離子氮化技術(shù)先進性

離子氮化作為七十年代興起的一種新型滲氮方法與一般的氣體滲氮相比，離子滲氮的特點是：

1）滲氮速度較快，可適當(dāng)縮短滲氮周期，離子氮化時間短，能縮短到氣體氮化時間的1/3～2/3。。

2）滲氮層脆性小，離子氮化表面形成的白層很薄，甚至沒有，另外引起的變形小，特別適宜于形狀復(fù)雜的精密零件。

3）可節(jié)約能源和氨的消耗量，電能消耗為氣體氮化的1/2～1/5，氨氣消耗為氣體氮化的1/5～1/20。

4）易于實現(xiàn)局部氮化，只要設(shè)法使不欲氮化的部分不產(chǎn)生輝光即可，非滲氮部位便于保護，采用機械屏蔽、用鐵板隔斷輝光，即可保護。

5）離子轟擊有凈化表面作用，自動去除鈍化膜，不銹鋼、耐熱鋼材料無需預(yù)先去除鈍化膜，可使不銹鋼、耐熱鋼工件直接滲氮。

6）化合物層結(jié)構(gòu)、滲層厚度和組織可以控制。

7）處理溫度范圍較寬，即使在350℃以下也能獲得一定厚度的滲氮層。

8)勞動條件有所改善，無公害、離子滲氮處理在很低的壓力下進行，排出的廢氣極少。氣源為氮氣、氫氣和氨氣，基本上無有害物質(zhì)產(chǎn)生。

9）可以適用于各種材料，包括要求氮化溫度高的不銹鋼、耐熱鋼，以及氮化溫度較低的工模具(工具鋼)和精密零件，而低溫氮化對氣體氮化來說是相當(dāng)困難的。

離子滲氮又稱輝光滲氮，是利用輝光放電原理進行的。輝光放電是當(dāng)氣體越過電暈放電區(qū)后，若減小外電路電阻，或提高全電路電壓，繼續(xù)增加放電功率，放電電流將不斷上升。同時輝光逐漸擴展到兩電極之間的整個放電空間，發(fā)光也越來越明亮。當(dāng)電子能f提高，也就是增強電場的操作參數(shù)，則能使電暈放電過渡到輝光放電。

離子滲氮向工件表面滲入的氮原子，不是像一般氣體那樣由氨氣分解而產(chǎn)生的，而是被電場加速的粒子碰撞含氮氣體分子和原子而形成的離子在工件表面吸附、富集而形成的活性很高的氮原子。

離子滲氮時，工件放在爐內(nèi)的陰極盤上，接上電源抽真空，當(dāng)爐內(nèi)壓力降到6Pa左右時，充入氨氣，使?fàn)t內(nèi)壓保持在1.3×10²—1.3×103Pa范圍內(nèi)。由于爐內(nèi)壓力低，隨后又經(jīng)過加熱作用，進入爐內(nèi)的氨氣將發(fā)生分解：2NH₃=N₂ 3H₂爐內(nèi)反應(yīng)所得到的氣體的體積分數(shù)為25%N₂和75%H₂的低壓環(huán)境。

在以含氮氣體的低真空爐體內(nèi)的條件下，氣源通常采用純氨，也可采用分解氨。把金屬工件作為陰極爐體為陽極，在陰極(工件)與陽極(爐體)之間加上高壓(300～900V)直流電源后，稀薄氣體被電離并產(chǎn)生輝光放電，形成氮、氫陽離子，在陰陽極之間形成等離子區(qū)。在等離子區(qū)強電場作用下，氮和氫的正離子以高速向工件表面轟擊。離子的高動能轉(zhuǎn)變?yōu)闊崮?，加熱工件表面至所需溫度。氮、氫等正離子在電場的加速下轟擊零件表面，產(chǎn)生很大熱量以加熱零件，同時使部分鐵原子濺射出來與氮結(jié)合生成FeN由于離子的轟擊，工件表面產(chǎn)生原子濺射，因而得到凈化，同時由于吸附和擴散作用，繼而分解出活性氮原子向工件內(nèi)部擴散而形成氮化層。其在工件表面形成滲氮層，主要有能量轉(zhuǎn)換、陰極濺射、凝附等具體過程的發(fā)生。

離子氮化，它早在1931年就已在實驗室里取得成功并獲專利。其所運用的輝光放電，是氣體放電的一種重要形式。低氣壓輝光放電的擊穿機制是，從陰極發(fā)射電子，在放電空間引形成相應(yīng)離子，由此產(chǎn)生的正離子再轟擊陰極使其發(fā)射出更多的電子。按其狀態(tài)，輝光放電又可分為前期輝光、正常輝光和異常輝光三個不同階段。

而大電流的穩(wěn)定輝光放電設(shè)備在制造技術(shù)在當(dāng)時有較大的困難；一直延遲到20世紀60年代初，人們在掌握輝光放電技術(shù)后，離子氮化才在少數(shù)國家生產(chǎn)中得到應(yīng)用。目前世界各國包括我國在內(nèi)，離子氮化生產(chǎn)已獲得迅猛發(fā)展。

離子氮化處理工藝：

處理溫度：閥板880～900^。C，閥座840～860^。C

處理時間：6～8 h

最大加熱速度：15℃/min

最大冷卻速度：18℃/min

反應(yīng)氣氛：N₂與H₂混合氣體，并適當(dāng)引入其他氣體，如氧等

氮勢：66%～90%

工作氣壓：3999～5332 Pa

氣體流量：100～150 L/h

電流密度：3～7 mA/cm²

擬進行離子氮化的零件必須經(jīng)過徹底的清洗，以免因油污、銹斑、揮發(fā)物等而引起電弧，損傷零件。零件在裝爐時，其間隙必須足夠大而均勻，裝載過密處往往會引起溫度過高。對局部氮化的零件，可在非滲部位用外罩(對凸出面而言)或塞子(對內(nèi)凹面或孔而言)屏蔽，以避免在該處起輝。裝爐時還要注意合理地分布測溫監(jiān)控?zé)犭娕肌?/p>

此外離子氮化技術(shù)主要儀器就是離子氮化爐，通過離子滲氮可以使?jié)B氮的周期縮短60%～70%，簡化工序，零件變形小，產(chǎn)品質(zhì)量好，節(jié)約能源，無污染，是近年來發(fā)展較快的熱處理工藝。離子氮化設(shè)備由氮化爐、真空系統(tǒng)、供氮系統(tǒng)、電源及溫度測控系統(tǒng)組成。氮化介質(zhì)一般采用氨或氮氫混合氣體。離子氮化操作要求嚴格，否則易導(dǎo)致溢度不均勻和弧光放電。離子氮化開始于30年代，到50年代僅用于炮管內(nèi)膛氮化。60年代推廣使用于結(jié)構(gòu)鋼、工模具鋼、球墨鑄鐵、合金鑄鐵、不銹鋼和耐熱鋼等。可離子氮化的零件有軋輥、鍛模、沖模、銑刀、塑料成形機螺桿、柴油機缸套等

當(dāng)代離子氮化技術(shù)中，單熱源的離子氮化是老的產(chǎn)品，已無法滿足產(chǎn)品要求爐溫的均勻性和穩(wěn)定性，必須要具有雙熱源的離子氮化設(shè)備才能滿足爐溫±5度且可以隨意控溫，目前已廣泛應(yīng)用于航空航天軍工等重點領(lǐng)域。2100433B

概念

離子氮化對于球墨鑄鐵、合金鋼、不銹鋼、粉末冶金制品、鈦合金、高速鋼、工具鋼等均有顯著氮化效果。

組成

離子氮化爐由爐體、輸電裝置、真空獲得系統(tǒng)、供電系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、溫度測量五部分組成。

1、爐體由爐蓋、筒體、爐底盤和底架組成，其中爐蓋、筒體、爐底盤夾層通冷卻水，爐內(nèi)設(shè)有不銹鋼，合金鋁雙層隔熱屏，爐體上設(shè)有雙層鋼化玻璃，以供離子氮化過程中觀察爐內(nèi)情況之用。

2、爐蓋上設(shè)有陰極輸電裝置兩套，帶熱電偶吊掛柱一套，其上裝有吊掛盤，用戶應(yīng)根據(jù)所處理零件設(shè)計吊具，通過吊具將工件吊在吊掛盤上。

3、爐體的真空獲得系統(tǒng)一般由兩臺旋片式真空泵及串有碟閥的管道系統(tǒng)組成，碟閥的作用是通過關(guān)閉或旋轉(zhuǎn)不同的角度調(diào)節(jié)抽氣量以維持不同進氣量條件下的爐內(nèi)壓強，真空度的測量用配套的真空計讀出真空值。

4、爐體的供氣管進口設(shè)在爐殼筒體上，氫定標(biāo)/氮定標(biāo)的轉(zhuǎn)子流量計各一只

5、熱電偶經(jīng)帶熱電偶吊掛柱插入爐內(nèi)，進行模擬測量，由儀表記錄溫度，進行P、I、D控溫。

為了縮短氮化周期，并使氮化工藝不受鋼種的限制，在近年間在原氮化工藝基礎(chǔ)上發(fā)展了軟氮化和離子氮化兩種新氮化工藝。

軟氮化實質(zhì)上是以滲氮為主的低溫氮碳共滲，鋼的氮原子滲入的同時，還有少量的碳原子滲入，其處理結(jié)果與一般氣體氮化相比，滲層硬度較氮化低，脆性較小，故稱為軟氮化。

1、軟氮化方法分為：氣體軟氮化、液體軟氮化及固體軟氮化三大類。國內(nèi)生產(chǎn)中應(yīng)用最廣泛的是氣體軟氮化。氣體軟氮化是在含有活性氮、碳原子的氣氛中 進行低溫氮、碳共滲，常用的共滲介質(zhì)有尿素、甲酰胺、氨氣和三乙醇胺，它們在軟氮化溫度下發(fā)生熱分解反應(yīng)，產(chǎn)生活性氮、碳原子。活性氮、碳原子被工件表面 吸收，通過擴散滲入工件表層，從而獲得以氮為主的氮碳共滲層。

氣體軟氮化溫度常用560-570℃，因該溫度下氮化層硬度值最高。氮化時間常為2-3小時，因為超過2.5小時，隨時間延長，氮化層深度增加很慢。

2、氮化爐軟氮化層組織和軟氮化特點：鋼經(jīng)軟氮化后，表面最外層可獲得幾微米至幾十微米的白亮層，它是由ε相、γ`相和含氮的滲碳體Fe3（C，N）所組成，次層為的擴散層，它主要是由γ`相和ε相組成 。