絕緣柵場效應(yīng)電力晶體管是一種集高頻率、高電壓、大電流于一身的新一代理想的電力半導(dǎo)體器件,是電力電子技術(shù)的第三次革命的代表產(chǎn)品,填補(bǔ)國內(nèi)電力電子空白的產(chǎn)品。
一、項(xiàng)目概述
1、項(xiàng)目名稱
絕緣柵雙極晶體管IGBT
2、預(yù)計(jì)投資總額
項(xiàng)目總投資1.96億元
項(xiàng)目建成達(dá)產(chǎn)后產(chǎn)量2000萬只
(其中IGBT含IPM100萬只,MOSFET1900萬只)
二、廠址選擇及依據(jù)
1、項(xiàng)目擬選廠址
項(xiàng)目擬選廠址為錦州經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)。
2、交通運(yùn)輸條件
發(fā)達(dá)的立體交通:錦州是連接中國東北、華北的交通樞紐,錦州經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)交通便利發(fā)達(dá),已經(jīng)形成了中國現(xiàn)代化的海、陸、空立體交通網(wǎng)絡(luò)。
公路:102國道、京哈高速公路貫穿全區(qū),以七里臺(tái)為中心,錦州至北京、天津、沈陽、長春、哈爾濱、阜新、朝陽等地一點(diǎn)四射的高速公路網(wǎng)已形成。開發(fā)區(qū)距北京460公里,距沈陽198公里,距阜新117公里,距朝陽93公里。
鐵路:錦州南站坐落區(qū)內(nèi),正在建設(shè)中的我國第一條快速客運(yùn)雙線電氣化鐵路——秦沈客運(yùn)專線穿區(qū)而過,并有沈山、錦承、錦赤、溝海、大鄭等8條鐵路干線在此交匯。12.4公里長的高天地方鐵路與京哈鐵路大動(dòng)脈相連并直通錦州港碼頭。
海運(yùn):錦州港坐落在開發(fā)區(qū)內(nèi),是中國最北端港口,屬國家一類開放商港,是遼西地區(qū)及其廣闊腹地通往世界的重要門戶,是遼寧西部、內(nèi)蒙古東部、黑龍江、吉林兩省西部經(jīng)濟(jì)、合理、便捷的出??诎丁,F(xiàn)有十個(gè)1~5萬噸級(jí)泊位,港口年吞吐能力1600萬噸,具有集裝箱運(yùn)輸和雜貨、油品及化工產(chǎn)品的裝卸倉儲(chǔ)運(yùn)輸多種功能。根據(jù)中國交通部水運(yùn)規(guī)劃設(shè)計(jì)院“錦州港總體布局規(guī)劃”,錦州港將建港池五個(gè),萬噸以上泊位60個(gè),總吞吐能力6000萬噸以上。錦州港將建成大型油品大港、區(qū)域性雜貨港、綜合性集裝箱港。目前二港池正在建設(shè)之中,將新增1.5萬~3.5萬噸級(jí)泊位13個(gè),到2010實(shí)現(xiàn)年吞吐能力2000萬噸,實(shí)現(xiàn)再造一個(gè)錦州港的目標(biāo),屆時(shí),錦州港將成為北方具有第三代港口特征的多功能區(qū)域樞紐港。
航空:錦州機(jī)場距開發(fā)區(qū)僅16公里,現(xiàn)已開通了北京、上海、廣州、深圳、南京、青島、大連、成都、昆明等10多條航線,是遼西地區(qū)唯一達(dá)到民航4C級(jí)標(biāo)準(zhǔn)并可起降大中型客機(jī)的機(jī)場。
3、項(xiàng)目所在地排水、供熱、通訊、倉儲(chǔ)能力
錦州經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)累計(jì)完成基本建設(shè)總投資50億元,先期開發(fā)的20平方公里的范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)“六通一平”。全區(qū)共建成城市化道路39條、79.8公里,電話裝機(jī)容量達(dá)到15000門,日供水能力達(dá)到6萬噸,65公里的排水管線均已建成,供電能力達(dá)到38000千伏安,集中供熱能力達(dá)到150萬平方米,區(qū)域綠化面積達(dá)到49萬平方米。標(biāo)準(zhǔn)工業(yè)廠房、倉儲(chǔ)設(shè)施、保稅倉庫已全部交付使用。目前,開發(fā)區(qū)總體規(guī)劃的港口、倉儲(chǔ)、工業(yè)、商住、旅游五個(gè)功能小區(qū)粗初規(guī)模。
4、項(xiàng)目所在地自然環(huán)境
錦州經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)地勢平坦,大部分為平地,山地極少,全區(qū)最大標(biāo)高為136m,最小標(biāo)高為1.12m。錦州開發(fā)區(qū)屬溫帶海洋性季風(fēng)氣候,年平均氣溫9.4℃,年平均降水541.5mm,無洪水、海嘯、臺(tái)風(fēng)歷史。全區(qū)海岸線長17.2公里,近海灘涂2萬畝,耕地8.8萬畝,盛產(chǎn)高粱、玉米、海蟄、對(duì)蝦、螃蟹、赤貝,是遼西地區(qū)最大的水產(chǎn)品基地和著名的漁米之鄉(xiāng)。
5、項(xiàng)目所在地科研能力及從業(yè)人員狀況
錦州經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)現(xiàn)有全日制高中一所、初中二所、小學(xué)26所,師資總數(shù)442人。其中高中已正式更名為“錦州市第四高級(jí)中學(xué)”,并成為北京師范大學(xué)教育教學(xué)指導(dǎo)校。目前,正在籌建一所重點(diǎn)小學(xué)。錦州是遼寧省科研、教育密集區(qū)之一,現(xiàn)有高等院校8所,中等專業(yè)學(xué)校11所,技工學(xué)校13所,職業(yè)技術(shù)中學(xué)80余所,各類科研機(jī)構(gòu)57所,其中有國家信息產(chǎn)業(yè)部53研究所、遼寧工學(xué)院、遼寧省郵電設(shè)計(jì)院和市322研究所等多家電子信息科研機(jī)構(gòu),錦州已成為全國科技發(fā)達(dá)地區(qū)和中科院“面向世界、面向經(jīng)濟(jì)、面向未來、開發(fā)高科技產(chǎn)品”的兩個(gè)重點(diǎn)合作地區(qū)之一。
三、市場預(yù)測
新型電力半導(dǎo)體器件——絕緣柵雙極晶體管(IGBT)和金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管(MOSFET)是一種集高頻率、高電壓、大電流于一身的新一代理想的電力半導(dǎo)體器件,是電力電子技術(shù)的第三次革命的代表產(chǎn)品,填補(bǔ)國內(nèi)電力電子空白的產(chǎn)品。
中國電力電子市場發(fā)展較快,“九五”其間將以15–20%速度發(fā)展,1996年電力電子市場總需求量為50億元人民幣,2000年達(dá)到130億元人民幣。
預(yù)計(jì)“十五”期間電力電子器件的年平均增長速度將超過20%,到2005年銷售額將達(dá)110億元。MOSFET和IGBT等新型電力電子器件的年平均增長率為25%,較一般電力電子器件的年平均增長率高。
中國市場需求的新型電力電子半導(dǎo)體器件基本依靠進(jìn)口。2000年國內(nèi)市場所需MOSFET和IGBT約為1.4億只,2005年將達(dá)5億只。
四、效益評(píng)估
經(jīng)測算,稅前內(nèi)部收益率為25.66%;稅后內(nèi)部收益率為24.26%,均大于行業(yè)基準(zhǔn)收益率12%。項(xiàng)目達(dá)產(chǎn)年稅后利潤為6230萬元,銷售利潤率為20.09%;成本利潤率為27.39%;總投資利潤率25.08%;稅后靜態(tài)投資回收期為6.03年,稅后動(dòng)態(tài)投資回收期為7.53年。
目前常用的電力晶體管的單管、達(dá)林頓管和模塊這3種類型。 1、 單管電力晶體管 NPN三重?cái)U(kuò)散臺(tái)面型結(jié)構(gòu)是單管電力晶體管的典型結(jié)構(gòu),這種結(jié)構(gòu)可靠性高,能改善器件的二次擊穿特性,易于提高耐壓能力,...
場效應(yīng)管不能代替功放管。 場效應(yīng)管是電壓驅(qū)動(dòng)型只要電壓達(dá)到就能工作,電流可以忽略不計(jì)。功放管是電流驅(qū)動(dòng)型必須電流才能驅(qū)動(dòng),兩者不可替代。 場效應(yīng)晶體管簡稱場效應(yīng)管。主要有兩種類型(jun...
首先根據(jù)你的需求決定選擇NPN還是PNP(建議盡量選用NPN,應(yīng)為同工藝的NPN管子要比PNP的相對(duì)便宜、性能相對(duì)優(yōu)越)然后根據(jù)你的電路環(huán)境決定管子耐壓Vds,過流Id,根據(jù)導(dǎo)通損耗需求選擇導(dǎo)通電阻R...
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介紹了絕緣柵雙極晶體管(IGBT)的基本結(jié)構(gòu)和工作原理;討論了IGBT各關(guān)鍵參數(shù)和結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中需要考慮的主要問題;分析了IGBT設(shè)計(jì)中需要協(xié)調(diào)的幾對(duì)矛盾參數(shù)的關(guān)系以及影響IGBT可靠性的關(guān)鍵因素。
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隨著高速毫微秒脈沖技術(shù)的迅速發(fā)展,原有的電真空器件由于體積大、功耗大、壽命短、可靠性差等缺點(diǎn),已不能適應(yīng)當(dāng)前高速毫微秒脈沖技術(shù)發(fā)展的需要。整機(jī)單位迫切要求實(shí)現(xiàn)高壓高速脈沖源的固體化、小型化。這就推動(dòng)了高壓大電流高速半導(dǎo)體功率器件的發(fā)展。經(jīng)過多年的努力,取得了很大進(jìn)展,并已成為當(dāng)前大功率半導(dǎo)體器件發(fā)展的一個(gè)引人注目的研究方向。 目前大力推廣應(yīng)用的器件主要有垂直溝道硅MOS場效應(yīng)管,而高壓垂直溝道結(jié)柵場效應(yīng)晶體管的開發(fā)研制則近幾年才開始。由于結(jié)柵場效應(yīng)管是一種耗盡型器件,極間電容小,器件的開關(guān)速度優(yōu)于MOS器件。在需要產(chǎn)生極窄寬度的高壓脈沖場合下,垂直溝道結(jié)柵高壓場效應(yīng)晶體管是理想的固體器件。其優(yōu)越的開關(guān)性能、溫度特性不是雙極型或MOS器件可以輕易取代的。
具有一個(gè)或多個(gè)在電氣上與溝道相互絕緣的柵極的場效應(yīng)半導(dǎo)體器件。絕緣柵場效應(yīng)晶體管是利用半導(dǎo)體表面的電場效應(yīng)進(jìn)行工作的。由于它的柵極處于絕緣狀態(tài),所以輸入電阻極高,可達(dá)105Ω。它和結(jié)型場效應(yīng)晶體管的不同之處在于導(dǎo)電機(jī)理和電流控制原理不同。結(jié)型場效應(yīng)晶體管利用耗盡層的寬度變化來改變導(dǎo)電溝道的寬窄,達(dá)到控制漏極電流的目的。絕緣柵型場效應(yīng)晶體管則利用半導(dǎo)體表面的電場效應(yīng),由感應(yīng)電荷的多少來改變導(dǎo)電溝道的寬窄,達(dá)到控制電流的目的。絕緣柵場效應(yīng)晶體管中,常用二氧化硅(SiO2)為金屬柵極和半導(dǎo)體之間的絕緣層即金屬一氧化物半導(dǎo)體,簡稱MOS(meta-loxide-semiconductor)管,因此絕緣柵場效應(yīng)晶體管又稱MOSFET。它有N溝道和P溝道兩類,而每一類又分增強(qiáng)型和耗盡型兩種。增強(qiáng)型就是在uGS=0時(shí),漏源之間沒有導(dǎo)電溝道;反之,在uGS=0時(shí),漏源之間存在導(dǎo)電溝道的稱為耗盡型。
Idss—飽和漏源電流。是指結(jié)型或耗盡型絕緣柵場效應(yīng)管中,柵極電壓UGS=0時(shí)的漏源電流。
Up—夾斷電壓。是指結(jié)型或耗盡型絕緣柵場效應(yīng)管中,使漏源間剛截止時(shí)的柵極電壓。
Ut—開啟電壓。是指增強(qiáng)型絕緣柵場效管中,使漏源間剛導(dǎo)通時(shí)的柵極電壓。
gM—跨導(dǎo)。是表示柵源電壓UGS—對(duì)漏極電流ID的控制能力,即漏極電流ID變化量與柵源電壓UGS變化量的比值。gM是衡量場效應(yīng)管放大能力的重要參數(shù)。
BVDS—漏源擊穿電壓。是指柵源電壓UGS一定時(shí),場效應(yīng)管正常工作所能承受的最大漏源電壓。這是一項(xiàng)極限參數(shù),加在場效應(yīng)管上的工作電壓必須小于BVDS.
PDSM—最大耗散功率。是一項(xiàng)極限參數(shù),是指場效應(yīng)管性能不變壞時(shí)所允許的最大漏源耗散功率。使用時(shí),場效應(yīng)管實(shí)際功耗應(yīng)小于PDSM并留有一定余量。
IDSM—最大漏源電流。是一項(xiàng)極限參數(shù),是指場效應(yīng)管正常工作時(shí),漏源間所允許通過的最大電流。場效應(yīng)管的工作電流不應(yīng)超過IDSM。2100433B
絕緣柵型場效應(yīng)管,是一種可以廣泛使用在模擬電路與數(shù)字電路的場效晶體管。金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)管依照其溝道極性的不同,可分為電子占多數(shù)的N溝道型與空穴占多數(shù)的P溝道型,通常被稱為N型金氧半場效晶體管(NMOSFET)與P型金氧半場效晶體管(PMOSFET)。
早期金氧半場效晶體管柵極使用金屬作為材料,但由于多晶硅在制造工藝中更耐高溫等特點(diǎn),許多金氧半場效晶體管柵極采用后者而非前者金屬。然而,隨著半導(dǎo)體特征尺寸的不斷縮小,金屬作為柵極材料最近又再次得到了研究人員的關(guān)注。
金氧半場效晶體管在概念上屬于絕緣柵極場效晶體管(Insulated-Gate Field Effect Transistor,IGFET)。而絕緣柵極場效晶體管的柵極絕緣層,有可能是其他物質(zhì),而非金氧半場效晶體管使用的氧化層。有些人在提到擁有多晶硅柵極的場效晶體管組件時(shí)比較喜歡用IGFET,但是這些IGFET多半指的是金氧半場效晶體管。
今日半導(dǎo)體組件的材料通常以硅為首選,但是也有些半導(dǎo)體公司發(fā)展出使用其他半導(dǎo)體材料的工藝,當(dāng)中最著名的例如國際商業(yè)機(jī)器股份有限公司使用硅與鍺的混合物所發(fā)展的硅鍺工藝(SiGe process)。而可惜的是很多擁有良好電性的半導(dǎo)體材料,如砷化鎵(GaAs),因?yàn)闊o法在表面長出品質(zhì)夠好的氧化層,所以無法用來制造金氧半場效晶體管組件。
當(dāng)一個(gè)夠大的電位差施于金氧半場效晶體管的柵極與源極之間時(shí),電場會(huì)在氧化層下方的半導(dǎo)體表面形成感應(yīng)電荷,而這時(shí)就會(huì)形成反轉(zhuǎn)溝道(inversion channel)。溝道的極性與其漏極(drain)與源極相同,假設(shè)漏極和源極是n型,那么溝道也會(huì)是n型。溝道形成后,金氧半場效晶體管即可讓電流通過,而依據(jù)施于柵極的電壓值不同,可由金氧半場效晶體管的溝道流過的電流大小亦會(huì)受其控制而改變。