中文名 | 真空多弧離子鍍膜設(shè)備 | 產(chǎn)????地 | 中國 |
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學(xué)科領(lǐng)域 | 材料科學(xué) | 啟用日期 | 2015年12月08日 |
所屬類別 | 工藝試驗(yàn)儀器 > 加工工藝實(shí)驗(yàn)設(shè)備 |
樣品鍍膜。 2100433B
最高溫度500℃;極限真空6*10E-4Pa。
凱德利冷機(jī)很高興回答真空鍍膜機(jī)械,一般應(yīng)用在光學(xué)、光伏、太陽能等行業(yè)。這類設(shè)備上面冷卻系統(tǒng)常跟這類廠家配套,比較了解。做這個(gè)比較好的一般分布廣東、大連、青島等地
要看鍍什么產(chǎn)品,比如化妝品、車燈、電子產(chǎn)品、酒瓶等對(duì)機(jī)器的要求都不一樣
真空鍍膜設(shè)備,主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
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大?。?span id="2tge1u4" class="single-tag-height">68KB
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評(píng)分: 4.5
由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行。《真空鍍膜技術(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空化學(xué)氣相沉積(CVD)、離子注入與離子輔助沉積技術(shù)、
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評(píng)分: 4.7
由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行?!墩婵斟兡ぜ夹g(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空化學(xué)氣相沉積(CVD)、離子注入與離子輔助沉積技術(shù)、ITO導(dǎo)電玻璃鍍膜工藝、薄膜厚度測量與監(jiān)控、薄膜與表面分析檢測技術(shù)。書中還系統(tǒng)地介紹了反應(yīng)濺射鍍膜、非平衡磁控濺射和中頻交流濺射鍍膜技術(shù)。
現(xiàn)代許多高精密度的產(chǎn)品在制造過程中的某些階段必需
真空(2張)
使用程度不一的真空才能制造,如半導(dǎo)體、硬盤、鏡片。在實(shí)驗(yàn)室和工廠中制造真空的方法是利用泵在密閉的空間中抽出空氣以達(dá)到某種程度的真空。在真空技術(shù)中按照壓力的高低我們可以區(qū)分為:
粗略真空(Rough Vacuum) 760 ~ 10 Torr
中度真空(Medium Vacuum) 10 ~ Torr
高真空 (High Vacuum)~ Torr
超高真空(Ultra-High Vacuum) Torr以下
真空泵是制造真空的一種機(jī)械,它可以把一個(gè)密閉的或半密閉的空間中空氣排出或者吸收,達(dá)到局部空間的相對(duì)真空。常見的真空泵有往復(fù)式真空泵、水環(huán)泵、分子泵、旋片式真空泵、活塞式真空泵、搖擺活塞式真空泵、隔膜式真空泵、線性真空泵等種類非常多。
真空是一種不存在任何物質(zhì)的空間狀態(tài),是一種物理現(xiàn)象。在"真空"中,聲音因?yàn)闆]有介質(zhì)而無法傳遞,但電磁波的傳遞卻不受真空的影響。事實(shí)上,在真空技術(shù)里,真空系針對(duì)大氣而言,一特定空間內(nèi)部之部份物質(zhì)被排出,使其壓力小于一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓,則我們通稱此空間為真空或真空狀態(tài)。真空常用帕斯卡(Pascal)或托爾(Torr)做為壓力的單位。目前在自然環(huán)境里,只有外太空堪稱最接近真空的空間。