試兩銅棒之間的電阻來(lái)測(cè)出導(dǎo)電薄膜材料的方阻 。

如果方阻值比較小,如在幾個(gè)歐姆以下,因?yàn)榇嬖诮佑|電阻以及萬(wàn)用表本身性能等因素,用萬(wàn)用表測(cè)試就會(huì)存在讀數(shù)不穩(wěn)和測(cè)不準(zhǔn)的情況。這時(shí)就需要用專(zhuān)門(mén)的用四端測(cè)試的低電阻測(cè)試儀器,如毫歐計(jì)、微歐儀等。測(cè)試方法如下:用四根光潔的圓銅棒壓在導(dǎo)電薄膜上,如圖二所示。四根銅棒用A、B、C、D表示,它們上面焊有導(dǎo)線接到毫歐計(jì)上,我們使BC之間的距離L等于導(dǎo)電薄膜的寬度W,至于AB、CD之間的距離沒(méi)有要求,一般在10--20mm就可以了,接通毫歐計(jì)以后,毫歐計(jì)顯示的阻值就是材料的方阻值。這種測(cè)試方法的優(yōu)點(diǎn)是:

1、用這種方法毫歐計(jì)可以測(cè)試到幾百毫歐,幾十毫歐,甚至更小的方阻值。

2、由于采用四端測(cè)試,銅棒和導(dǎo)電膜之間的接觸電阻,銅棒到儀器的引線電阻,即使比被測(cè)電阻大也不會(huì)影響測(cè)試精度。

3、測(cè)試精度高。由于毫歐計(jì)等儀器的精度很高,方阻的測(cè)試精度主要由膜寬W和導(dǎo)電棒BC之間的距離L的機(jī)械精度決定,由于尺寸比較大,這個(gè)機(jī)械精度可以做得比較高。在實(shí)際操作時(shí),為了提高測(cè)試精度和為了測(cè)試長(zhǎng)條狀材料,W和L不一定相等,可以使L比W大很多,此時(shí)方阻Rs=Rx*W/L,Rx為毫歐計(jì)讀數(shù)。

此方法雖然精度比較高,但比較麻煩,尤其在導(dǎo)電薄膜材料比較大,形狀不整齊時(shí),很難測(cè)試,這時(shí)就需要用專(zhuān)用的四探針探頭來(lái)測(cè)試材料的方阻,如圖三所示。

探頭由四根探針阻成,要求四根探針頭部的距離相等。四根探針由四根引聯(lián)接到方阻測(cè)試儀上,當(dāng)探頭壓在導(dǎo)電薄膜材料上面時(shí),方阻計(jì)就能立即顯示出材料的方阻值,具體原理是外端的兩根探針產(chǎn)生電流場(chǎng),內(nèi)端上兩根探針測(cè)試電流場(chǎng)在這兩個(gè)探點(diǎn)上形成的電勢(shì)。因?yàn)榉阶柙酱?,產(chǎn)生的電勢(shì)也越大,因此就可以測(cè)出材料的方阻值。需要提出的是雖然都是四端測(cè)試,但原理上與圖二所示用銅棒測(cè)方阻的方法不同。因電流場(chǎng)中僅少部分電流在BC點(diǎn)上產(chǎn)生電壓(電勢(shì))。所示靈敏度要低得多,比值為1:4.53 。

方塊電阻造價(jià)信息

市場(chǎng)價(jià) 信息價(jià) 詢價(jià)
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方塊電阻有一個(gè)特性,即任意大小的正方形測(cè)量值都是一樣的,不管邊長(zhǎng)是1米還是0.1米,它們的方阻都是一樣,這樣方阻僅與導(dǎo)電膜的厚度等因素有關(guān),表征膜層致密性,同時(shí)表征對(duì)熱紅外光譜的透過(guò)能力,方塊電阻測(cè)量數(shù)值愈大,則隔離熱紅外性能越差,方塊電阻測(cè)量數(shù)值愈小則隔離熱紅外性能越好,對(duì)于建筑行業(yè)來(lái)講低輻射玻璃的熱紅外性能測(cè)量的快速測(cè)量就必須選用方塊電阻測(cè)量?jī)x,測(cè)量值愈小則建筑材料就愈節(jié)能,在建筑材料行業(yè)具有很大的作用。

方塊電阻簡(jiǎn)介

蒸發(fā)鋁膜、導(dǎo)電漆膜、印制電路板銅箔膜等薄膜狀導(dǎo)電材料,衡量它們厚度的最好方法就是測(cè)試它們的方阻。什么是方阻呢?方阻就是方塊電阻,指一個(gè)正方形的薄膜導(dǎo)電材料邊到邊“之”間的電阻,如圖一所示,即B邊到C邊的電阻值。

方塊電阻又稱(chēng)膜電阻,是用于間接表征薄膜膜層、玻璃鍍膜膜層等樣品上的真空鍍膜的熱紅外性能的測(cè)量值,該數(shù)值大小可直接換算為熱紅外輻射率。方塊電阻的大小與樣品尺寸無(wú)關(guān),其單位為Siements/sq,后增加歐姆/sq表征方式,該單位直接翻譯為方塊電阻或者面電阻,用于膜層測(cè)量又稱(chēng)為膜層電阻 。

方塊電阻測(cè)定常見(jiàn)問(wèn)題

  • 方塊電阻單位是什么意思?

    計(jì)算方法 方塊電阻:Rs=ρ/t(其中ρ為塊材的電阻率,t為塊材厚度) 或者寫(xiě)成電導(dǎo)率的表達(dá)式:Rs   =   1/(σt) 這樣   在...

  • 方塊電阻測(cè)試儀報(bào)價(jià)高不高

    一般幾百到幾千不等,主要是看電壓等級(jí)可產(chǎn)品特性不同價(jià)格而不同.武漢華能聯(lián)創(chuàng)電氣生產(chǎn)的BC2010絕緣電阻測(cè)試儀具備多種電壓輸出等級(jí)(500V、1000V、2500V、5000V)、容量大、交直流兩用、...

  • 方塊電阻單位是啥意思,誰(shuí)知道

    方阻就是方塊電阻,指一個(gè)正方形的薄膜導(dǎo)電材料邊到邊“之”間的電阻,方塊電阻有一個(gè)特性,即任意大小的正方形邊到邊的電阻都是一樣的,不管邊長(zhǎng)是1米還是0.1米,它們的方阻都是一樣,這樣方阻僅與導(dǎo)電膜的厚度...

1、要求探頭邊緣到材料邊緣的距離大大于探針間距,一般要求10倍以上。

2、要求探針頭之間的距離相等,否則就要產(chǎn)生等比例測(cè)試誤差。

3、理論上講探針頭與導(dǎo)電薄膜接觸的點(diǎn)越小越好。但實(shí)際應(yīng)用時(shí),因針狀電極容易破壞被測(cè)試的導(dǎo)電薄膜材料,所以一般采用圓形探針頭。

1、如果被測(cè)導(dǎo)電薄膜材料表面上不干凈,存在油污或材料暴露在空氣中時(shí)間過(guò)長(zhǎng),形成氧化層,會(huì)影響測(cè)試穩(wěn)定性和測(cè)試精度。在測(cè)試中需要引起注意。

2、如探頭的探針存在油污等也會(huì)引起測(cè)試不穩(wěn),此時(shí)可以把探頭在干凈的白紙上滑動(dòng)幾下擦一擦可以了。

3、如果材料是蒸發(fā)鋁膜等,蒸發(fā)的厚度又太薄的話,形成的鋁膜不能均勻的連成一片,而是形成點(diǎn)狀分布,此時(shí)方塊電阻值會(huì)大大增加,與通過(guò)稱(chēng)重法計(jì)算的厚度和方阻值不一樣,因此,此時(shí)就要考慮到加入修正系數(shù)。 2100433B

方塊電阻測(cè)定文獻(xiàn)

接地電阻測(cè)定記錄表 接地電阻測(cè)定記錄表

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接地電阻測(cè)定記錄表 編號(hào): 單位名稱(chēng) 儀表型號(hào) ZC29-1 工程名稱(chēng) 測(cè)驗(yàn)日期 年 月 日 接地電阻( Ω) 接地名稱(chēng) 設(shè)備、設(shè)施 接地類(lèi)別 規(guī)定電阻值( Ω) 實(shí)測(cè)電阻值( Ω) 測(cè)定結(jié)果 備注 重復(fù)接地 ≤10 6.7 合格 xx#配電箱 重復(fù)接地 ≤10 5.4 合格 xx#配電箱 重復(fù)接地 ≤10 5.3 合格 xx#配電箱 重復(fù)接地 ≤10 5.4 合格 xx#配電箱 重復(fù)接地 ≤10 4 合格 xx#配電箱 重復(fù)接地 ≤10 6.2 合格 xx#配電箱 重復(fù)接地 ≤10 6.4 合格 xx#配電箱 重復(fù)接地 ≤10 6.2 合格 xx#配電箱 重復(fù)接地 ≤10 5.6 合格 xx#配電箱 重復(fù)接地 ≤10 3.6 合格 xx#配電箱 重復(fù)接地 ≤10 4.6 合格 xx#配電箱 重復(fù)接地 ≤10 5.6 合格 xx#配電箱 重復(fù)接地 ≤10 6.4 合格 xx#配電箱 重復(fù)

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臨時(shí)用電接地電阻測(cè)定記錄表 臨時(shí)用電接地電阻測(cè)定記錄表

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18℃ ≤ Ω ≤ Ω ≤ Ω ≤ Ω ≤ Ω 臨時(shí)用電接地電阻測(cè)定記錄表 臨電表6 工程名稱(chēng) 施工單位 天氣情況 儀表型號(hào) 測(cè)試日期 多云 2011 年 4 月 7日 氣溫 接地類(lèi)別 工作接地 重復(fù)接地 防雷接地 保護(hù)接地 接地 計(jì)量單位 Ω(歐姆) 組 別 及 實(shí) 測(cè) 數(shù) 據(jù) 參加人員 電氣技術(shù)負(fù)責(zé)人 電管人員 安全員 設(shè)計(jì)要求 測(cè) 定 結(jié) 論 測(cè)試人(二人)

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耐堿為浸入60℃、濃度為10%氫氧化鈉溶液中5分鐘后,ITO層方塊電阻變化值不超過(guò)10%。耐酸為浸入250C、濃度為6%鹽酸溶液中5分鐘后,ITO層方塊電阻變化值不超過(guò)10%。耐溶劑為在250C、丙酮、無(wú)水乙醇或100份去離子水加3分EC101配制成的清洗液中5分鐘后,ITO層方塊電阻變化值不超過(guò)10%。附著力:在膠帶貼附在膜層表面并迅速撕下,膜層無(wú)損傷;或連撕三次后,ITO層方塊電阻變化值不超過(guò)10%。熱穩(wěn)定性:在300°C的空氣中,加熱30分鐘后,ITO導(dǎo)電膜方塊電阻值應(yīng)不大于原方塊電阻的300%。

耐堿為浸入60℃、濃度為10%氫氧化鈉溶液中5分鐘后,ITO層方塊電阻變化值不超過(guò)10%。耐酸為浸入250C、濃度為6%鹽酸溶液中5分鐘后,ITO層方塊電阻變化值不超過(guò)10%。耐溶劑為在250C、丙酮、無(wú)水乙醇或100份去離子水加3分EC101配制成的清洗液中5分鐘后,ITO層方塊電阻變化值不超過(guò)10%。附著力:在膠帶貼附在膜層表面并迅速撕下,膜層無(wú)損傷;或連撕三次后,ITO層方塊電阻變化值不超過(guò)10%。熱穩(wěn)定性:在300°C的空氣中,加熱30分鐘后,ITO導(dǎo)電膜方塊電阻值應(yīng)不大于原方塊電阻的300%。

【摘要】研究了激光摻雜選擇性發(fā)射極匹配的擴(kuò)散工藝,通過(guò)調(diào)整不同的工藝參數(shù),達(dá)到相同的高方阻,比較了不同方法獲得的高方阻的均勻性,得到了在105Ω/□左右的高方阻仍能保持較好均勻性的擴(kuò)散工藝。通過(guò)調(diào)整激光功率形成不同的重?fù)诫s區(qū)方塊電阻,研究了不同的重?fù)诫s區(qū)方塊電阻對(duì)電池主要電性能參數(shù)的影響,分析了變化原因。最后比較了激光摻雜選擇性發(fā)射極太陽(yáng)電池和傳統(tǒng)太陽(yáng)電池的電性能及外量子效率。工藝優(yōu)化后,激光摻雜選擇性發(fā)射極太陽(yáng)電池的轉(zhuǎn)換效率相比傳統(tǒng)太陽(yáng)電池有0.24%的提升。

引言

提高太陽(yáng)電池的光電轉(zhuǎn)換效率是提高行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力的重要途徑。發(fā)射極摻雜濃度對(duì)太陽(yáng)電池轉(zhuǎn)換效率的影響是雙重的,采用高濃度的摻雜,可以減小硅片和電極之間的接觸電阻,降低電池的串聯(lián)電阻,但是高的摻雜濃度會(huì)導(dǎo)致載流子復(fù)合變大,少子壽命降低,影響電池的開(kāi)路電壓和短路電流。采用低濃度的摻雜,可以降低表面復(fù)合,提高少子壽命,但是必然會(huì)導(dǎo)致接觸電阻的增大,影響電池的串聯(lián)。選擇性發(fā)射極太陽(yáng)電池的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)可以很好地解決這一矛盾[1]。選擇性發(fā)射極(selectiveemitter,SE)太陽(yáng)電池,即在金屬柵線與硅片接觸部位及其附近進(jìn)行高濃度摻雜,而在電極以外的區(qū)域進(jìn)行低濃度摻雜。這樣既降低了硅片和電極之間的接觸電阻,又降低了表面的復(fù)合[2],提高了少子壽命。這種結(jié)構(gòu)的電池具有以下3點(diǎn)明顯的優(yōu)點(diǎn):

(1)降低串聯(lián)電阻,提高填充因子;

(2)減少載流子復(fù)合,提高表面鈍化效果;

(3)增強(qiáng)電池短波光譜響應(yīng),提高短路電流和開(kāi)路電壓。

目前選擇性發(fā)射極的主要實(shí)現(xiàn)工藝[3]有氧化物掩膜法、絲網(wǎng)印刷硅墨水法、離子注入法和激光摻雜法等,其中激光PSG摻雜法由于其工藝過(guò)程簡(jiǎn)單,從圖1可以看出從太陽(yáng)電池常規(guī)產(chǎn)線升級(jí)成激光摻雜選擇性發(fā)射極太陽(yáng)電池生產(chǎn)線,工藝上只需增加激光摻雜一個(gè)步驟,從設(shè)備上來(lái)說(shuō),只需增加摻雜用激光設(shè)備,與常規(guī)產(chǎn)線的工藝及設(shè)備兼容性很高,是行業(yè)研究的熱點(diǎn)。激光PSG摻雜法是采用擴(kuò)散時(shí)產(chǎn)生的磷硅玻璃層作為摻雜源進(jìn)行激光掃描,形成重?fù)诫s區(qū)。目前雖然對(duì)激光摻雜選擇性發(fā)射極太陽(yáng)電池的理論研究和實(shí)驗(yàn)的報(bào)道很多,但是在實(shí)際的大規(guī)模生產(chǎn)中,仍然存在著擴(kuò)散高方阻的均勻性、輕重?fù)诫s區(qū)方塊電阻匹配和印刷正電極的精確對(duì)位等問(wèn)題,本文主要對(duì)前兩個(gè)問(wèn)題相關(guān)工藝進(jìn)行研究。

2.實(shí)驗(yàn)過(guò)程

2.1實(shí)驗(yàn)原材料

實(shí)驗(yàn)采用156.75156.75mm的單晶硅片,厚度180~200μm,電阻率范圍1~3Ω·cm.

2.2擴(kuò)散工藝的實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)

擴(kuò)散工藝的基本步驟如圖2所示。在擴(kuò)散工藝中,影響擴(kuò)散后硅片方塊電阻的工藝參數(shù)有大氮?dú)怏w流量、小氮?dú)怏w流量、氧氣流量、擴(kuò)散溫度、擴(kuò)散時(shí)間和源瓶溫度等參數(shù)。其中,擴(kuò)散時(shí)間和擴(kuò)散溫度是大規(guī)模生產(chǎn)中常用的調(diào)整方阻的工藝參數(shù)。目前,激光摻雜選擇性發(fā)射極擴(kuò)散輕摻雜的方快電阻一般在100~110Ω/□之間。本實(shí)驗(yàn)以105Ω/□為目標(biāo)方快電阻,通過(guò)縮短擴(kuò)散時(shí)間和降低擴(kuò)散溫度兩種方式將正常的85Ω/□升高至目標(biāo)方阻。實(shí)驗(yàn)使用Tempress4管5恒溫區(qū)擴(kuò)散爐進(jìn)行,實(shí)驗(yàn)1為將原擴(kuò)散工藝的擴(kuò)散時(shí)間縮短4min,實(shí)驗(yàn)2為將原擴(kuò)散工藝的擴(kuò)散溫度降低12℃。每組實(shí)驗(yàn)做一管(500片),擴(kuò)散工藝完成后,從每個(gè)恒溫區(qū)的中間位置各抽取一片,使用四探針?lè)綁K電阻測(cè)試儀測(cè)試硅片中心點(diǎn)和四個(gè)邊角的方塊電阻。

2.3激光摻雜工藝的實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)

在激光摻雜工藝中,利用激光的熱效應(yīng),熔融硅片表層,覆蓋在發(fā)射極頂部的磷硅玻璃(PSG)中的磷原子進(jìn)入硅片表層,磷原子在液態(tài)硅中的擴(kuò)散系數(shù)要比在固態(tài)硅中高數(shù)個(gè)數(shù)量級(jí)[4]。固化后摻雜磷原子取代硅原子的位置,形成重?fù)诫s層。使用優(yōu)化后的擴(kuò)散工藝,制作方快電阻在105Ω/□的實(shí)驗(yàn)樣片400片,分成四組,每組100片。激光摻雜使用波長(zhǎng)532nm的納秒脈沖激光器,分別調(diào)整激光功率至20W、30W、40W和50W,對(duì)四組實(shí)驗(yàn)樣片進(jìn)行掃描,形成每條120μm寬的重?fù)诫s區(qū)。對(duì)于各組中用于測(cè)試方阻的樣品硅片,使用激光掃描20mm20mm的方塊面積。以得到均勻的激光重?fù)诫s區(qū)域,用四探針測(cè)試其方塊電阻。

3.實(shí)驗(yàn)結(jié)果與分析

3.1擴(kuò)散方塊電阻結(jié)果

方塊電阻是衡量擴(kuò)散質(zhì)量是否符合工藝要求的重要指標(biāo),擴(kuò)散方塊電阻的均勻性尤其重要,直接關(guān)系到后續(xù)工藝的匹配,并最終對(duì)太陽(yáng)電池轉(zhuǎn)換效率產(chǎn)生影響,用方塊電阻的不均勻度來(lái)反應(yīng)方塊電阻的均勻性,不均勻度的計(jì)算公式為:

以下是兩組實(shí)驗(yàn)擴(kuò)散方塊電阻數(shù)據(jù),并計(jì)算了方塊電阻的片內(nèi)均勻性,數(shù)據(jù)見(jiàn)表1和表2。

從表1和表2兩組數(shù)據(jù)中可以看出,實(shí)驗(yàn)1方塊電阻的片內(nèi)不均勻度大多數(shù)都在4.0%之內(nèi),均勻性較好,而實(shí)驗(yàn)2方塊電阻的片內(nèi)不均勻度大多數(shù)都在4.0%以上,其中有三個(gè)溫區(qū)在5.0%以上,均勻性較差。通過(guò)縮短擴(kuò)散時(shí)間減少摻雜雜質(zhì)總量提高方塊電阻,對(duì)于工藝氣體流量、溫度場(chǎng)等均沒(méi)有較大的影響,因此可以最大程度地保持片內(nèi)方塊電阻的均勻性。擴(kuò)散溫度的降低影響硅片表面磷硅玻璃層的形成,減弱了磷硅玻璃層對(duì)磷擴(kuò)散的阻礙作用,使方塊電阻的片內(nèi)均勻性偏差。另外,在大規(guī)模生產(chǎn)中,縮短工藝實(shí)驗(yàn)可以提高產(chǎn)量,節(jié)約生產(chǎn)成本。

3.2激光摻雜實(shí)驗(yàn)結(jié)果

用四探針對(duì)激光掃描的2020mm的樣片進(jìn)行方塊電阻的測(cè)量,然后四組實(shí)驗(yàn)在相同的工藝條件下進(jìn)行洗磷刻蝕、PECVD鍍減反膜、絲網(wǎng)印刷電極和燒結(jié),制成成品電池片,并測(cè)試其電性能參數(shù),不同激光功率對(duì)重?fù)诫s區(qū)方塊電阻以及最終對(duì)電池串聯(lián)電阻的影響如表3所示:

從表3中可以看出,當(dāng)激光功率為20W時(shí),方塊電阻變化較小,僅有5Ω/□的降低,電池的串聯(lián)電阻較高。隨著激光功率的增加,方塊電阻明顯降低,電池串聯(lián)電阻呈現(xiàn)先下降后升高的趨勢(shì)。這主要是由于激光功率較小時(shí),不足以使硅片表面溶化,磷原子向硅片表面的摻雜較少,不能形成重?fù)诫s區(qū),導(dǎo)致金屬電極與發(fā)射極之間無(wú)法形成良好的歐姆接觸,使電池的串聯(lián)電阻處于較高的水平。當(dāng)激光功率上升到30W以上時(shí),隨著激光功率的增加,硅片表面溶化的深度不斷加深,摻雜磷原子在硅片表面所能達(dá)到的深度也隨之增加,因此方塊電阻有明顯的降低,低方塊電阻的重?fù)诫s區(qū)與金屬柵線形成良好的歐姆接觸,接觸電阻降低,電池的串聯(lián)電阻得到明顯的改善。當(dāng)激光功率達(dá)到50W時(shí),電池的串聯(lián)電阻有升高的趨勢(shì),這一方面是由于過(guò)高的激光功率會(huì)使磷硅玻璃部分蒸發(fā)而減少摻雜源[5],導(dǎo)致磷原子的表面濃度降低,另一方面,激光摻雜,磷硅玻璃作為有限源,當(dāng)激光功率較高時(shí),隨著硅片表面溶化時(shí)間和溶化層厚度的增加高濃度區(qū)域加深,磷硅玻璃中更多的磷原子被驅(qū)趕到硅片表層,導(dǎo)致磷原子表面的濃度降低。總之,過(guò)高的激光功率會(huì)使磷原子的表面濃度降低,不能與金屬電極形成良好的歐姆接觸導(dǎo)致串聯(lián)電阻的升高。

3.3激光摻雜選擇性發(fā)射極太陽(yáng)電池電性能結(jié)果

從表4中可以看出,與常規(guī)電池相比較,激光摻雜選擇性發(fā)射極太陽(yáng)電池的開(kāi)路電壓和短路電流都有明顯的提升。原因是高方塊電阻的輕摻雜發(fā)射極可以有效減少載流子的復(fù)合幾率,提高載流子的收集效率,低表面摻雜濃度還可以使表面態(tài)密度降低,提高表面鈍化效果,最終提高電池的開(kāi)路電壓和短路電流。另外,選擇性發(fā)射極輕、重?fù)诫s區(qū)的摻雜濃度差形成高低結(jié),進(jìn)一步提高電池的開(kāi)路電壓。

不同激光功率對(duì)電池轉(zhuǎn)換效率的影響,從上表中可以看出,當(dāng)激光功率為20W時(shí),激光摻雜對(duì)硅片重?fù)诫s區(qū)方阻影響不大,雖然由于發(fā)射極的輕摻雜使電池的開(kāi)路電壓和短路電流都有明顯的提升,但是串聯(lián)電阻過(guò)大,導(dǎo)致最終效率較低。當(dāng)激光功率在30W~50W之間時(shí),電池的開(kāi)路電壓、短路電流、串聯(lián)電阻等電性能參數(shù)相比常規(guī)電池都有明顯的改善。激光功率在此區(qū)間內(nèi),隨著功率的增加,開(kāi)路電壓沒(méi)有明顯變化,短路電流隨著功率的增加呈下降的趨勢(shì),主要是激光功率過(guò)高時(shí)對(duì)摻雜區(qū)的絨面有損傷,影響對(duì)光的吸收。激光功率大小對(duì)串聯(lián)電阻的影響前文已進(jìn)行分析,不再重復(fù)。綜上所述,當(dāng)激光功率在40W,重?fù)诫s區(qū)方阻降至63Ω/□左右時(shí),輕、重?fù)诫s區(qū)工藝匹配達(dá)到最優(yōu),相比傳統(tǒng)電池,效率有0.24%的提升。

3.4外量子效率測(cè)試結(jié)果

對(duì)工藝優(yōu)化的激光摻雜選擇性發(fā)射極太陽(yáng)電池和常規(guī)太陽(yáng)電池進(jìn)行外量子效率的測(cè)試分析,如圖3所示,從圖中可以看出在300nm~520nm波段范圍內(nèi),激光摻雜選擇性發(fā)射極太陽(yáng)電池的外量子效率相比常規(guī)太陽(yáng)電池有較明顯的提升,但是在中長(zhǎng)波段基本與常規(guī)電池一致。主要是由于激光摻雜選擇性發(fā)射極太陽(yáng)電池發(fā)射極區(qū)域摻雜濃度低,前表面的載流子復(fù)合幾率降低,對(duì)光生載流子的收集增加,電池的光譜響應(yīng)增強(qiáng)。

4.結(jié)論

通過(guò)縮短擴(kuò)散時(shí)間和降低擴(kuò)散溫度兩種方法提高擴(kuò)散的方塊電阻,形成輕摻雜,比較了兩種方法形成的高方塊電阻的均勻性,發(fā)現(xiàn)縮短擴(kuò)散時(shí)間提高方塊電阻的方法得到的高方塊電阻的均勻性較好。重?fù)诫s區(qū)方塊電阻匹配的研究,通過(guò)改變激光功率形成不同的重?fù)诫s區(qū)方塊電阻,發(fā)現(xiàn)當(dāng)激光功率在40W左右,重?fù)诫s區(qū)方塊電阻在66Ω/□左右時(shí),工藝達(dá)到最優(yōu),電池的開(kāi)路電壓、短路電流和串聯(lián)電阻等參數(shù)均有明顯的改善,最終轉(zhuǎn)換效率相比傳統(tǒng)電池有0.24%的提升。比較了激光摻雜選擇性發(fā)射極太陽(yáng)電池和傳統(tǒng)太陽(yáng)電池的外量子效率,相比傳統(tǒng)太陽(yáng)電池,激光摻雜選擇性太陽(yáng)電池主要在300~520nm的短波范圍內(nèi)有較明顯的提升。

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