鍍膜應(yīng)用

鍍膜在眼鏡上

鍍膜常用在相機(jī)鏡頭、近視、遠(yuǎn)視、老花鏡等矯正眼鏡上使用。

鍍膜是在表面鍍上非常薄的透明薄膜。目的是希望減少光的反射，增加透光率，抗紫外線并抑低耀光、鬼影；不同顏色的鍍膜，也使的成像色彩平衡的不同。此外，鍍膜尚可延遲鏡片老化、變色的時(shí)間。

眼鏡鍍膜常用藥品：二氧化鋯（ZrO?）、二氧化硅（SiO?）、ITO（增加鏡片導(dǎo)電抗紫外線）、HT-100（防水膜，防止老化和氧化）……

鍍膜原理：高電壓電子槍將以上幾種藥品汽化，均勻分布在鏡片表面。

鍍膜在汽車(chē)上

鍍膜美容是漆面保護(hù)的最高措施，可以避免氧化，達(dá)到使漆面增亮、抗酸堿、抗氧化、抗紫外線等多重功效。由于膜的材料本身是一種無(wú)機(jī)物，對(duì)車(chē)漆沒(méi)有損害。

一般在給車(chē)鍍膜時(shí)，車(chē)身由于老化而變色脆化的漆皮及長(zhǎng)年腐蝕形成的氧化層會(huì)一并除掉。可增加漆面硬度，避免小的劃痕和光圈產(chǎn)生。保持時(shí)間也最長(zhǎng)，約有一年多。

鍍膜也不是十全十美的，鍍完膜時(shí)光亮度不如封釉，所以并不適合愛(ài)靚的車(chē)友，整車(chē)鍍膜的價(jià)格在千元以上。

鍍膜光學(xué)型材

（純度：99.9%-99.9999%）

1. 高純氧化物：

一氧化硅、SiO，二氧化鉿、HfO2，二硼化鉿，氯氧化鉿，二氧化鋯、ZrO2，二氧化鈦、TiO2，一氧化鈦、TiO，二氧化硅、SiO2，三氧化二鈦、Ti2O3，五氧化三鈦、Ti3O5，五氧化二鉭、Ta2O5，五氧化二鈮、Nb2O5，三氧化二鋁、Al2O3，三氧化二鈧、Sc2O3，三氧化二銦、In2O3，二鈦酸鐠、Pr(TiO3)2，二氧化鈰、CeO2，氧化鎂、MgO，三氧化鎢、WO3，氧化釤、Sm2O3，氧化釹、Nd2O3，氧化鉍、Bi2O3，氧化鐠、Pr6O11，氧化銻、Sb2O3，氧化釩、V2O5，氧化鎳、NiO，氧化鋅、ZnO，氧化鐵、Fe2O3，氧化鉻、Cr2O3，氧化銅、CuO等。

2. 高純氟化物：

氟化鎂、MgF2，氟化鐿、YbF3，氟化釔、LaF3，氟化鏑、DyF3，氟化釹、NdF3，氟化鉺、ErF3，氟化鉀、KF，氟化鍶、SrF3，氟化釤、SmF3，氟化鈉、NaF，氟化鋇、BaF2，氟化鈰、CeF3，氟化鉛等。

4. 混合料：

氧化鋯氧化鈦混合料，氧化鋯氧化鉭混合料，氧化鈦氧化鉭混合料，氧化鋯氧化釔混合料，氧化鈦氧化鈮混合料，氧化鋯氧化鋁混合料，氧化鎂氧化鋁混合料，氧化銦氧化錫混合料，氧化錫氧化銦混合料，氟化鈰氟化鈣混合料等混合料

3. 高純金屬類：

高純鋁,高純鋁絲，高純鋁粒，高純鋁片，高純鋁柱，高純鉻粒，高純鉻粉，鉻條，高純金絲，高純金片，高純金，高純金粒，高純銀絲，高純銀粒，高純銀,高純銀片，高純鉑絲，高純鉿粉，高純鉿絲，高純鉿粒，高純鎢粒，高純鉬粒，高純單晶硅，高純多晶硅，高純鍺粒，,高純錳粒，高純鈷，高純鈷粒，高純鉬，高純鉬片，高純鈮，高純錫粒，高純錫絲，高純鎢粒，高純鋅粒，高純釩粒，高純鐵粒，高純鐵粉，海面鈦,高純鋯絲，高純鋯，海綿鋯,碘化鋯,高純鋯粒，高純鋯塊，高純碲粒，高純鍺粒， 高純鈦片，高純鈦粒，高純鎳，高純鎳絲，高純鎳片，高純鎳柱，高純鉭片，高純鉭，高純鉭絲，高純鉭粒，高純鎳鉻絲，高純鎳鉻粒，高純鑭,高純鐠,高純釓,高純鈰,高純鋱,高純鈥,高純釔,高純鐿,高純銩,高純錸,高純銠,高純鈀,高純銥等.

5. 其他化合物：

鈦酸鋇，BaTiO3，鈦酸鐠，PrTiO3，鈦酸鍶，SrTiO3，鈦酸鑭，LaTiO3，硫化鋅，ZnS，冰晶石，Na3AlF6，硒化鋅，ZnSe，硫化鎘。

6. 輔料：

鉬片，鉬舟、鉭片、鎢片、鎢舟、鎢絞絲。

鍍膜濺射靶材

（純度：99.9%-99.999%）

1.金屬靶材：

1. 金屬靶材：

鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。

2. 陶瓷靶材

ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。

鍍膜主要是為了減少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質(zhì)量，在現(xiàn)代鏡頭制造工藝上都要對(duì)鏡頭進(jìn)行鍍膜。鏡頭的鍍膜是根據(jù)光學(xué)的干涉原理，在鏡頭表面鍍上一層厚度為四分之一波長(zhǎng)的物質(zhì)(通常為氟化物)，使鏡頭對(duì)這一波長(zhǎng)的色光的反射降至最低。顯然，一層膜只對(duì)一種色光起作用，而多層鍍膜則可對(duì)多種色光起作用。多層鍍膜通常采用不同的材料重復(fù)地在透鏡表面鍍上不同厚度的膜層。多層鍍膜可大大提高鏡頭的透光率，例如，未經(jīng)鍍膜的透鏡每個(gè)表面的反射率為5%，單層鍍膜后降至2%，而多層鍍膜可降至0．2%，這樣，可大大減少鏡頭各透鏡間的漫反射，從而提高影像的反差和明銳度。

鍍膜所需設(shè)備產(chǎn)品

所用設(shè)備：美容工具車(chē)、封釉機(jī)、封釉海綿、納米毛巾，棉簽、平面海綿、波浪海綿

所用產(chǎn)品：增艷劑、密封劑、鏡面光滑劑、鍍膜產(chǎn)品、活性促進(jìn)劑，輪胎上光劑。玻璃清洗液、表板蠟、柏油清洗劑

施工部位：漆面、輪胎、玻璃、表臺(tái)

鍍膜操作步驟

汽車(chē)清洗→準(zhǔn)備工作與鍍膜工作→車(chē)身吹水→祛除車(chē)身瑕疵→活性促進(jìn)劑處理→遮擋密封處理→鍍膜→拋光→交車(chē)檢查

鍍膜工藝順序：沖洗汽車(chē)→擦車(chē)→祛除柏油→手工砂紙打磨→深切局部研磨→中切局部研磨→微切整車(chē)研磨→整車(chē)拋光→整車(chē)還原→汽車(chē)清洗→整車(chē)活性促進(jìn)劑去油→整車(chē)增艷→整車(chē)密封→上鏡面光滑劑→涼干→拋藥劑→上勁亮樹(shù)脂→涼干→拋藥劑→上氟炭樹(shù)脂→涼干→手工拋光→上寶石護(hù)膜→涼干→拋藥劑→封釉→涼干→拋藥劑→細(xì)部處理→轎車(chē)檢查

當(dāng)光線進(jìn)入不同傳遞物質(zhì)時(shí)（如由空氣進(jìn)入玻璃），大約有5% 會(huì)被反射掉，在光學(xué)瞄準(zhǔn)鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個(gè)加起來(lái)可以讓入射光線損失達(dá)30%至40%。現(xiàn)代光學(xué)透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至 1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至 0.25%，所以整個(gè)瞄準(zhǔn)鏡如果加以適當(dāng)鍍膜，光線透穿率可達(dá) 95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍(lán)紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色 。

鍍膜車(chē)身溫度不能過(guò)高（30°以上），在專業(yè)施工車(chē)間內(nèi)進(jìn)行施工，有風(fēng)沙時(shí)應(yīng)注意房間密封，鍍膜施工完成后車(chē)輛不可在陽(yáng)光下曝曬，防止藥劑層溶化，藥劑層要薄而均勻，并且要注意工作服，袖口不要蹭壞藥劑層，嚴(yán)禁登踏車(chē)門(mén)邊框上藥劑，嚴(yán)禁身體緊挨車(chē)身，外飾件，玻璃、橡膠件沾上藥劑時(shí)及時(shí)擦除，有些車(chē)天窗密封件用的是紡織材料，事先應(yīng)將其用美紋紙遮擋覆蓋，避免沾上藥劑。鍍膜后7日內(nèi)不要洗車(chē)。

施工時(shí):車(chē)身無(wú)水分，涂抹均勻，壓花均勻

清潔：車(chē)身無(wú)殘留藥劑，車(chē)身光亮潤(rùn)滑，施工后漆面反射度明顯提高。（100以上）

施工后的車(chē)身應(yīng)無(wú)殘留藥劑，各板金縫隙間干凈。輪胎、玻璃、輪轂、表臺(tái)干凈且應(yīng)上相應(yīng)的養(yǎng)護(hù)蠟。保證施工完整性。

施工后的車(chē)身應(yīng)具有良好的泄塵泄水性。漆面手感良好，光滑度能大幅度提高

在陽(yáng)光折射下車(chē)身不應(yīng)有機(jī)拋旋紋；發(fā)絲劃痕數(shù)量應(yīng)小于7道/m2

光學(xué)薄膜在高真空度的鍍膜腔中實(shí)現(xiàn)。常規(guī)鍍膜工藝要求升高基底溫度(通常約為300℃)；而較先進(jìn)的技術(shù)，如離子輔助沉積(IAD)可在室溫下進(jìn)行。IAD工藝不但生產(chǎn)比常規(guī)鍍膜工藝具有更好物理特性的薄膜，而且可以應(yīng)用于塑料制成的基底。圖19.11展示一個(gè)操作者正在光學(xué)鍍膜機(jī)前。抽真空主系統(tǒng)由兩個(gè)低溫泵組成。電子束蒸發(fā)、IAD沉積、光控、加熱器控制、抽真空控制和自動(dòng)過(guò)程控制的控制模塊都在鍍膜機(jī)的前面板上。圖19.12示出裝配在高真空鍍膜機(jī)基板上的硬件布局。兩個(gè)電子槍源位于基板兩邊，周?chē)黔h(huán)形罩并被擋板覆蓋。離子源位于中間，光控窗口在離子源的前方。圖19.13示出真空室的頂部，真空室里有含6個(gè)圓形夾具的行星系統(tǒng)。夾具用于放置被鍍膜的光學(xué)元件。使用行星系統(tǒng)是保證被蒸發(fā)材料在夾具區(qū)域內(nèi)均勻分布的首選方法。夾具繞公共軸旋轉(zhuǎn)，同時(shí)繞其自身軸旋轉(zhuǎn)。光控和晶控處于行星驅(qū)動(dòng)機(jī)械裝置的中部，驅(qū)動(dòng)軸遮擋晶控。背面的大開(kāi)口通向附加的高真空泵?；准訜嵯到y(tǒng)由4個(gè)石英燈組成，真空室的兩邊各兩個(gè)。

薄膜沉積的傳統(tǒng)方法一直是熱蒸發(fā)，或采用電阻加熱蒸發(fā)源或采用電子束蒸發(fā)源。薄膜特性主要決定于沉積原子的能量，傳統(tǒng)蒸發(fā)中原子的能量?jī)H約0.1eV。IAD沉積導(dǎo)致電離化蒸汽的直接沉積并且給正在生長(zhǎng)的膜增加活化能，通常為50eV量級(jí)。離子源將束流從離子槍指向基底表面和正在生長(zhǎng)的薄膜來(lái)改善傳統(tǒng)電子束蒸發(fā)的薄膜特性。

薄膜的光學(xué)性質(zhì)，如折射率、吸收和激光損傷閾值，主要依賴于膜層的顯微結(jié)構(gòu)。薄膜材料、殘余氣壓和基底溫度都可能影響薄膜的顯微結(jié)構(gòu)。如果蒸發(fā)沉積的原子在基底表面的遷移率低，則薄膜會(huì)含有微孔。當(dāng)薄膜暴露于潮濕的空氣時(shí)，這些微孔逐漸被水汽所填充。

填充密度定義為薄膜固體部分的體積與薄膜的總體積(包括空隙和微孔)之比。對(duì)于光學(xué)薄膜，填充密度通常為0.75～1.0，大部分為0.85～0.95，很少達(dá)到1.0。小于l的填充密度使所蒸發(fā)材料的折射率低于其塊料的折射率。

在沉積過(guò)程中，每一層的厚度均由光學(xué)或石英晶體監(jiān)控。這兩種技術(shù)各有優(yōu)缺點(diǎn)，這里不作討論。其共同點(diǎn)是材料蒸發(fā)時(shí)它們均在真空中使用，因而，折射率是蒸發(fā)材料在真空中的折射率，而不是暴露于潮濕空氣中的材料折射率。薄膜吸收的潮氣取代微孔和空隙，造成薄膜的折射率升高。由于薄膜的物理厚度保持不變，這種折射率升高伴有相應(yīng)的光學(xué)厚度的增加，反過(guò)來(lái)造成薄膜光譜特性向長(zhǎng)波方向的漂移。為了減小由膜層內(nèi)微孔的體積和數(shù)量所引起的這種光譜漂移，采用高能離子以將其動(dòng)量傳遞給正在蒸發(fā)的材料原子，從而大大增加材料原子在基底表面處凝結(jié)期間的遷移率。

我們已經(jīng)知道透光度與鍍膜的折射率有關(guān)，但是卻無(wú)關(guān)于它的厚度?？墒俏覀?nèi)裟茉阱兡さ暮穸壬舷曼c(diǎn)功夫，會(huì)發(fā)現(xiàn)反射光A與反射光B相差 n_c×2D 的光程差。如果

n_c×2D=（N 1/2）λ 其中 N= 0,1,2,3,4,5..... λ為光在空氣中的波長(zhǎng)

則會(huì)造成該特定波長(zhǎng)的反射光有相消的效應(yīng)，因此反射光的顏色會(huì)改變。

例如，鍍膜的厚度若造成綠色光的相消，則反射光會(huì)呈現(xiàn)紅色的。市面上許多看似紅色鏡片的望遠(yuǎn)鏡都是用這個(gè)原理制作的。盡管如此，透射光卻沒(méi)有偏紅的現(xiàn)象。

在許多復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)里，反射光的抑制是十分重要的功課。因此一組鏡片之間，會(huì)利用不同的鍍膜厚度來(lái)消去不同頻率的反射光。所以越高級(jí)的光學(xué)系統(tǒng)，發(fā)現(xiàn)反射光的顏色也會(huì)越多。