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更新時間:2024.12.28
多壁碳納米管-Nafion復(fù)合膜修飾玻碳電極測定硝苯地平的研究

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研制了以Nafion分散羧基化多壁碳納米管的化學(xué)修飾電極(Nafion-MWCNTs/GC),研究了硝苯地平(NIF)在修飾電極上的電化學(xué)行為和測定方法。實驗結(jié)果表明,在0.1mol/LNH3-NH4Cl(pH9.6)溶液中,Nafion-MWCNTs/GC,對NIF具有明顯的催化和增敏作用,還原峰電位由-0.85V(裸電極)正移到-0.75V(vs.AgCl/Ag)(修飾電極),靈敏度增加約7倍。對各種實驗條件進行了優(yōu)化。定量測定的線性范圍為2.5×10-7~4.5×10-5mol/L,r為0.9974;檢出限為8.0×10-8mol/L。探討了NIF在Nafion-MWCNTs/GC上的電極過程和反應(yīng)機理,測得在本體系中參與反應(yīng)的質(zhì)子數(shù)和電子轉(zhuǎn)移數(shù)均為4,電子轉(zhuǎn)移系數(shù)α為0.41。對NIF藥片進行了測定,回收率為94.5%~101.0%。

納米金修飾硅納米線電極陽極溶出法測定痕量鉛、銅

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以浸入沉積的方法在硅納米線上修飾了金納米顆粒,并通過電子掃描顯微鏡(SEM)和X射線熒光分析(XRF)對金納米粒子修飾的硅納米線電極表面形貌進行了表征.以修飾后的硅納米線電極作為工作電極,采用陽極溶出法檢測水中痕量鉛和銅,考察pH值、富集電位和富集時間對溶出峰的影響,優(yōu)化出最佳實驗條件.在優(yōu)化的實驗條件下,鉛Pb2+和銅Cu2+的靈敏度分別為0.649μA/(μg.L-1)和0.177μA/(μg.L-1).檢測極限達到0.26μg.L-1和0.67μg.L-1.峰電流與離子濃度在質(zhì)量濃度25~200μg.L-1的范圍內(nèi)形成良好的線性關(guān)系.

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