當加在結(jié)兩端的電壓發(fā)生變化時,一方面使結(jié)勢壘度發(fā)生變化,引起了勢壘區(qū)內(nèi)空間電荷的變化,這相當于對電容的充放電,因為它是勢壘度的變化引起電容量的變化的,所以我們用勢壘電容CT來表示這種作用;另一方面也使注入到p區(qū)的電子和注入到n區(qū)空穴數(shù)目發(fā)生變化,引起p區(qū)和n區(qū)的載流子濃度梯度的變化。為維持電中性條件,多數(shù)載流子也要作相應的變化,相當于載流子在擴散區(qū)中的"充"和"放",就如同電容的充放電一樣。因為它是在擴散去內(nèi)載流自變化引起的.故稱為擴散電容,用CD表示。P-N結(jié)電容包括勢壘電容和擴散電容兩部分:C=CT+CD
當結(jié)兩端的外加電時為負(即n區(qū)為正,p區(qū)接負)時,由于P區(qū)、n區(qū)的少數(shù)載流子很少,負電壓的變化并不引起p區(qū)、n區(qū)中電荷有多大的變化,所以擴散電容很小,相對勢壘電容來講,擴散電容可以忽略。即:
C=CT+CD≈CT
所以,在外加負偏壓的條件下測得的P-n結(jié)電容認為是P-n結(jié)勢壘電容。
勢壘電容(barrier capacitance)
在積累空間電荷的勢壘區(qū),當PN結(jié)外加電壓變化時,引起積累在勢壘區(qū)的空間電荷的變化,即耗盡層的電荷量隨外加電壓而增多或減少,這種現(xiàn)象與電容器的充、放電過程相同。耗盡層寬窄變化所等效的電容稱為勢壘電容。
勢壘電容具有非線性,它與結(jié)面積、耗盡層寬度、半導體的介電常數(shù)及外加電壓有關。
勢壘電容是二極管的兩極間的等效電容組成部分之一,另一部分是擴散電容。
二極管的電容效應在交流信號作用下才會表現(xiàn)出來。
勢壘電容在正偏和反偏時均不能忽略。而反向偏置時,由于少數(shù)載流子數(shù)目很少,可忽略擴散電容。
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補充說明:
勢壘電容是p-n結(jié)所具有的一種電容,即是p-n結(jié)空間電荷區(qū)(勢壘區(qū))的電容;由于勢壘區(qū)中存在較強的電場,其中的載流子基本上都被驅(qū)趕出去了--耗盡,則勢壘區(qū)可近似為耗盡層,故勢壘電容往往也稱為耗盡層電容。
耗盡層電容相當于極板間距為p-n結(jié)耗盡層厚度(W)的平板電容,它與外加電壓V有關 (正向電壓升高時,W減薄,電容增大;反向電壓升高時,W增厚,電容減小)。因為dV ≈ W · dE = W·(dQ/ε),所以耗盡層電容為Cj = dQ/dV = ε/W。對于單邊突變p+-n結(jié),有Cj = ( qεND / 2Vbi )1/2;對于線性緩變p-n結(jié),有Cj = (q aε2 / 12Vbi)1/3。勢壘電容是一種與電壓有關的非線性電容,其電容的大小與p-n結(jié)面積、半導體介電常數(shù)和外加電壓有關。當在p-n結(jié)正偏時,因有大量的載流子通過勢壘區(qū),耗盡層近似不再成立,則通常的計算公式也不再適用;這時一般可近似認為:正偏時的勢壘電容等于0偏時的勢壘電容的4倍。不過,實際上p-n結(jié)在較大正偏時所表現(xiàn)出的電容,主要不是勢壘電容,而往往是所謂擴散電容。
值得注意的是,勢壘電容是相應于多數(shù)載流子電荷變化的一種電容效應,因此勢壘電容不管是在低頻、還是高頻下都將起到很大的作用(與此相反,擴散電容是相應于少數(shù)載流子電荷變化的一種電容效應,故在高頻下不起作用)。實際上,半導體器件的最高工作頻率往往就決定于勢壘電容。
在集成電路中,一般利用PN結(jié)的勢壘電容,即讓PN結(jié)反偏,只是改變電壓的大小,而不改變極性。---變?nèi)荻壒堋?/p>
變?nèi)荻O管的工作原理
根據(jù)普通二極管內(nèi)部PN結(jié)結(jié)電容能隨外加反向電壓的變化而變化。
變?nèi)荻壒苡猛?用于自動頻率控制(AFC)和調(diào)諧用的小功率二極管,在無繩電話機中主要用在手機或座機的高頻調(diào)制電流上,實現(xiàn)低頻率信號調(diào)制到高頻信號上,并發(fā)射出去。
變?nèi)荻壒馨l(fā)生故障,主要表現(xiàn)為漏電或性能變差:
1) 發(fā)生漏電現(xiàn)象時,高頻調(diào)制電路將不工作或調(diào)制性能變差。
2) 變?nèi)菪阅茏儾顣r,高頻調(diào)制電路的工作不穩(wěn)定,使調(diào)制后的高頻信號發(fā)送到對方,被對方接收后產(chǎn)生失真。
3) 出現(xiàn)上述情況之一時,就應該更換同型號的變?nèi)荻壒堋?/p>
一般方法是這樣:測前先將電容兩端的引線相碰一下,先行放電;再根據(jù)電容大小,選擇萬用表的電阻檔量電阻,看電容器是否有充電過程,及最后表針的停留位置,表示漏電電阻的大小。 對于小容量的電容器,如滌綸、...
電容電感測量儀(英文名稱:Automatic Capacitance Inductance Tester  ...
檢測電容器的好壞:用x100檔。① 把萬用表表筆分別接到電容器的兩引線上,② 把電容器的兩引線對換③ 在把萬用表表筆分別接到對換后電容器的兩引線上第②③步可以反復進行。電容的損壞現(xiàn)象,主要是短路、斷路...
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微弱電容測量電路是一種新型的電路,其是在電荷放大的基礎上提出來的,在電容傳感器中有著良好的應用,這種新型電路性能比較強,可以抵抗干擾,還可以降低電荷對測量分辨率的影響。這種新型電路不需要應用濾波器,而且采集信號的速度比較快,靈敏度與分辨率比較高,應用新型微弱電容測量電路,可以有效的提高電容傳感器的效能。
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電容傳感器微電容測量電路的分析與研究 祝 敏 (湖南永州職業(yè)技術(shù)學院 電子系 , 湖南 永州 425100) 摘 要 :電容式傳感器微電容檢測電路的選用與設計一直是研究的難點問題之一 。文章介紹了基于電荷轉(zhuǎn)移原理 和基于振蕩電路的兩種測量方法 。分析了兩種測量電路的組成及工作原理 。電路消除了寄生電容和電子開關的 電荷注入效應等因素對測量結(jié)果的影響 ,系統(tǒng)采用直流恒壓源作激勵信號 ,不需要濾波 ,可以提高采樣速度 ,采用 差動輸出 ,進一步提高了電路抗干擾能力 ,這對研究電容式傳感器的電容量及其電容的變化量的測量有一定的現(xiàn) 實意義 。 關鍵詞 :電容式傳感器 ; 電容測量 ; 電荷轉(zhuǎn)移 ; 電容 - 頻率轉(zhuǎn)換 中圖分類號 :TP21 文獻標識碼 :A 文章編號 :1008 - 8725(2010) 03 - 0056 - 04 Analysis and Research
密勒電容對器件的頻率特性有直接的影響。
在共射(CE)組態(tài)中,集電結(jié)電容勢壘電容正好是密勒電容,故CE組態(tài)的工作頻率較低。而在共基極(CB)組態(tài)中,集電結(jié)和發(fā)射結(jié)的勢壘電容都不是密勒電容,故CB組態(tài)的頻率特性較好,工作頻率高、頻帶寬。因此,把CE與CB組態(tài)結(jié)合起來,即可既提高了增益(CE的作用),又改善了頻率特性(CB的作用)。對于由CC和CE組態(tài)構(gòu)成的達林頓管,情況與CE組態(tài)相同,故頻率特性較差。而對于CC-CE復合管,因為去掉了密勒電容,故頻率特性較好。
MOSFET的輸出電容是源極與漏極之間的覆蓋電容Cds。在共源組態(tài)中,Cdg正好跨接在輸入端(柵極)與輸出端(漏極)之間,故密勒效應使得等效輸入電容增大,導致頻率特性降低。在共柵極組態(tài)中,Cdg不是密勒電容,故頻率特性較好。對于MOSFET的共源-共柵組態(tài),則既提高了增益(等于兩級增益的乘積,共源組態(tài)起主要作用),又改善頻率特性(共柵極組態(tài)起主要作用),從而可實現(xiàn)高增益、高速度和寬頻帶。
密勒電容對器件的頻率特性有直接的影響:
在共射(CE)組態(tài)中,集電結(jié)電容勢壘電容正好是密勒電容,故CE組態(tài)的工作頻率較低。而在共基極(CB)組態(tài)中,集電結(jié)和發(fā)射結(jié)的勢壘電容都不是密勒電容,故CB組態(tài)的頻率特性較好,工作頻率高、頻帶寬。因此,把CE與CB組態(tài)結(jié)合起來,即可既提高了增益(CE的作用),又改善了頻率特性(CB的作用)。對于由CC和CE組態(tài)構(gòu)成的達林頓管,情況與CE組態(tài)相同,故頻率特性較差。而對于CC-CE復合管,因為去掉了密勒電容,故頻率特性較好。
MOSFET的輸出電容是柵極與漏極之間的覆蓋電容Cdg。在共源組態(tài)中,Cdg正好跨接在輸入端(柵極)與輸出端(漏極)之間,故密勒效應使得等效輸入電容增大,導致頻率特性降低。在共柵極組態(tài)中,Cdg不是密勒電容,故頻率特性較好。對于MOSFET的共源-共柵組態(tài),則既提高了增益(等于兩級增益的乘積,共源組態(tài)起主要作用),又改善頻率特性(共柵極組態(tài)起主要作用),從而可實現(xiàn)高增益、高速度和寬頻帶。
(1)對單邊突變的p -n結(jié),其勢壘電容C與電壓V之間的關系可表示為:1/C2 = 2( Vbi –V)/(qεNdA2 ),則可通過測量1/C2~V關系曲線的斜率和截距來求得n型一邊的摻雜濃度Nd和結(jié)的內(nèi)建電勢Vbi 。對線性緩變結(jié), 也可以通過測量1/C3~V關系曲線來求得Nd和Vbi 。
對于一般的p-n結(jié)或者金屬-半導體接觸,也可通過C-V曲線的測量來得到輕摻雜一邊的雜質(zhì)濃度的分布N(W) : N(W) = (2/qA2ε) [d(1/C2)/dV] 。
(2)對于MOS系統(tǒng),通過其高頻C-V特性曲線的測量(或者再加熱測量)還可以得到其中的界面態(tài)和固定的與可動的電荷的數(shù)量;在MOS器件及其IC的制造過程中,C-V測量技術(shù)已經(jīng)成為了一種常規(guī)的檢測手段,用來監(jiān)控工藝的質(zhì)量。
此外,通過測量瞬態(tài)的C-V關系(例如深能級瞬態(tài)譜[DLTS]技術(shù)),還可以獲得關于系統(tǒng)中界面態(tài)的信息。2100433B