中文名 | 復(fù)合鍍膜系統(tǒng) | 產(chǎn)????地 | 中國 |
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學(xué)科領(lǐng)域 | 材料科學(xué) | 啟用日期 | 2009年10月31日 |
所屬類別 | 工藝試驗(yàn)儀器 |
鍍膜。
極限真空度:≤4x10-5 Pa (經(jīng)12小時烘烤除氣后); 系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S; 系統(tǒng)從大氣開始抽氣,60分鐘可達(dá)到5x10-4 Pa;。
BOPP是“Biaxially?Oriented?Polypropylene”的簡稱,即雙向拉伸聚丙烯薄膜。它的生產(chǎn)是將高分子聚丙烯的熔體首先通過狹長機(jī)頭制成片材或厚膜,然后在專用的拉伸機(jī)內(nèi),在一定的...
BOPP平膜也叫光膜,沒有熱封性能,主要用于印刷,制袋,做膠帶等,熱封膜是在表層共擠出共聚料,增加其熱封性能,用于和部分小食品的包裝。
復(fù)合土工膜,廣泛應(yīng)用于渠道防滲工程。近年來,土工合成材料在土木工程,尤其是在防洪搶險工程中的大量應(yīng)用及其成效,引起了廣大工程技術(shù)人員的高度重視。對于土工合成材料的應(yīng)用技術(shù),國家從防滲、反濾、排水、加筋...
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復(fù)合土工膜(復(fù)合防滲膜)分為一布一膜和兩布一膜,寬幅4~6m,重量為200~1500g/m2,抗拉、抗撕裂、頂破等物理力學(xué)性能指標(biāo)高,產(chǎn)品具有強(qiáng)度高,延伸性能較好,變形模量大,耐酸堿、抗腐蝕,耐老化,防滲性能好等特點(diǎn)。能滿足水利、市政、建筑、交通,地鐵、隧道、工程建設(shè)中的防滲,隔離,補(bǔ)強(qiáng),防裂加固等土木工程需要。
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凹版涂布的復(fù)合材料 PET 復(fù)合鋁箔膜 一、 復(fù)合膜專用膠特性及用途 1、 對多種薄膜具有較強(qiáng)的粘著力度,通常用于厚層及薄層材料的貼合復(fù)合,特別是 對一些難粘薄膜基材如: PVC、PET、厚層 PE等具有較佳的粘接效果; 2、 固化快,具有較高的初固粘接力度、具有優(yōu)異的剝離強(qiáng)度,特別適合用于鋁箔等 剛性材料的粘接復(fù)合; 3、耐溫性能高,對多層加強(qiáng)型的結(jié)構(gòu)厚層薄膜具有較高的粘接強(qiáng)度,對 PE 膜具有較 佳的附著力和熱封性能; 4、高透明、高亮度,成膜性好;具有良好的潤濕、流平性能,適合高、中速涂布。 5、適用于厚層 PE膜的復(fù)合, 廣泛應(yīng)用于食品軟包裝復(fù)合材料 OPP、CPP、PE、PET、NY、 AL等基材的層間復(fù)合。 二、 復(fù)合膜專用膠產(chǎn)品技術(shù)規(guī)格: 型號 主劑: TS9015A 固化劑: TS9015B 外觀 無色或淺黃色透明粘稠液體 無色或淺黃色透明粘稠液體 固含量( %) 50±2
鍍膜厚度2-3微米;摩擦系統(tǒng)小于0.15。
當(dāng)今國內(nèi)外表面技術(shù)的發(fā)展和實(shí)際應(yīng)用,應(yīng)把各類表面技術(shù)作為一個系統(tǒng)工程進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì)和優(yōu)化組合。
表面復(fù)合鍍膜處理從技術(shù)上看,這種優(yōu)化組合在很大程度上就是一種“表面復(fù)合處理”技術(shù)。在強(qiáng)束流的金屬離子注人技術(shù)不理想的條件下,運(yùn)用鍍膜與離子注人的復(fù)合,即離子反沖注人技術(shù); 先用離子束輔助涂覆(IAC),再用輕離子的離子束轟擊涂層表面,使徐層元素部分混人基體。
因轟擊中的離子和涂層中的金屬原子間的化學(xué)反應(yīng),使涂層部分地或全部地轉(zhuǎn)變成氮化物或氧化物,使涂層性能得到提高; 用離子輔助沉積(AD) 在鋼、鎳、碳纖維增強(qiáng)鋁合金及Si3Al 上沉積Si3N4 梯度薄膜。目前已沉積出一側(cè)具有熱、電絕緣性能,而另一側(cè)具有導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能的薄膜材料。用激光、電子束與氣相沉積技術(shù)復(fù)合,如在Al上沉積的Ti或Al粒子,在通入N2或O2的同時,用CO2激光照射,可在AI 表面上形成高硬度的TIN或Al2O3,使AI 的耐磨性能提高103~ 10倍。
光學(xué)薄膜在高真空度的鍍膜腔中實(shí)現(xiàn)。常規(guī)鍍膜工藝要求升高基底溫度(通常約為300℃);而較先進(jìn)的技術(shù),如離子輔助沉積(IAD)可在室溫下進(jìn)行。IAD工藝不但生產(chǎn)比常規(guī)鍍膜工藝具有更好物理特性的薄膜,而且可以應(yīng)用于塑料制成的基底。圖19.11展示一個操作者正在光學(xué)鍍膜機(jī)前。抽真空主系統(tǒng)由兩個低溫泵組成。電子束蒸發(fā)、IAD沉積、光控、加熱器控制、抽真空控制和自動過程控制的控制模塊都在鍍膜機(jī)的前面板上。圖19.12示出裝配在高真空鍍膜機(jī)基板上的硬件布局。兩個電子槍源位于基板兩邊,周圍是環(huán)形罩并被擋板覆蓋。離子源位于中間,光控窗口在離子源的前方。圖19.13示出真空室的頂部,真空室里有含6個圓形夾具的行星系統(tǒng)。夾具用于放置被鍍膜的光學(xué)元件。使用行星系統(tǒng)是保證被蒸發(fā)材料在夾具區(qū)域內(nèi)均勻分布的首選方法。夾具繞公共軸旋轉(zhuǎn),同時繞其自身軸旋轉(zhuǎn)。光控和晶控處于行星驅(qū)動機(jī)械裝置的中部,驅(qū)動軸遮擋晶控。背面的大開口通向附加的高真空泵?;准訜嵯到y(tǒng)由4個石英燈組成,真空室的兩邊各兩個。
薄膜沉積的傳統(tǒng)方法一直是熱蒸發(fā),或采用電阻加熱蒸發(fā)源或采用電子束蒸發(fā)源。薄膜特性主要決定于沉積原子的能量,傳統(tǒng)蒸發(fā)中原子的能量僅約0.1eV。IAD沉積導(dǎo)致電離化蒸汽的直接沉積并且給正在生長的膜增加活化能,通常為50eV量級。離子源將束流從離子槍指向基底表面和正在生長的薄膜來改善傳統(tǒng)電子束蒸發(fā)的薄膜特性。
薄膜的光學(xué)性質(zhì),如折射率、吸收和激光損傷閾值,主要依賴于膜層的顯微結(jié)構(gòu)。薄膜材料、殘余氣壓和基底溫度都可能影響薄膜的顯微結(jié)構(gòu)。如果蒸發(fā)沉積的原子在基底表面的遷移率低,則薄膜會含有微孔。當(dāng)薄膜暴露于潮濕的空氣時,這些微孔逐漸被水汽所填充。
填充密度定義為薄膜固體部分的體積與薄膜的總體積(包括空隙和微孔)之比。對于光學(xué)薄膜,填充密度通常為0.75~1.0,大部分為0.85~0.95,很少達(dá)到1.0。小于l的填充密度使所蒸發(fā)材料的折射率低于其塊料的折射率。
在沉積過程中,每一層的厚度均由光學(xué)或石英晶體監(jiān)控。這兩種技術(shù)各有優(yōu)缺點(diǎn),這里不作討論。其共同點(diǎn)是材料蒸發(fā)時它們均在真空中使用,因而,折射率是蒸發(fā)材料在真空中的折射率,而不是暴露于潮濕空氣中的材料折射率。薄膜吸收的潮氣取代微孔和空隙,造成薄膜的折射率升高。由于薄膜的物理厚度保持不變,這種折射率升高伴有相應(yīng)的光學(xué)厚度的增加,反過來造成薄膜光譜特性向長波方向的漂移。為了減小由膜層內(nèi)微孔的體積和數(shù)量所引起的這種光譜漂移,采用高能離子以將其動量傳遞給正在蒸發(fā)的材料原子,從而大大增加材料原子在基底表面處凝結(jié)期間的遷移率。