電鍍鉻常見故障

電鍍鉻鍍層脫落

(1)陽極電流密度不當(dāng)影響鍍層結(jié)合力。電流密度過大，造成黑鉻鍍層容易脫落，所以必須注意控制陰極電流密度在工藝規(guī)定范圍。

(2)鍍液中SiF6；一含量偏高，也會使黑鉻鍍層容易脫落，可以通過電解處理使之降低并保持在工藝規(guī)定范圍。

電鍍鉻鍍層耐磨性不良

(1)據(jù)某廠生產(chǎn)實(shí)踐對比表明，主要成分含量不當(dāng)，對黑鉻鍍層耐磨性有影響。若鍍液中CrO3含量低于250g/L，鍍層耐磨性較差，而H3BO3。含量低于20g/L時(shí)，鍍層結(jié)晶粗糙，硬度與耐磨性會有所降低。

(2)在電鍍過程中，陰陽極面積比控制不當(dāng)，比例失調(diào)，也會使鍍層耐磨性下降，通常情況下陰陽極面積比在1:5至1:1O的范圍較為有利。

電鍍鉻鍍層顏色不正

(1)鍍液中帶人Cl-或SO4；一有害雜質(zhì)離子，易使鍍層顏色淡或發(fā)灰，可以定性分析確認(rèn)后添加AgNO3或BaCO3(Ba(OH)2)沉淀去除Cl-或SO4，消除有害影響。黑鉻鍍層顏色淡，鍍層黑度差，也可能是NaNO3。含量不足，可以通過定量分析確定后作補(bǔ)充調(diào)整。也可能是電鍍時(shí)間太短所致。

(2)鍍層泛紅，主要原因是H3BO3。含量太高，可以通過電解處理降低其含量，以保證鍍層質(zhì)量。

(3)鍍層表面出現(xiàn)褐色條紋，往往是由于Cu2 等有害雜質(zhì)超過允許含量，可以小電流電解去除之。

電鍍鉻前處理

一般情況下，鋼鐵零件電鍍黑鉻，多數(shù)以鍍銅或鍍鎳作底鍍層，而高檔產(chǎn)品則往往以銅、鎳乳白鉻、黑鉻組合鍍層做防護(hù)裝飾鍍層。對銅合金零件經(jīng)除油酸洗等前處理，可以直接鍍黑鉻，而高檔產(chǎn)品則以鍍鎳作底鍍層，然后再鍍黑鉻，防護(hù)裝飾效果更好。

電鍍鉻后處理

電鍍黑鉻產(chǎn)品零件經(jīng)清洗吹干后，若采用浸熱油封閉，其防護(hù)裝飾效果會進(jìn)一步提高，也有在其表面噴涂有機(jī)透明涂料，從而大大提高防護(hù)裝飾效果。

裝飾性鍍鉻0.001-0.003mm

耐磨性鍍鉻0.05-0.1mm

恢復(fù)尺寸鍍鉻要根據(jù)磨損程度來確定厚度,到一定厚度后要加以研磨

電鍍鉻簡介

電鍍鉻：dianduge

電鍍硬鉻一般應(yīng)用于模具的產(chǎn)品位的表面。

電鍍鉻優(yōu)點(diǎn)

經(jīng)電鍍鉻處理后，模具、工件有如下優(yōu)點(diǎn)：

一、表面平整、光潔、易于脫模，為保證產(chǎn)品之光潔、平整。

二、不會生銹，一點(diǎn)銹斑都不會有。

三、鍍的過程中原零件變形小，表層鍍鉻后可增強(qiáng)硬度（HR65以上），耐高溫達(dá)500℃、耐腐蝕、防酸、耐磨損。

四、如果零件尺寸不到位，可以通過加幾c鉻來達(dá)到尺寸。

五、根據(jù)產(chǎn)品之特點(diǎn)，達(dá)到視覺、立體的效果，確保產(chǎn)品的穩(wěn)定的表面質(zhì)量。

其他:除了可以鍍鉻,還可以鍍鈦,目前國內(nèi)模具最流行的是鍍鈦.

與其它單金屬相比，鍍鉻液的成分雖然簡單，但鍍鉻過程相當(dāng)復(fù)雜，并具有許多特點(diǎn)。

(1)在鍍鉻過程中，是由鉻的含氧酸即鉻酸來提供獲得鍍層所需的含鉻離子(其它單金屬電鍍都是由其自身鹽來提供金屬離子)，屬強(qiáng)酸性鍍液。在鉻酸鍍液中，陰極過程相當(dāng)復(fù)雜，陰極電流大部分都消耗在析出氫氣及六價(jià)鉻還原為三價(jià)鉻兩個(gè)副反應(yīng)上，故鍍鉻過程陰極電流效率極低，一般?=8%～18%。

(2)在鍍鉻液中，必須添加一定量的局外陰離子，如SO42－、SiF62－、F－等和必需有一定量的Cr3 ，離子才能實(shí)現(xiàn)金屬鉻的電沉積過程。

(3)鍍鉻需采用較高的陰極電流密度，又由于陰極及陽極之間存在大量的氫氣及氧氣，盡管鉻酸的導(dǎo)電性較好，仍需要采用大于12V的電源，而其他鍍種使用8V以下的電源即可。

(4)陽極不能用金屬鉻而是采用不溶性的鉛或鉛合金(Pb－Sb、Pb－Sn)。鍍液內(nèi)由于沉積出鉻及其它消耗，故鉻的補(bǔ)充要依賴于添加鉻酸來解決。

(5)鍍鉻液的分散能力及覆蓋能力都極差。欲獲得均勻的鉻層，必須采用人工措施，根據(jù)零件的幾何形狀而設(shè)計(jì)不同的象形陽極、防護(hù)陰極及輔助陽極。

(6)鍍鉻的操作溫度和陰極電流密度有一定的依賴關(guān)系，改變二者的關(guān)系可獲得不同性能的鉻鍍層。

鉻(Cr)是一種略帶藍(lán)的銀白色金屬，

相對原子質(zhì)量51.994，

密度6.98/cm3~7.219/cm3，

熔點(diǎn)1875℃~1920℃，

標(biāo)準(zhǔn)電極電位φ0Cr3 /Cr=－0.74V

φ0Cr3 /Cr2 =－0.41V

φ0Cr2O72-/Cr2 =1.33V

鉻是一種較活潑的金屬，但由于它在空氣中極易鈍化，其表面形成一層極薄的鈍化膜，從而顯示了貴金屬性質(zhì)

鍍鉻層具有很高的硬度，根據(jù)鍍鉻液成分及操作條件的不同，其硬度可在很大范圍(HV400~1200)內(nèi)調(diào)整。加熱溫度在500℃以下，對鍍鉻層的硬度沒有明顯影響。鉻鍍層的摩擦系數(shù)低，特別是干摩擦系數(shù)在所有金屬中是最低的，因此，鉻鍍層具有很好的耐磨性。

鉻鍍層在一般大氣條件下能長久地保持其原有的光澤而不變色，只有當(dāng)溫度在400℃～500℃時(shí)，才開始在表面呈現(xiàn)氧化色。

鉻鍍層具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性，堿、硫化物、硝酸和大多數(shù)有機(jī)酸對其均不發(fā)生作用，但能溶于氫鹵酸(如鹽酸)和熱的硫酸中。

在可見光范圍內(nèi)，鉻的反射能力約為65%介于銀(88%)和鎳(55%)之間，因鉻不易變色，使用時(shí)能長久地保持其反射能力而優(yōu)于銀和鎳。

1.鍍鉻層的組織和裂紋網(wǎng)的形成

鍍鉻層的結(jié)構(gòu)與其他鍍層不同，鍍層的結(jié)構(gòu)對其使用性能也有很大的影響，鍍層的結(jié)構(gòu)與性能可以通過適當(dāng)?shù)卣{(diào)整電鍍參數(shù)及鍍后處理來獲得。

鉻沉積的最初階段，即鉻層很薄時(shí)(<0.5/μm)有很多的孔隙。隨著厚度的增加?？紫冻叽绮粫淖儯t層會發(fā)生不規(guī)則的開裂，直至形成垂直于金屬表面的網(wǎng)狀裂紋。當(dāng)裂紋鉻層上逐漸被更多的鉻所覆蓋，則每一層鉻又會開裂，最后形成鉻層的網(wǎng)狀裂紋組織。厚的鉻層用肉眼觀察時(shí)，一般也是平滑光亮，然而在顯微鏡下觀察，其表面就顯示出大量的裂紋狀圓頂形突出物，裂紋中央帶形成陰極薄膜的各種化學(xué)成分，并且被新沉積的鉻鍍層所覆蓋。

鉻層網(wǎng)狀裂紋結(jié)構(gòu)的產(chǎn)生可解釋如下：在鉻在沉積過程中，總伴隨著氫的析出。所以，鉻沉積的初期，總是形成六方晶格的氫化鉻(Cr2H或CrH2)或者面心立方晶格CrH或CrH2。這種晶體組織是介穩(wěn)定的，只有當(dāng)晶粒尺寸較小時(shí)才能存在，一旦晶體尺寸到達(dá)某一臨界尺寸時(shí)，它將自發(fā)地轉(zhuǎn)變?yōu)楦臃€(wěn)定的體心立方晶格。從六方晶格到體心立方晶格的相變，體積縮小了大約15%。與此同時(shí)，不穩(wěn)定氫化鉻分解成金屬鉻和氫。、

只要基體金屬，特別是對氫敏感的鐵或鎳還未被鉻層覆蓋，那么氫就被基體金屬吸收，并滲入基體金屬內(nèi)部而產(chǎn)生內(nèi)應(yīng)力。在這種內(nèi)應(yīng)力和氫化鉻相變引起鉻層體積變化的共同作用下，使鉻層具有較大的內(nèi)應(yīng)力，并隨著鉻層厚度的增加而增加，有人測得2μm厚鉻層的拉應(yīng)力為13500MPa，壓應(yīng)力為2200MPa，一般鍍層拉應(yīng)力在0~240MPa。因此，當(dāng)鉻層的內(nèi)應(yīng)力最后超過鉻層的強(qiáng)度極限時(shí)就引起鉻層開裂，出現(xiàn)所謂鉻層組織的多孔性和裂紋網(wǎng)。2100433B